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Extract from the Register of European Patents

EP About this file: EP3054031

EP3054031 - METHOD FOR PRODUCING NICKEL THIN FILM ON Si SUBSTRATE BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING Ni SILICIDE THIN FILM ON Si SUBSTRATE [Right-click to bookmark this link]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  06.12.2019
Database last updated on 08.10.2024
FormerThe patent has been granted
Status updated on  30.12.2018
FormerGrant of patent is intended
Status updated on  08.08.2018
Most recent event   Tooltip01.07.2022Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): MK		published on 03.08.2022  [2022/31]
Applicant(s)For all designated states
Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K.
7-3, Marunouchi 2-chome Chiyoda-ku
Tokyo 100-6422 / JP
[2016/32]
Inventor(s)01 / NABEYA, Shunichi
c/o TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K.
Tsukuba Technical Center
22 Wadai
Tsukuba-shi Ibaraki 300-4247 / JP
02 / HARADA, Ryosuke
c/o TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K.
Tsukuba Technical Center
22 Wadai
Tsukuba-shi Ibaraki 300-4247 / JP
03 / SUZUKI, Kazuharu
c/o TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K.
Tsukuba Technical Center
22 Wadai
Tsukuba-shi Ibaraki 300-4247 / JP
04 / SONE, Takayuki
c/o TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K.
Tsukuba Technical Center
22 Wadai
Tsukuba-shi Ibaraki 300-4247 / JP
05 / YOKOO, Michihiro
c/o TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K.
Tsukuba Technical Center
22 Wadai
Tsukuba-shi Ibaraki 300-4247 / JP
 [2016/32]
Representative(s)Boult Wade Tennant LLP
Salisbury Square House
8 Salisbury Square
London EC4Y 8AP / GB
[N/P]
Former [2019/05]Boult Wade Tennant LLP
Verulam Gardens
70 Gray's Inn Road
London WC1X 8BT / GB
Former [2016/32]Boult Wade Tennant
Verulam Gardens
70 Gray's Inn Road
London WC1X 8BT / GB
Application number, filing date14851079.518.09.2014
[2016/32]
WO2014JP74628
Priority number, dateJP2013020766902.10.2013         Original published format: JP 2013207669
[2016/32]
Filing languageJA
Procedural languageEN
PublicationType: A1 Application with search report
No.:WO2015049989
Date:09.04.2015
Language:JA
[2015/14]
Type: A1 Application with search report 
No.:EP3054031
Date:10.08.2016
Language:EN
[2016/32]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP3054031
Date:30.01.2019
Language:EN
[2019/05]
Search report(s)International search report - published on:JP09.04.2015
(Supplementary) European search report - dispatched on:EP10.05.2017
ClassificationIPC:C23C16/18, C07C13/15, C07C13/20, C23C16/56, H01L21/28, H01L21/285, C07F15/04, C23C16/42
[2017/23]
CPC:
H01L21/28518 (EP,KR,US); C23C16/18 (EP,KR,US); C23C16/0272 (EP,KR,US);
C23C16/42 (EP,US); C23C16/46 (US); C23C16/56 (EP,KR,US);
H01L21/28556 (EP,KR,US); H01L29/456 (EP,KR,US) (-)
Former IPC [2016/32]C23C16/18, C07C13/15, C07C13/20, C23C16/56, H01L21/28, H01L21/285, C07F15/04
Designated contracting statesAL,   AT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   RS,   SE,   SI,   SK,   SM,   TR [2016/32]
Extension statesBANot yet paid
MENot yet paid
TitleGerman:VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER NICKELDÜNNSCHICHT AUF EINEM SI-SUBSTRAT MITTELS CVD-VERFAHREN UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER NI-SILICID-DÜNNSCHICHT AUF EINEM SI-SUBSTRAT[2016/32]
English:METHOD FOR PRODUCING NICKEL THIN FILM ON Si SUBSTRATE BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING Ni SILICIDE THIN FILM ON Si SUBSTRATE[2016/32]
French:PROCÉDÉ POUR PRODUIRE UN FILM MINCE DE NICKEL SUR UN SUBSTRAT DE Si PAR UN PROCÉDÉ DE DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ POUR PRODUIRE UN FILM MINCE DE SILICIURE DE Ni SUR LE SUBSTRAT DE Si[2016/32]
Entry into regional phase23.02.2016Translation filed 
23.02.2016National basic fee paid 
23.02.2016Search fee paid 
23.02.2016Designation fee(s) paid 
23.02.2016Examination fee paid 
Examination procedure23.02.2016Examination requested  [2016/32]
29.11.2017Amendment by applicant (claims and/or description)
09.08.2018Communication of intention to grant the patent
07.12.2018Fee for grant paid
07.12.2018Fee for publishing/printing paid
07.12.2018Receipt of the translation of the claim(s)
Opposition(s)31.10.2019No opposition filed within time limit [2020/02]
Fees paidRenewal fee
22.09.2016Renewal fee patent year 03
26.09.2017Renewal fee patent year 04
25.09.2018Renewal fee patent year 05
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court		 See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipHU18.09.2014
AL30.01.2019
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[2022/31]
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