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EP0420595
Europäisches Verfahren
Auszug aus dem europäischen Patentregister
EP Übersicht: EP0420595
| EP0420595 - Herstellen von einer selektiv niedergeschlagenen Schicht mit Anwendung von Alkylaluminiumhydrid [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.] | |||
| Frühere [1991/14] | Herstellen von einer selektiv niedergeschlagenen Schicht mit Anwendung von Alkalimetallaluminiumhydrid | ||
| [1991/26] | Status | Kein Einspruch fristgerecht eingelegt Status aktualisiert am 07.03.1997 Datenbank zuletzt aktualisiert am 11.05.2024 | Letztes Ereignis Tooltip | 23.12.1999 | Erlöschen des Patents in einem Vertragsstaat Neue Staaten: GR, LU | veröffentlicht am 09.02.2000 [2000/06] | Anmelder | Für alle benannten Staaten CANON KABUSHIKI KAISHA 30-2, 3-chome, Shimomaruko, Ohta-ku Tokyo / JP | [N/P] |
| Frühere [1991/14] | Für alle benannten Staaten CANON KABUSHIKI KAISHA 30-2, 3-chome, Shimomaruko, Ohta-ku Tokyo / JP | Erfinder | 01 /
Mikoshiba, Nobuo 30-18, Yagiyamahon-cho 2-chome, Taihaku-ku Sendai-shi, Miyagi-ken / JP | 02 /
Tsubouchi, Kazuo 30-38, Hitokita 2-chome, Taihaku-ku Sendai-shi, Miyagi-ken / JP | 03 /
Masu, Kazuya 3-1-106, Mikamine 1-chome, Taihaku-ku Sendai-shi, Miyagi-ken / JP | [1991/14] | Vertreter | Beresford, Keith Denis Lewis, et al Beresford Crump LLP 16 High Holborn London WC1V 6BX / GB | [N/P] |
| Frühere [1991/14] | Beresford, Keith Denis Lewis, et al BERESFORD & Co. 2-5 Warwick Court High Holborn London WC1R 5DJ / GB | Anmeldenummer, Anmeldetag | 90310506.2 | 25.09.1990 | [1991/14] | Prioritätsnummer, Prioritätstag | JP19890250021 | 26.09.1989 Ursprünglich veröffentlichtes Format: JP 25002189 | JP19900036198 | 19.02.1990 Ursprünglich veröffentlichtes Format: JP 3619890 | [1991/14] | Anmeldesprache | EN | Verfahrenssprache | EN | Veröffentlichung | Art: | A2 Anmeldung ohne Recherchenbericht | Nr.: | EP0420595 | Datum: | 03.04.1991 | Sprache: | EN | [1991/14] | Art: | A3 Recherchenbericht | Nr.: | EP0420595 | Datum: | 11.09.1991 | Sprache: | EN | [1991/37] | Art: | B1 Patentschrift | Nr.: | EP0420595 | Datum: | 01.05.1996 | Sprache: | EN | [1996/18] | Recherchenbericht(e) | (Ergänzender) europäischer Recherchenbericht - versandt am: | EP | 22.07.1991 | Klassifikation | IPC: | H01L21/285, H01L21/3205, H01L21/768 | [1996/18] | CPC: |
H01L21/32051 (EP,US);
H01L21/283 (KR);
H01L21/28562 (EP,US);
H01L2924/0002 (EP,US)
| C-Set: |
H01L2924/0002, H01L2924/00 (EP,US)
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| Frühere IPC [1991/44] | H01L21/285, H01L21/3205, H01L21/90 | ||
| Frühere IPC [1991/14] | H01L21/285, H01L21/3205 | Benannte Vertragsstaaten | AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LI, LU, NL, SE [1991/14] | Bezeichnung der Erfindung | Deutsch: | Herstellen von einer selektiv niedergeschlagenen Schicht mit Anwendung von Alkylaluminiumhydrid | [1991/26] | Englisch: | Deposited film formation method utilizing selective deposition by use of alkyl aluminum hydride | [1991/14] | Französisch: | Formation d'un film déposé sélectivement utilisant de l'hydrure d'alkyl-aluminium double de métal | [1991/26] |
