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Extract from the Register of European Patents

EP About this file: EP2211231

EP2211231 - Pellicle for photolithography [Right-click to bookmark this link]
Status	No opposition filed within time limit Status updated on 25.07.2014 Database last updated on 15.01.2025
Most recent event Tooltip	22.06.2018	Lapse of the patent in a contracting state New state(s): MK	published on 25.07.2018 [2018/30]
Applicant(s)	For all designated states Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 6-1, Ohtemachi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo / JP
	[2013/38]
Former [2010/30]	For all designated states Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 6-1 Ohtemachi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo / JP
Inventor(s)	01 / Nagata, Yoshihiko c/o Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 13-1, Isobe 2-chome Annaka-shi Gunma-ken Gunma / JP
	[2013/19]
Former [2010/30]	01 / Nagata, Yoshihiko c/o Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 13-1, Isobe 2-chome Annaka-shi Gunma-ken Gunma / JP
Representative(s)	Müller & Schubert Patentanwälte Innere Wiener Straße 13 81667 München / DE
	[2013/38]
Former [2010/30]	Müller & Schubert Patentanwälte Innere Wiener Straße 13 81667 München / DE
Application number, filing date	10151303.4	21.01.2010
	[2010/30]
Priority number, date	JP20090015390	27.01.2009 Original published format: JP 2009015390
	[2010/30]
Filing language	EN
Procedural language	EN
Publication	Type:	A2 Application without search report
	No.:	EP2211231
	Date:	28.07.2010
	Language:	EN
	[2010/30]
	Type:	A3 Search report
	No.:	EP2211231
	Date:	18.07.2012
	Language:	EN
	[2012/29]
	Type:	B1 Patent specification
	No.:	EP2211231
	Date:	18.09.2013
	Language:	EN
	[2013/38]
Search report(s)	(Supplementary) European search report - dispatched on:	EP	15.06.2012
Classification	IPC:	G03F1/64	[2012/29]
	CPC:	G03F1/64 (EP,KR,US); G03F7/70983 (KR); G03F1/62 (KR)
	Former IPC [2010/30]	G03F1/14
Designated contracting states	AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LI, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR [2010/30]
Title	German:	Pellikel für die Photolithographie	[2010/30]
	English:	Pellicle for photolithography	[2010/30]
	French:	Pellicule pour photolithographie	[2010/30]
Examination procedure	17.01.2013	Amendment by applicant (claims and/or description)
	17.01.2013	Examination requested [2013/09]
	11.04.2013	Communication of intention to grant the patent
	06.08.2013	Fee for grant paid
	06.08.2013	Fee for publishing/printing paid
Divisional application(s)	The date of the Examining Division's first communication in respect of the earliest application for which a communication has been issued is 11.04.2013
Opposition(s)	19.06.2014	No opposition filed within time limit [2014/35]
Fees paid	Renewal fee
	11.01.2012	Renewal fee patent year 03
	10.01.2013	Renewal fee patent year 04
Opt-out from the exclusive Tooltip competence of the Unified Patent Court	See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
	Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition Tooltip	HU	21.01.2010
	AT	18.09.2013
	BE	18.09.2013
	BG	18.09.2013
	CY	18.09.2013
	CZ	18.09.2013
	DK	18.09.2013
	EE	18.09.2013
	ES	18.09.2013
	FI	18.09.2013
	HR	18.09.2013
	LT	18.09.2013
	LV	18.09.2013
	MC	18.09.2013
	MK	18.09.2013
	MT	18.09.2013
	NL	18.09.2013
	PL	18.09.2013
	RO	18.09.2013
	SE	18.09.2013
	SI	18.09.2013
	SK	18.09.2013
	SM	18.09.2013
	TR	18.09.2013
	NO	18.12.2013
	GR	19.12.2013
	IS	18.01.2014
	PT	20.01.2014
	IE	21.01.2014
	LU	21.01.2014
	CH	31.01.2014
	FR	31.01.2014
	LI	31.01.2014
	[2018/30]
Former [2017/03]	HU	21.01.2010
	AT	18.09.2013
	BE	18.09.2013
	BG	18.09.2013
	CY	18.09.2013
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	DK	18.09.2013
	EE	18.09.2013
	ES	18.09.2013
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	NO	18.12.2013
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	PT	20.01.2014
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	LI	31.01.2014
Former [2016/36]	HU	21.01.2010
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Former [2014/38]	AT	18.09.2013
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