blank Quick help
blank Maintenance news

Scheduled maintenance

Regular maintenance outages:
between 05.00 and 05.15 hrs CET (Monday to Sunday).

Other outages
Availability
Register Forum

2022.02.11

More...
blank News flashes

News Flashes

New version of the European Patent Register – SPC proceedings information in the Unitary Patent Register.

2024-07-24

More...
blank Related links

Release notes
European Patent Register Assistant
European Patent Register Resource Book
European Patent Register – pocket guide
FAQ - European Patent Register
FAQ - Register Alert
Federated Register (Flyer)
Global Dossier (Flyer)
Register events
Deep link coverage
Federated Register content
The Patent Information Tour
Fair use charter

Extract from the Register of European Patents

EP About this file: EP2834625

EP2834625 - DETERMINATION OF THE CONCENTRATION OF INTERSTITIAL OXYGEN IN A SEMICONDUCTOR SAMPLE [Right-click to bookmark this link]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  30.08.2019
Database last updated on 31.08.2024
FormerThe patent has been granted
Status updated on  21.09.2018
FormerGrant of patent is intended
Status updated on  27.05.2018
Most recent event   Tooltip01.07.2022Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): MK		published on 03.08.2022  [2022/31]
Applicant(s)For all designated states
Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
Bâtiment le Ponant D
25 rue Leblanc
75015 Paris / FR
[2015/07]
Inventor(s)01 / VEIRMAN Jordi
c/o Veirman Brigitte
314 rue des Genévriers
FR-74330 Poisy / FR
02 / DUBOIS Sébastien
40 rue du Bargy
FR-74950 Scionzier / FR
03 / ENJALBERT Nicolas
30 route de Castres
FR-81 100 Burlats / FR
 [2015/07]
Representative(s)Talbot, Alexandre
Cabinet Hecké
28 Cours Jean Jaurès
38000 Grenoble / FR
[2018/43]
Former [2015/07]Talbot, Alexandre
Cabinet Hecké
Europole
10, rue d'Arménie - BP 1537
38025 Grenoble Cedex 1 / FR
Application number, filing date13722478.805.04.2013
[2018/43]
WO2013FR00090
Priority number, dateFR2012000104506.04.2012         Original published format: FR 1201045
[2015/07]
Filing languageFR
Procedural languageFR
PublicationType: A1 Application with search report
No.:WO2013150194
Date:10.10.2013
Language:FR
[2013/41]
Type: A1 Application with search report 
No.:EP2834625
Date:11.02.2015
Language:FR
The application published by WIPO in one of the EPO official languages on 10.10.2013 takes the place of the publication of the European patent application.
[2015/07]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP2834625
Date:24.10.2018
Language:FR
[2018/43]
Search report(s)International search report - published on:EP10.10.2013
ClassificationIPC:G01N25/00, G01R31/28, H01L21/66
[2015/07]
CPC:
H01L22/14 (EP,US); G01N27/041 (US); G01N27/125 (US);
G01N33/0095 (EP,US); H01L22/12 (US)
Designated contracting statesAL,   AT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   RS,   SE,   SI,   SK,   SM,   TR [2015/07]
Extension statesBANot yet paid
MENot yet paid
TitleGerman:BESTIMMUNG DER KONZENTRATION VON INTERSTITIELLEM SAUERSTOFF IN EINER HALBLEITERPROBE[2015/07]
English:DETERMINATION OF THE CONCENTRATION OF INTERSTITIAL OXYGEN IN A SEMICONDUCTOR SAMPLE[2015/07]
French:DETERMINATION DE LA CONCENTRATION EN OXYGENE INTERSTITIEL DANS UN ECHANTILLON SEMI-CONDUCTEUR[2015/07]
Entry into regional phase03.11.2014National basic fee paid 
03.11.2014Designation fee(s) paid 
03.11.2014Examination fee paid 
Examination procedure03.11.2014Examination requested  [2015/07]
08.07.2015Amendment by applicant (claims and/or description)
28.05.2018Communication of intention to grant the patent
12.09.2018Fee for grant paid
12.09.2018Fee for publishing/printing paid
12.09.2018Receipt of the translation of the claim(s)
Divisional application(s)The date of the Examining Division's first communication in respect of the earliest application for which a communication has been issued is  28.05.2018
Opposition(s)25.07.2019No opposition filed within time limit [2019/40]
Fees paidRenewal fee
26.03.2015Renewal fee patent year 03
29.03.2016Renewal fee patent year 04
30.03.2017Renewal fee patent year 05
28.03.2018Renewal fee patent year 06
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court		 See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipHU05.04.2013
AL24.10.2018
AT24.10.2018
CY24.10.2018
CZ24.10.2018
DK24.10.2018
EE24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
IT24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
MC24.10.2018
MK24.10.2018
MT24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
RO24.10.2018
RS24.10.2018
SE24.10.2018
SI24.10.2018
SK24.10.2018
SM24.10.2018
TR24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
PT24.02.2019
GB05.04.2019
IE05.04.2019
LU05.04.2019
BE30.04.2019
CH30.04.2019
LI30.04.2019
[2022/31]
Former [2021/34]HU05.04.2013
AL24.10.2018
AT24.10.2018
CY24.10.2018
CZ24.10.2018
DK24.10.2018
EE24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
IT24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
MC24.10.2018
MT24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
RO24.10.2018
RS24.10.2018
SE24.10.2018
SI24.10.2018
SK24.10.2018
SM24.10.2018
TR24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
PT24.02.2019
GB05.04.2019
IE05.04.2019
LU05.04.2019
BE30.04.2019
CH30.04.2019
LI30.04.2019
Former [2021/32]HU05.04.2013
AL24.10.2018
AT24.10.2018
CY24.10.2018
CZ24.10.2018
DK24.10.2018
EE24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
IT24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
MC24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
