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EP About this file: EP2703519

EP2703519 - SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME [Right-click to bookmark this link]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  10.02.2017
Database last updated on 15.01.2025
Most recent event   Tooltip12.10.2018Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): AL		published on 14.11.2018  [2018/46]
Applicant(s)For all designated states
Mitsubishi Materials Corporation
3-2, Otemachi 1-chome Chiyoda-ku
Tokyo 100-8117 / JP
For all designated states
Solar Frontier K.K.
2-3-2, Daiba
Minato-ku
Tokyo 135-8074 / JP
[2015/16]
Former [2014/10]For all designated states
Mitsubishi Materials Corporation
3-2, Otemachi 1-chome Chiyoda-ku
Tokyo 100-8117 / JP
For all designated states
Showa Shell Sekiyu K. K.
Daiba Frontier Building 2-3-2 Daiba Minato-ku
Tokyo 135-8074 / JP
Inventor(s)01 / ZHANG, Shoubin
c/o MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
Sanda Plant
12-6 Techno-Park
Sanda-shi Hyogo 669-1339 / JP
02 / SHOJI, Masahiro
c/o MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
Sanda Plant
12-6 Techno-Park
Sanda-shi Hyogo 669-1339 / JP
 [2014/10]
Representative(s)Hoffmann Eitle
Patent- und Rechtsanwälte PartmbB
Arabellastraße 30
81925 München / DE
[2016/14]
Former [2014/10]HOFFMANN EITLE
Patent- und Rechtsanwälte
Arabellastrasse 4
81925 München / DE
Application number, filing date12777599.724.04.2012
[2016/14]
WO2012JP61516
Priority number, dateJP2011010258729.04.2011         Original published format: JP 2011102587
[2014/10]
Filing languageJA
Procedural languageEN
PublicationType: A1 Application with search report
No.:WO2012147985
Date:01.11.2012
Language:JA
[2012/44]
Type: A1 Application with search report 
No.:EP2703519
Date:05.03.2014
Language:EN
[2014/10]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP2703519
Date:06.04.2016
Language:EN
[2016/14]
Search report(s)International search report - published on:JP01.11.2012
(Supplementary) European search report - dispatched on:EP26.11.2014
ClassificationIPC:C23C14/34, C22C9/00, H01L31/04
[2014/10]
CPC:
B22F3/15 (EP,US); C23C14/34 (KR); H10F71/00 (US);
C22C1/0425 (EP,US); C22C9/00 (EP,KR,US); C23C14/3414 (EP,US);
H10F10/00 (KR); H10F77/126 (EP,US); B22F2999/00 (EP,US);
Y02E10/541 (EP,US); Y02P70/50 (EP,US) (-)
C-Set:
B22F2999/00, B22F3/10, B22F2201/01 (EP,US);
B22F2999/00, B22F3/10, B22F2201/10 (US,EP);
B22F2999/00, B22F3/10, B22F2201/20 (US,EP)
Designated contracting statesAL,   AT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   RS,   SE,   SI,   SK,   SM,   TR [2014/10]
Extension statesBANot yet paid
MENot yet paid
TitleGerman:SPUTTERTARGET UND HERSTELLUNGSVERFAHREN DAFÜR[2014/10]
English:SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME[2014/10]
French:CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION[2014/10]
Entry into regional phase25.10.2013Translation filed 
25.10.2013National basic fee paid 
25.10.2013Search fee paid 
25.10.2013Designation fee(s) paid 
25.10.2013Examination fee paid 
Examination procedure25.10.2013Examination requested  [2014/10]
26.10.2015Communication of intention to grant the patent
29.01.2016Fee for grant paid
29.01.2016Fee for publishing/printing paid
29.01.2016Receipt of the translation of the claim(s)
Divisional application(s)The date of the Examining Division's first communication in respect of the earliest application for which a communication has been issued is  26.10.2015
Opposition(s)10.01.2017No opposition filed within time limit [2017/11]
Fees paidRenewal fee
25.03.2014Renewal fee patent year 03
27.04.2015Renewal fee patent year 04
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court		 See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipHU24.04.2012
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