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Extract from the Register of European Patents

EP About this file: EP2261739

EP2261739 - Method and apparatus for creating overlapping patterns on a substrate [Right-click to bookmark this link]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  10.04.2020
Database last updated on 08.06.2024
FormerThe patent has been granted
Status updated on  03.05.2019
FormerGrant of patent is intended
Status updated on  13.01.2019
Most recent event   Tooltip23.07.2021Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): MT		published on 25.08.2021  [2021/34]
Applicant(s)For all designated states
ASML Netherlands B.V.
De Run 6501
5504 DR Veldhoven / NL
[2019/23]
Former [2010/50]For all designated states
ASML Netherlands B.V.
De Run 6501
5504 DR Veldhoven / NL
Inventor(s)01 / Mos, Everhardus
Welvaartstraat 11
5684 ZJ Best / NL
02 / Van Der Schaar, Maurits
Zandeiland 6
5658 AK Eindhoven / NL
03 / Simons, Hubertus
Honingklaver 1
5913 DH Venlo / NL
 [2010/50]
Representative(s)van Os, Lodewijk Hubertus
ASML Netherlands B.V.
Corporate Intellectual Property
De Run 6501
P.O. Box 324
5500 AH Veldhoven / NL
[N/P]
Former [2019/23]van Os, Lodewijk Hubertus
ASML Netherlands B.V.
Corporate Intellectual Property
P.O. Box 324
5500 AH Veldhoven / NL
Former [2010/50]van Os, Lodewijk Hubertus
ASML Netherlands B.V. Corporate Intellectual Property P.O. Box 324
5500 AH Veldhoven / NL
Application number, filing date10171096.003.12.2007
[2010/50]
Priority number, dateUS2006060709801.12.2006         Original published format: US 607098
[2010/50]
Filing languageEN
Procedural languageEN
PublicationType: A2 Application without search report 
No.:EP2261739
Date:15.12.2010
Language:EN
[2010/50]
Type: A3 Search report 
No.:EP2261739
Date:30.01.2013
Language:EN
[2013/05]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP2261739
Date:05.06.2019
Language:EN
[2019/23]
Search report(s)(Supplementary) European search report - dispatched on:EP07.01.2013
ClassificationIPC:G03F7/20
[2010/50]
CPC:
G03F7/70725 (EP,US); G03F7/706 (KR); G03F7/70258 (EP,US);
G03F7/70358 (EP,US); G03F7/70458 (EP,US); G03F7/70491 (KR);
G03F7/70525 (EP,US); G03F7/70633 (EP,US); G03F7/70783 (EP,US) (-)
Designated contracting statesAT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MT,   NL,   PL,   PT,   RO,   SE,   SI,   SK,   TR [2019/23]
Former [2010/50]AT,  BE,  BG,  CH,  CY,  CZ,  DE,  DK,  EE,  ES,  FI,  FR,  GB,  GR,  HU,  IE,  IS,  IT,  LI,  LT,  LU,  LV,  MC,  MT,  NL,  PL,  PT,  RO,  SE,  SI,  SK,  TR 
TitleGerman:Verfahren und Apparat zur Erzeugung überlagerter Strukturen auf einem Substrat[2010/50]
English:Method and apparatus for creating overlapping patterns on a substrate[2010/50]
French:Procédé et dispositif pour la création de structures superposées sur un substrat[2010/50]
Examination procedure15.05.2013Amendment by applicant (claims and/or description)
15.05.2013Examination requested  [2013/26]
14.01.2019Communication of intention to grant the patent
18.04.2019Fee for grant paid
18.04.2019Fee for publishing/printing paid
18.04.2019Receipt of the translation of the claim(s)