RO24.10.2018
RS24.10.2018
SE24.10.2018
SI24.10.2018
SK24.10.2018
SM24.10.2018
TR24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
PT24.02.2019
GB05.04.2019
IE05.04.2019
LU05.04.2019
BE30.04.2019
CH30.04.2019
LI30.04.2019
Former [2021/26]AL24.10.2018
AT24.10.2018
CY24.10.2018
CZ24.10.2018
DK24.10.2018
EE24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
IT24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
MC24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
RO24.10.2018
RS24.10.2018
SE24.10.2018
SI24.10.2018
SK24.10.2018
SM24.10.2018
TR24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
PT24.02.2019
GB05.04.2019
IE05.04.2019
LU05.04.2019
BE30.04.2019
CH30.04.2019
LI30.04.2019
Former [2020/21]AL24.10.2018
AT24.10.2018
CZ24.10.2018
DK24.10.2018
EE24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
IT24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
MC24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
RO24.10.2018
RS24.10.2018
SE24.10.2018
SI24.10.2018
SK24.10.2018
SM24.10.2018
TR24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
PT24.02.2019
GB05.04.2019
IE05.04.2019
LU05.04.2019
BE30.04.2019
CH30.04.2019
LI30.04.2019
Former [2020/17]AL24.10.2018
AT24.10.2018
CZ24.10.2018
DK24.10.2018
EE24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
IT24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
MC24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
RO24.10.2018
RS24.10.2018
SE24.10.2018
SI24.10.2018
SK24.10.2018
SM24.10.2018
TR24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
PT24.02.2019
GB05.04.2019
LU05.04.2019
BE30.04.2019
CH30.04.2019
LI30.04.2019
Former [2020/11]AL24.10.2018
AT24.10.2018
CZ24.10.2018
DK24.10.2018
EE24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
IT24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
MC24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
RO24.10.2018
RS24.10.2018
SE24.10.2018
SI24.10.2018
SK24.10.2018
SM24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
PT24.02.2019
GB05.04.2019
LU05.04.2019
BE30.04.2019
CH30.04.2019
LI30.04.2019
Former [2020/04]AL24.10.2018
AT24.10.2018
CZ24.10.2018
DK24.10.2018
EE24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
IT24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
MC24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
RO24.10.2018
RS24.10.2018
SE24.10.2018
SI24.10.2018
SK24.10.2018
SM24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
PT24.02.2019
LU05.04.2019
Former [2020/02]AL24.10.2018
AT24.10.2018
CZ24.10.2018
DK24.10.2018
EE24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
IT24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
MC24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
RO24.10.2018
RS24.10.2018
SE24.10.2018
SI24.10.2018
SK24.10.2018
SM24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
PT24.02.2019
Former [2019/50]AL24.10.2018
AT24.10.2018
CZ24.10.2018
DK24.10.2018
EE24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
IT24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
RO24.10.2018
RS24.10.2018
SE24.10.2018
SI24.10.2018
SK24.10.2018
SM24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
PT24.02.2019
Former [2019/40]AL24.10.2018
AT24.10.2018
CZ24.10.2018
DK24.10.2018
EE24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
IT24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
RO24.10.2018
RS24.10.2018
SE24.10.2018
SK24.10.2018
SM24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
PT24.02.2019
Former [2019/37]AL24.10.2018
AT24.10.2018
CZ24.10.2018
DK24.10.2018
EE24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
IT24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
RO24.10.2018
RS24.10.2018
SE24.10.2018
SM24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
PT24.02.2019
Former [2019/35]AL24.10.2018
AT24.10.2018
CZ24.10.2018
DK24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
IT24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
RS24.10.2018
SE24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
PT24.02.2019
Former [2019/34]AL24.10.2018
AT24.10.2018
DK24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
IT24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
RS24.10.2018
SE24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
PT24.02.2019
Former [2019/26]AL24.10.2018
AT24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
RS24.10.2018
SE24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
PT24.02.2019
Former [2019/25]AT24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
RS24.10.2018
SE24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
Former [2019/24]AT24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
SE24.10.2018
BG24.01.2019
GR25.01.2019
IS24.02.2019
Former [2019/23]AT24.10.2018
ES24.10.2018
FI24.10.2018
HR24.10.2018
LT24.10.2018
LV24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
BG24.01.2019
IS24.02.2019
Former [2019/22]FI24.10.2018
LT24.10.2018
NL24.10.2018
PL24.10.2018
BG24.01.2019
IS24.02.2019
Former [2019/21]FI24.10.2018
LT24.10.2018
NL24.10.2018
IS24.02.2019
Former [2019/20]LT24.10.2018
NL24.10.2018
Former [2019/17]NL24.10.2018
Cited inInternational search[X]  - SIMOEN E ET AL, "Characterisation of oxygen and oxygen-related defects in highly- and lowly-doped silicon", MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B, ELSEVIER SEQUOIA, LAUSANNE, CH, (20030915), vol. 102, no. 1-3, doi:10.1016/S0921-5107(02)00706-7, ISSN 0921-5107, pages 207 - 212, XP004450731 [X] 1,7-9 * paragraph [1.Introduction] * * page 208, column l, paragraph l * * page 211, line 3 - page 212, line 2 *

