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EP About this file: EP2305788

EP2305788 - Cleaning composition, cleaning process, and process for producing semiconductor device [Right-click to bookmark this link]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  22.05.2015
Database last updated on 30.09.2024
Most recent event   Tooltip12.10.2018Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): AL		published on 14.11.2018  [2018/46]
Applicant(s)For all designated states
FUJIFILM Corporation
26-30, Nishiazabu 2-chome
Minato-ku
Tokyo / JP
[N/P]
Former [2011/14]For all designated states
FUJIFILM Corporation
26-30, Nishiazabu 2-chome Minato-ku
Tokyo / JP
Inventor(s)01 / Takahashi, Tomonori
c/o FUJIFILM Corporation
4000 Kawashiri Yoshida-ch
Shizuoka / JP
02 / Takahashi, Kazutaka
c/o FUJIFILM Corporation
4000 Kawashiri Yoshida-ch
Shizuoka / JP
03 / Mizutani, Atsushi
c/o FUJIFILM Corporation
4000 Kawashiri Yoshida-ch
Shizuoka / JP
04 / Seki, Hiroyuki
c/o FUJIFILM Corporation
4000 Kawashiri Yoshida-ch
Shizuoka / JP
05 / Fushimi, Hideo
c/o FUJIFILM Corporation
4000 Kawashiri Yoshida-ch
Shizuoka / JP
06 / Kato, Tomoo
c/o FUJIFILM Corporation
4000 Kawashiri Yoshida-ch
Shizuoka / JP
 [2014/29]
Former [2011/14]01 / Takahashi, Tomonori
c/o FUJIFILM Corporation 4000 Kawashiri Yoshida-ch
Shizuoka / JP
02 / Takahashi, Kazutaka
c/o FUJIFILM Corporation 4000 Kawashiri Yoshida-ch
Shizuoka / JP
03 / Mizutani, Atsushi
c/o FUJIFILM Corporation 4000 Kawashiri Yoshida-ch
Shizuoka / JP
04 / Seki, Hiroyuki
c/o FUJIFILM Corporation 4000 Kawashiri Yoshida-ch
Shizuoka / JP
05 / Fushimi, Hideo
c/o FUJIFILM Corporation 4000 Kawashiri Yoshida-ch
Shizuoka / JP
06 / Kato, Tomoo
c/o FUJIFILM Corporation 4000 Kawashiri Yoshida-ch
Shizuoka / JP
Representative(s)Hoffmann Eitle
Patent- und Rechtsanwälte PartmbB
Arabellastraße 30
81925 München / DE
[N/P]
Former [2014/29]HOFFMANN EITLE
Patent- und Rechtsanwälte
Arabellastrasse 4
81925 München / DE
Former [2011/14]HOFFMANN EITLE
Patent- und Rechtsanwälte Arabellastraße 4
81925 München / DE
Application number, filing date10177316.617.09.2010
[2011/14]
Priority number, dateJP2009022669830.09.2009         Original published format: JP 2009226698
JP2010011662320.05.2010         Original published format: JP 2010116623
[2011/14]
Filing languageEN
Procedural languageEN
PublicationType: A1 Application with search report 
No.:EP2305788
Date:06.04.2011
Language:EN
[2011/14]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP2305788
Date:16.07.2014
Language:EN
[2014/29]
Search report(s)(Supplementary) European search report - dispatched on:EP19.01.2011
ClassificationIPC:C11D11/00, C11D7/50, C11D7/08
[2011/14]
CPC:
C11D7/08 (EP,US); C11D1/835 (CN); G03F7/425 (US);
C09K13/00 (US); C09K13/06 (US); C11D3/0073 (CN);
C11D3/046 (CN); C11D3/048 (CN); C11D3/2044 (CN);
C11D3/2068 (CN); C11D3/28 (CN); C11D7/265 (US);
C11D7/3209 (US); C11D7/3245 (US); C11D7/34 (US);
C11D7/5013 (EP,US); G03F7/422 (US); G03F7/423 (US);
H01L21/02052 (US); H01L21/02057 (CN,US); H01L21/02063 (EP,US);
H01L21/02068 (US); H01L21/02071 (EP,US); H01L21/31133 (EP,US);
H01L21/32134 (US); H01L21/32136 (US); H01L21/32138 (EP,US);
H01L21/32139 (US); C11D1/08 (CN); C11D1/10 (CN);
C11D1/62 (CN); C11D1/721 (CN); C11D2111/22 (EP,CN,US) (-)
Designated contracting statesAL,   AT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   SE,   SI,   SK,   SM,   TR [2011/14]
TitleGerman:Reinigungszusammensetzung, Reinigungsverfahren und Herstellungsverfahren für eine Halbleitervorrichtung[2011/14]
English:Cleaning composition, cleaning process, and process for producing semiconductor device[2011/14]
French:Composition de nettoyage, procédé de nettoyage et procédé pour la production d'un dispositif semi-conducteur[2011/14]
Examination procedure04.10.2011Amendment by applicant (claims and/or description)
05.10.2011Examination requested  [2011/46]
24.01.2012Despatch of a communication from the examining division (Time limit: M04)
11.05.2012Reply to a communication from the examining division
18.02.2013Despatch of a communication from the examining division (Time limit: M04)
22.06.2013Reply to a communication from the examining division
20.02.2014Communication of intention to grant the patent
03.06.2014Fee for grant paid
03.06.2014Fee for publishing/printing paid
03.06.2014Receipt of the translation of the claim(s)
Divisional application(s)The date of the Examining Division's first communication in respect of the earliest application for which a communication has been issued is  24.01.2012
Opposition(s)17.04.2015No opposition filed within time limit [2015/26]
Fees paidRenewal fee
17.09.2012Renewal fee patent year 03
23.09.2013Renewal fee patent year 04
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court		 See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipHU17.09.2010
AL16.07.2014
AT16.07.2014
CY16.07.2014
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