| Frühere [1991/14] | Herstellen von einer selektiv niedergeschlagenen Schicht mit Anwendung von Alkalimetallaluminiumhydrid | ||
| Frühere [1991/14] | Formation d'un film déposé sélectivement utilisant de l'hydrure double de métal alcalin et d'aluminium | Prüfungsverfahren | 31.12.1990 | Prüfungsantrag gestellt [1991/14] | 07.05.1993 | Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M06) | 17.11.1993 | Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung | 07.04.1994 | Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M06) | 18.11.1994 | Absendung der Mitteilung, wonach die Anmeldung als zurückgenommen gilt. Grund: Erwiderung auf die Mitteilung der Prüfungsabteilung nicht fristgerecht eingegangen | 16.12.1994 | Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung | 19.04.1995 | Absendung der Ankündigung der Erteilung (Einverständnis: Ja) | 28.08.1995 | Ankündigung der Patenterteilung | 02.11.1995 | Erteilungsgebühr entrichtet | 02.11.1995 | Veröffentlichungs-/Druckkostengebühr entrichtet | Einspruch (Einsprüche) | 04.02.1997 | Kein Einspruch fristgerecht eingelegt [1997/17] | Antrag auf Weiterbehandlung für: | 16.12.1994 | Antrag auf Weiterbehandlung gestellt | 16.12.1994 | Komplette Zahlung eingegangen (Datum des Zahlungseingangs) Antrag stattgegeben | 20.01.1995 | Entscheidung abgesandt | Entrichtete Gebühren | Jahresgebühr | 22.09.1992 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03 | 24.09.1993 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04 | 23.09.1994 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05 | 19.09.1995 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 06 |
| Ausschluss der ausschließlichen Tooltip Zuständigkeit des Einheitlichen Patentgerichts | Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts | ||
| Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht. | Erlöschen während des Einspruchsverfahrens Tooltip | AT | 01.05.1996 | BE | 01.05.1996 | CH | 01.05.1996 | DK | 01.05.1996 | GR | 01.05.1996 | LI | 01.05.1996 | SE | 01.08.1996 | LU | 30.09.1996 | [2000/04] |
| Frühere [1998/15] | AT | 01.05.1996 | |
| BE | 01.05.1996 | ||
| CH | 01.05.1996 | ||
| DK | 01.05.1996 | ||
| LI | 01.05.1996 | ||
| SE | 01.08.1996 | ||
| Frühere [1997/21] | AT | 01.05.1996 | |
| BE | 01.05.1996 | ||
| CH | 01.05.1996 | ||
| LI | 01.05.1996 | ||
| SE | 01.08.1996 | ||
| Frühere [1997/13] | AT | 01.05.1996 | |
| CH | 01.05.1996 | ||
| LI | 01.05.1996 | ||
| SE | 01.08.1996 | ||
| Frühere [1997/03] | AT | 01.05.1996 | |
| SE | 01.08.1996 | ||
| Frühere [1996/51] | SE | 01.08.1996 | Angeführte Dokumente: | Recherche | [A] - THIN SOLID FILMS. vol. 45, 1977, LAUSANNE CH pages 257 - 263; H.O. PIERSON: "ALUMINIUM COATINGS BY THE DECOMPOSITION OF ALKYLS" | [A] - JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. vol. 27, no. 8, August 1988, TOKYO JP pages 1392 - 1394; M. HANABUSHA ET.AL.: "PHOTOCHEMICAL VAPOUR DEPOSITION OF ALUMINIUM THIN FILMS USING DIMETHYLALUMINIUM HYDRIDE" |