DOI:   http://dx.doi.org/10.1016/S0921-5107(02)00706-7
 [YD]  - ULYASHIN A G ET AL, "Characterization of the oxygen distribution in Czochralski silicon using hydrogen-enhanced thermal donor formation", MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B, ELSEVIER SEQUOIA, LAUSANNE, CH, (20000401), vol. 73, no. 1-3, doi:10.1016/S0921-5107(99)00447-X, ISSN 0921-5107, pages 124 - 129, XP004192033 [YD] 1-9 * paragraph [1.Introduction] *

DOI:   http://dx.doi.org/10.1016/S0921-5107(99)00447-X
 [Y]  - SASSELLA A ET AL, "Influence of oxygen precipitation on the measure of interstitial oxygen concentration in silicon from the 1207 cm-1 infrared absorption band", JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, AMERICAN INSTITUTE OF PHYSICS. NEW YORK, US, (20020101), vol. 91, no. 1, doi:10.1063/1.1423393, ISSN 0021-8979, pages 166 - 170, XP012054470 [Y] 1-9 * paragraph [I.Introduction] * * paragraph [II:Experiment] *

DOI:   http://dx.doi.org/10.1063/1.1423393
 [Y]  - SAITO H ET AL, "Determination of Interstitial Oxgen Concentration in Oxygen-Precipitated Silicon Wafers by Low-Temperature High-Resolution Infrared Spectroscopy", JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, THE JAPAN SOCIETY OF APPLIED PHYSICS, JAPAN SOCIETY OF APPLIED PHYSICS, TOKYO; JP, (19950901), vol. 34, no. 9A, PART 02, doi:10.1143/JJAP.34.L1097, ISSN 0021-4922, pages L1097 - L1099, XP002115943 [Y] 1-9 * page L 1097 *

DOI:   http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.34.L1097
ExaminationEP2697632
by applicantFR2964459
    - A.G. ULYASHIN ET AL., MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING, (2000), vol. B73, pages 124 - 129
    - E. SIMOEN ET AL., MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING, (2003), vol. B102, pages 207 - 212
    - WIJARANAKULA C.A. ET AL., "Formation kinetics of oxygen thermal donors in silicon", APPL. PHYS. LETT., (1991), vol. 59, no. 13, doi:doi:10.1063/1.106245, page 1608, XP055114038

DOI:   http://dx.doi.org/10.1063/1.106245
    - LONDOS C.A ET AL., "Effect of oxygen concentration on the kinetics of thermal donor formation in silicon at temperatures between 350 and 500 °C", APPL. PHYS. LETT., (1993), vol. 62, no. 13, doi:doi:10.1063/1.108628, page 1525, XP002402566

DOI:   http://dx.doi.org/10.1063/1.108628
The EPO accepts no responsibility for the accuracy of data originating from other authorities; in particular, it does not guarantee that it is complete, up to date or fit for specific purposes.