blank Quick help
blank Maintenance news

Scheduled maintenance

Regular maintenance outages:
between 05.00 and 05.15 hrs CET (Monday to Sunday).

Other outages
Availability
Register Forum

2022.02.11

More...
blank News flashes

News Flashes

New version of the European Patent Register – SPC proceedings information in the Unitary Patent Register.

2024-07-24

More...
blank Related links

Release notes
European Patent Register Assistant
European Patent Register Resource Book
European Patent Register – pocket guide
FAQ - European Patent Register
FAQ - Register Alert
Federated Register (Flyer)
Global Dossier (Flyer)
Register events
Deep link coverage
Federated Register content
The Patent Information Tour
Fair use charter

Extract from the Register of European Patents

EP About this file: EP2360527

EP2360527 - Patterning process using EB or EUV lithography [Right-click to bookmark this link]
Former [2011/34]Chemically amplified positive resist composition for EB or EUV lithography and patterning process
[2017/14]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  29.06.2018
Database last updated on 26.07.2024
FormerThe patent has been granted
Status updated on  21.07.2017
FormerGrant of patent is intended
Status updated on  20.03.2017
Most recent event   Tooltip10.07.2020Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): AL		published on 12.08.2020  [2020/33]
Applicant(s)For all designated states
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
6-1, Otemachi 2-chome Chiyoda-ku
Tokyo / JP
[2011/34]
Inventor(s)01 / Masunaga, Keiichi
c/o New Functional Materials Research Center
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
28-1, Nishi Fukushima
Kubiki-ku, Joetsu-shi
Niigata-ken / JP
02 / Watanabe, Satoshi
c/o New Functional Materials Research Center
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
28-1, Nishi Fukushima
Kubiki-ku, Joetsu-shi
Niigata-ken / JP
03 / Tanaka, Akinobu
c/o New Functional Materials Research Center
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
28-1, Nishi Fukushima
Kubiki-ku, Joetsu-shi
Niigata-ken / JP
04 / Domon, Daisuke
c/o New Functional Materials Research Center
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
28-1, Nishi Fukushima
Kubiki-ku, Joetsu-shi
Niigata-ken / JP
 [2017/34]
Former [2011/34]01 / Masunaga, Keiichi
c/o New Functional Materials Research Center Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 28-1, Nishi Fukushima Kubiki-ku Joetsu-shi
Niigata-ken / JP
02 / Watanabe, Satoshi
c/o New Functional Materials Research Center Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 28-1, Nishi Fukushima Kubiki-ku Joetsu-shi
Niigata-ken / JP
03 / Tanaka, Akinobu
c/o New Functional Materials Research Center Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 28-1, Nishi Fukushima Kubiki-ku Joetsu-shi
Niigata-ken / JP
04 / Domon, Daisuke
c/o New Functional Materials Research Center Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 28-1, Nishi Fukushima Kubiki-ku Joetsu-shi
Niigata-ken / JP
Representative(s)Ter Meer Steinmeister & Partner
Patentanwälte mbB
Nymphenburger Straße 4
80335 München / DE
[2017/34]
Former [2013/20]Ter Meer Steinmeister & Partner
Patentanwälte
Mauerkircherstrasse 45
81679 München / DE
Former [2011/34]TER MEER - STEINMEISTER & PARTNER GbR
Patentanwälte Mauerkircherstrasse 45
81679 München / DE
Application number, filing date11001082.410.02.2011
[2011/34]
Priority number, dateJP2010003103016.02.2010         Original published format: JP 2010031030
[2011/34]
Filing languageEN
Procedural languageEN
PublicationType: A1 Application with search report 
No.:EP2360527
Date:24.08.2011
Language:EN
[2011/34]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP2360527
Date:23.08.2017
Language:EN
[2017/34]
Search report(s)(Supplementary) European search report - dispatched on:EP08.07.2011
ClassificationIPC:G03F7/039
[2011/34]
CPC:
G03F7/0392 (EP,KR,US); G03F7/004 (KR); G03F7/0045 (KR);
G03F7/0395 (EP,KR,US); G03F7/0397 (EP,KR,US); H01L21/027 (KR);
H01L21/0271 (KR); Y02P20/55 (EP) (-)
Designated contracting statesAL,   AT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   RS,   SE,   SI,   SK,   SM,   TR [2017/34]
Former [2011/34]AL,  AT,  BE,  BG,  CH,  CY,  CZ,  DE,  DK,  EE,  ES,  FI,  FR,  GB,  GR,  HR,  HU,  IE,  IS,  IT,  LI,  LT,  LU,  LV,  MC,  MK,  MT,  NL,  NO,  PL,  PT,  RO,  RS,  SE,  SI,  SK,  SM,  TR 