Parent application(s)   TooltipEP07860862.7  / EP2132599
Divisional application(s)The date of the Examining Division's first communication in respect of the earliest application for which a communication has been issued (EP20070860862) is  07.05.2010
Opposition(s)06.03.2020No opposition filed within time limit [2020/20]
Fees paidRenewal fee
24.09.2010Renewal fee patent year 03
24.09.2010Renewal fee patent year 04
23.12.2011Renewal fee patent year 05
19.12.2012Renewal fee patent year 06
27.12.2013Renewal fee patent year 07
22.12.2014Renewal fee patent year 08
22.12.2015Renewal fee patent year 09
23.12.2016Renewal fee patent year 10
21.12.2017Renewal fee patent year 11
19.12.2018Renewal fee patent year 12
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court		 See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipHU03.12.2007
AT05.06.2019
CY05.06.2019
CZ05.06.2019
DK05.06.2019
EE05.06.2019
ES05.06.2019
FI05.06.2019
IT05.06.2019
LT05.06.2019
LV05.06.2019
MC05.06.2019
MT05.06.2019
NL05.06.2019
PL05.06.2019
RO05.06.2019
SE05.06.2019
SI05.06.2019
SK05.06.2019
TR05.06.2019
BG05.09.2019
GR06.09.2019
IS05.10.2019
PT07.10.2019
GB03.12.2019
IE03.12.2019
LU03.12.2019
BE31.12.2019
CH31.12.2019
LI31.12.2019
[2021/34]
Former [2021/33]HU03.12.2007
AT05.06.2019
CY05.06.2019
CZ05.06.2019
DK05.06.2019
EE05.06.2019
ES05.06.2019
FI05.06.2019
IT05.06.2019
LT05.06.2019
LV05.06.2019
MC05.06.2019
NL05.06.2019
PL05.06.2019
RO05.06.2019
SE05.06.2019
SI05.06.2019
SK05.06.2019
TR05.06.2019
BG05.09.2019
GR06.09.2019
IS05.10.2019
PT07.10.2019
GB03.12.2019
IE03.12.2019
LU03.12.2019
BE31.12.2019
CH31.12.2019
LI31.12.2019
Former [2021/26]AT05.06.2019
CY05.06.2019
CZ05.06.2019
DK05.06.2019
EE05.06.2019
ES05.06.2019
FI05.06.2019
IT05.06.2019
LT05.06.2019
LV05.06.2019
MC05.06.2019
NL05.06.2019
PL05.06.2019
RO05.06.2019
SE05.06.2019
SI05.06.2019
SK05.06.2019
TR05.06.2019
BG05.09.2019
GR06.09.2019
IS05.10.2019
PT07.10.2019
GB03.12.2019
IE03.12.2019
LU03.12.2019
BE31.12.2019
CH31.12.2019
LI31.12.2019
Former [2020/51]AT05.06.2019
CZ05.06.2019
DK05.06.2019
EE05.06.2019
ES05.06.2019
FI05.06.2019
IT05.06.2019
LT05.06.2019
LV05.06.2019
MC05.06.2019
NL05.06.2019
PL05.06.2019
RO05.06.2019
SE05.06.2019
SI05.06.2019
SK05.06.2019
TR05.06.2019
BG05.09.2019
GR06.09.2019
IS05.10.2019
PT07.10.2019
GB03.12.2019
IE03.12.2019
LU03.12.2019
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LI31.12.2019
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CZ05.06.2019
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EE05.06.2019
ES05.06.2019
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IT05.06.2019
LT05.06.2019
LV05.06.2019
MC05.06.2019
NL05.06.2019
PL05.06.2019
RO05.06.2019
SE05.06.2019
SI05.06.2019
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TR05.06.2019
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GR06.09.2019
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GB03.12.2019
IE03.12.2019
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Former [2020/46]AT05.06.2019
CZ05.06.2019
DK05.06.2019
EE05.06.2019
ES05.06.2019
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LV05.06.2019
MC05.06.2019
