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Extract from the Register of European Patents

EP About this file: EP1816519

EP1816519 - Novel sulfonium compound, photosensitive composition containing the compound and pattern-forming method using the photosensitive composition [Right-click to bookmark this link]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  09.09.2011
Database last updated on 15.06.2024
Most recent event   Tooltip04.10.2013Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): HU		published on 06.11.2013  [2013/45]
Applicant(s)For all designated states
FUJIFILM Corporation
26-30, Nishiazabu 2-chome
Minato-ku
Tokyo / JP
[N/P]
Former [2007/32]For all designated states
FUJIFILM Corporation
26-30, Nishiazabu 2-chome Minato-ku
Tokyo / JP
Inventor(s)01 / Kawanishi, Yasutomo
Fujifilm Corporation 4000 Kawashiri Yoshida-cho
Haibara-gun Shizuoka / JP
 [2007/32]
Representative(s)Hoffmann Eitle
Patent- und Rechtsanwälte PartmbB
Arabellastraße 30
81925 München / DE
[N/P]
Former [2007/32]HOFFMANN EITLE
Patent- und Rechtsanwälte Arabellastrasse 4
81925 München / DE
Application number, filing date07002532.506.02.2007
[2007/32]
Priority number, dateJP2006002987007.02.2006         Original published format: JP 2006029870
[2007/32]
Filing languageEN
Procedural languageEN
PublicationType: A1 Application with search report 
No.:EP1816519
Date:08.08.2007
Language:EN
[2007/32]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP1816519
Date:03.11.2010
Language:EN
[2010/44]
Search report(s)(Supplementary) European search report - dispatched on:EP17.04.2007
ClassificationIPC:G03F7/029, C07D333/76
[2007/32]
CPC:
C07D333/76 (EP,US); G03F7/0045 (EP,KR,US); G03F7/038 (KR);
G03F7/0382 (EP,KR,US); G03F7/0392 (EP,KR,US); G03F7/0397 (KR);
G03F7/11 (KR); G03F7/26 (KR); Y10S430/123 (EP,KR,US) (-)
Designated contracting statesAT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   NL,   PL,   PT,   RO,   SE,   SI,   SK,   TR [2007/32]
TitleGerman:Neue Sulfoniumverbindung, diese enthaltende lichtempfindliche Zusammensetzung und Strukturbildungsverfahren unter Verwendung der lichtempfindlichen Zusammensetzung[2007/32]
English:Novel sulfonium compound, photosensitive composition containing the compound and pattern-forming method using the photosensitive composition[2007/32]
French:Nouveau composant de sulfonium, composition photosensible comportant le composant et procédé de formation de motif utilisant la composition photosensible[2007/32]
Examination procedure13.11.2007Amendment by applicant (claims and/or description)
14.11.2007Examination requested  [2007/52]
13.02.2009Despatch of a communication from the examining division (Time limit: M04)
15.05.2009Reply to a communication from the examining division
04.06.2010Communication of intention to grant the patent
23.09.2010Fee for grant paid
23.09.2010Fee for publishing/printing paid
Opposition(s)04.08.2011No opposition filed within time limit [2011/41]
Fees paidRenewal fee
25.02.2009Renewal fee patent year 03
23.02.2010Renewal fee patent year 04
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court		 See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipAT03.11.2010
CY03.11.2010
CZ03.11.2010
DK03.11.2010
EE03.11.2010
FI03.11.2010
HU03.11.2010
IT03.11.2010
LT03.11.2010
LV03.11.2010
NL03.11.2010
PL03.11.2010
RO03.11.2010
SE03.11.2010
SI03.11.2010
SK03.11.2010
TR03.11.2010
BG03.02.2011
GR04.02.2011
GB06.02.2011
IE06.02.2011
LU06.02.2011
ES14.02.2011
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LI28.02.2011
MC28.02.2011
IS03.03.2011
PT03.03.2011
[2013/45]
Former [2013/44]AT03.11.2010
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CZ03.11.2010
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NL03.11.2010
PL03.11.2010
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SE03.11.2010
SI03.11.2010
SK03.11.2010
TR03.11.2010
BG03.02.2011
GR04.02.2011
GB06.02.2011
IE06.02.2011
LU06.02.2011
ES14.02.2011
CH28.02.2011
FR28.02.2011
LI28.02.2011
MC28.02.2011
IS03.03.2011
PT03.03.2011
Former [2013/26]AT03.11.2010
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CZ03.11.2010
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DK03.11.2010
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PT03.03.2011
Former [2011/38]AT03.11.2010
CZ03.11.2010
DK03.11.2010
EE03.11.2010
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PT03.03.2011
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CZ03.11.2010
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FI03.11.2010
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LV03.11.2010
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SE03.11.2010
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BG03.02.2011
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ES14.02.2011
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PT03.03.2011
Former [2011/30]AT03.11.2010
FI03.11.2010
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LV03.11.2010
NL03.11.2010
SE03.11.2010
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BG03.02.2011
GR04.02.2011
IS03.03.2011
PT03.03.2011
Former [2011/23]FI03.11.2010
LT03.11.2010
LV03.11.2010
IS03.03.2011
Former [2011/19]LT03.11.2010
Documents cited:Search[X]WO03008404  (LAMBERTI SPA [IT], et al) [X] 1,4,6 * page 1, line 4 - line 6; claims 6,7,11,12 ** page 13, line 26 - line 27 *;
 [X]US2004265733  (HOULIHAN FRANCIS M [US], et al) [X] 1-6 * paragraphs [0009] , [0010] , [0020] , [0021] , [0025] , [0030] , [0036] , [0042] - [0046]; examples 2,3; claims 1,6 *;
 [X]US2005064333  (CRIVELLO JAMES V [US]) [X] 1,4,6 * paragraph [0026]; claim 4 * * see also WO03/098347 *;
 [PX]EP1693705  (FUJI PHOTO FILM CO LTD [JP]) [PX] 1-6 * paragraph [0012]; compounds A74-A76,A83-A85,A106-A120 *
by applicantUS6680157
 EP1480078
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