TitleGerman:Strukturierungsverfahren mittels EB- oder EUV-Lithographie[2017/14]
English:Patterning process using EB or EUV lithography[2017/14]
French:Procédé de formation de motifs utilisant la lithographie par faisceau d'électrons ou par EUV[2017/14]
Former [2011/34]Chemisch verstärkte positive Harzzusammensetzung für EB- oder EUV-Lithographie und Strukturierungsverfahren
Former [2011/34]Chemically amplified positive resist composition for EB or EUV lithography and patterning process
Former [2011/34]Composition positive de réserve chimiquement amplifiée pour la lithographie par faisceau d'électrons ou EUV et procédé de formation de motifs
Examination procedure03.01.2012Amendment by applicant (claims and/or description)
03.01.2012Examination requested  [2012/07]
12.12.2014Despatch of a communication from the examining division (Time limit: M04)
17.04.2015Reply to a communication from the examining division
23.05.2016Despatch of a communication from the examining division (Time limit: M04)
22.07.2016Reply to a communication from the examining division
21.03.2017Communication of intention to grant the patent
11.07.2017Fee for grant paid
11.07.2017Fee for publishing/printing paid
11.07.2017Receipt of the translation of the claim(s)
Divisional application(s)The date of the Examining Division's first communication in respect of the earliest application for which a communication has been issued is  12.12.2014
Opposition(s)24.05.2018No opposition filed within time limit [2018/31]
Fees paidRenewal fee
12.02.2013Renewal fee patent year 03
12.02.2014Renewal fee patent year 04
11.02.2015Renewal fee patent year 05
10.02.2016Renewal fee patent year 06
10.02.2017Renewal fee patent year 07
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court		 See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipHU10.02.2011
AL23.08.2017
AT23.08.2017
CY23.08.2017
CZ23.08.2017
DK23.08.2017
EE23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
LT23.08.2017
LV23.08.2017
MC23.08.2017
MK23.08.2017
NL23.08.2017
PL23.08.2017
PT23.08.2017
RO23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
SI23.08.2017
SK23.08.2017
SM23.08.2017
TR23.08.2017
BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
GB10.02.2018
IE10.02.2018
LU10.02.2018
MT10.02.2018
BE28.02.2018
CH28.02.2018
FR28.02.2018
LI28.02.2018
[2020/33]
Former [2020/31]HU10.02.2011
AT23.08.2017
CY23.08.2017
CZ23.08.2017
DK23.08.2017
EE23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
LT23.08.2017
LV23.08.2017
MC23.08.2017
MK23.08.2017
NL23.08.2017
PL23.08.2017
PT23.08.2017
RO23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
SI23.08.2017
SK23.08.2017
SM23.08.2017
TR23.08.2017
BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
GB10.02.2018
IE10.02.2018
LU10.02.2018
MT10.02.2018
BE28.02.2018
CH28.02.2018
FR28.02.2018
LI28.02.2018
Former [2020/27]HU10.02.2011
AT23.08.2017
CZ23.08.2017
DK23.08.2017
EE23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
LT23.08.2017
LV23.08.2017
MC23.08.2017
NL23.08.2017
PL23.08.2017
PT23.08.2017
RO23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
SI23.08.2017
SK23.08.2017
SM23.08.2017
TR23.08.2017
BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
GB10.02.2018
IE10.02.2018
LU10.02.2018
MT10.02.2018
BE28.02.2018
CH28.02.2018
FR28.02.2018
LI28.02.2018
Former [2020/16]AT23.08.2017
CZ23.08.2017
DK23.08.2017
EE23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
LT23.08.2017
LV23.08.2017
MC23.08.2017
NL23.08.2017
PL23.08.2017
RO23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
SI23.08.2017
SK23.08.2017
SM23.08.2017
TR23.08.2017
BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
GB10.02.2018
IE10.02.2018
LU10.02.2018
MT10.02.2018
BE28.02.2018
CH28.02.2018
FR28.02.2018
LI28.02.2018
Former [2020/08]AT23.08.2017
CZ23.08.2017
DK23.08.2017
EE23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
LT23.08.2017
LV23.08.2017
MC23.08.2017
NL23.08.2017
PL23.08.2017
RO23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
SI23.08.2017
SK23.08.2017
SM23.08.2017
BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
GB10.02.2018
IE10.02.2018
LU10.02.2018
MT10.02.2018
BE28.02.2018
CH28.02.2018
FR28.02.2018
LI28.02.2018
Former [2019/12]AT23.08.2017
CZ23.08.2017
DK23.08.2017
EE23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
LT23.08.2017
LV23.08.2017
MC23.08.2017
NL23.08.2017
PL23.08.2017
RO23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
SI23.08.2017
SK23.08.2017
SM23.08.2017
BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
GB10.02.2018
IE10.02.2018
LU10.02.2018
BE28.02.2018
CH28.02.2018
FR28.02.2018
LI28.02.2018
Former [2019/09]AT23.08.2017
CZ23.08.2017
DK23.08.2017
EE23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
LT23.08.2017
LV23.08.2017
MC23.08.2017
NL23.08.2017
PL23.08.2017
RO23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
SI23.08.2017
SK23.08.2017
SM23.08.2017
BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
IE10.02.2018
LU10.02.2018
CH28.02.2018
LI28.02.2018
Former [2018/52]AT23.08.2017
CZ23.08.2017
DK23.08.2017
EE23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
LT23.08.2017
LV23.08.2017
MC23.08.2017
NL23.08.2017
PL23.08.2017
RO23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
SI23.08.2017
SK23.08.2017
SM23.08.2017
BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
LU10.02.2018
CH28.02.2018
LI28.02.2018
Former [2018/44]AT23.08.2017
CZ23.08.2017
DK23.08.2017
EE23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
LT23.08.2017
LV23.08.2017
MC23.08.2017
NL23.08.2017
PL23.08.2017
RO23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
SI23.08.2017
SK23.08.2017
SM23.08.2017
BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
Former [2018/39]AT23.08.2017
CZ23.08.2017
DK23.08.2017
EE23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
LT23.08.2017
LV23.08.2017
NL23.08.2017
PL23.08.2017
RO23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
SI23.08.2017
SK23.08.2017
SM23.08.2017
BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
Former [2018/25]AT23.08.2017
CZ23.08.2017
DK23.08.2017
EE23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
LT23.08.2017
LV23.08.2017
NL23.08.2017
PL23.08.2017
RO23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
SK23.08.2017
SM23.08.2017
BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
Former [2018/23]AT23.08.2017
CZ23.08.2017
DK23.08.2017
EE23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
LT23.08.2017
LV23.08.2017
NL23.08.2017
PL23.08.2017
RO23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
SK23.08.2017
BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
Former [2018/21]AT23.08.2017
CZ23.08.2017
DK23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
LT23.08.2017
LV23.08.2017
NL23.08.2017
PL23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
Former [2018/12]AT23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
LT23.08.2017
LV23.08.2017
NL23.08.2017
PL23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
Former [2018/11]AT23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
LT23.08.2017
NL23.08.2017
PL23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
Former [2018/10]AT23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
LT23.08.2017
NL23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
NO23.11.2017
Former [2018/09]FI23.08.2017
LT23.08.2017
NL23.08.2017
SE23.08.2017
NO23.11.2017
Former [2018/08]FI23.08.2017
LT23.08.2017
NL23.08.2017
NO23.11.2017
Former [2018/07]LT23.08.2017
NO23.11.2017
Documents cited:Search[X]US5939242  (TANG QIAN [CH], et al) [X] 1,2,5-7 * column 1, line 51 - column 2, line 62 * * column 7, line 31 - line 64 * * column 8, line 33 * * column 15, line 30 - line 55; example II.16 to II.17; claims 1-3,13 *;
 [X]US6242153  (SATO KENICHIRO [JP], et al) [X] 1,2 * column col 38, line 21 - line 32; claims 1-7; compounds II-A-1 to II-J-6 * * column 58, line 55 - column 59, line 5; examples 1-4 *;
 [X]EP1698937  (FUJI PHOTO FILM CO LTD [JP]) [X] 1,2 * paragraphs [0029] , [0033] , [0041] , [0072] , [0318]; examples 1-3, 13,18; claims 1,2,4; compounds (1) to (3), (15), (20) *;
 [A]EP1775632  (THINK LABS KK [JP]) [A] 1-7* paragraphs [0001] , [0155] - [0169]; examples 22,23; claim 1 *;
 [XD]JP2008133312  (MITSUBISHI RAYON CO) [XD] 1-7 * paragraphs [0009] , [0017] , [0018] , [0021] , [0051] - [0057] - [0071] - [0099] - [0142] - [0177] - [0221] , [0243] - [0256] - [0263]; examples 1-10; claims 1,3,4; tables 5,6 *;
 [A]US2009317739  (THIYAGARAJAN MUTHIAH [US], et al) [A] 1-7 * paragraphs [0007] , [0008] , [0011]; example 1 to 7b; claims 1-20 *
by applicantJPH07319155
 JP2004115630
 JP2005008766
 JP2007114728
 JP2008095009
 JP2008102383
 JP2008133312
 JP2009086310
 JP2009263487
The EPO accepts no responsibility for the accuracy of data originating from other authorities; in particular, it does not guarantee that it is complete, up to date or fit for specific purposes.