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PL05.06.2019
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EE05.06.2019
ES05.06.2019
FI05.06.2019
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LV05.06.2019
MC05.06.2019
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PL05.06.2019
RO05.06.2019
SE05.06.2019
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SK05.06.2019
TR05.06.2019
BG05.09.2019
GR06.09.2019
IS05.10.2019
PT07.10.2019
Former [2020/25]AT05.06.2019
CZ05.06.2019
DK05.06.2019
EE05.06.2019
ES05.06.2019
FI05.06.2019
IT05.06.2019
LT05.06.2019
LV05.06.2019
NL05.06.2019
PL05.06.2019
RO05.06.2019
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SI05.06.2019
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TR05.06.2019
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CZ05.06.2019
DK05.06.2019
EE05.06.2019
ES05.06.2019
FI05.06.2019
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LT05.06.2019
LV05.06.2019
NL05.06.2019
RO05.06.2019
SE05.06.2019
SK05.06.2019
TR05.06.2019
BG05.09.2019
GR06.09.2019
IS05.10.2019
PT07.10.2019
Former [2020/17]AT05.06.2019
CZ05.06.2019
EE05.06.2019
ES05.06.2019
FI05.06.2019
IT05.06.2019
LT05.06.2019
LV05.06.2019
NL05.06.2019
RO05.06.2019
SE05.06.2019
SK05.06.2019
TR05.06.2019
BG05.09.2019
GR06.09.2019
IS05.10.2019
PT07.10.2019
Former [2020/12]AT05.06.2019
CZ05.06.2019
EE05.06.2019
ES05.06.2019
FI05.06.2019
IT05.06.2019
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LV05.06.2019
NL05.06.2019
RO05.06.2019
SE05.06.2019
SK05.06.2019
BG05.09.2019
GR06.09.2019
IS05.10.2019
PT07.10.2019
Former [2020/11]AT05.06.2019
CZ05.06.2019
EE05.06.2019
ES05.06.2019
FI05.06.2019
LT05.06.2019
LV05.06.2019
NL05.06.2019
RO05.06.2019
SE05.06.2019
SK05.06.2019
BG05.09.2019
GR06.09.2019
PT07.10.2019
Former [2020/10]AT05.06.2019
CZ05.06.2019
ES05.06.2019
FI05.06.2019
LT05.06.2019
LV05.06.2019
NL05.06.2019
RO05.06.2019
SE05.06.2019
BG05.09.2019
GR06.09.2019
PT07.10.2019
Former [2020/09]CZ05.06.2019
ES05.06.2019
FI05.06.2019
LT05.06.2019
LV05.06.2019
NL05.06.2019
SE05.06.2019
BG05.09.2019
GR06.09.2019
Former [2020/07]ES05.06.2019
FI05.06.2019
LT05.06.2019
LV05.06.2019
NL05.06.2019
SE05.06.2019
BG05.09.2019
GR06.09.2019
Former [2019/51]ES05.06.2019
FI05.06.2019
LT05.06.2019
LV05.06.2019
SE05.06.2019
BG05.09.2019
GR06.09.2019
Former [2019/48]ES05.06.2019
FI05.06.2019
LT05.06.2019
SE05.06.2019
Former [2019/47]ES05.06.2019
FI05.06.2019
LT05.06.2019
Documents cited:Search[A]US6440612  (BAGGENSTOSS BILL [US]) [A] 1-16* column 1 - column 9, line 34; figures 2,4 *;
 [X]US2003035090  (IMAI YUJI [JP], et al) [X] 1-16 * the whole document *;
 [I]  - OMORI S ET AL, "Progress in proximity electron lithography: demonstration of print and overlay performance using the low-energy electron beam proximity-projection lithography [beta] tool", JOURNAL OF MICROLITHOGRAPHY, MICROFABRICATION, AND MICROSYSTEMS SPIE-INT. SOC. OPT. ENG USA, (200407), vol. 3, no. 3, ISSN 1537-1646, pages 402 - 412, XP002484755 [I] 1-5,13,14 * page 409, paragraph 4.1 - page 410, paragraph 4.3; figures 1,14; table 1 *

DOI:   http://dx.doi.org/10.1117/1.1759326
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