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Extract from the Register of European Patents

EP About this file: EP3168856

EP3168856 - X-RAY SOURCES USING LINEAR ACCUMULATION [Right-click to bookmark this link]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  03.07.2020
Database last updated on 19.07.2024
FormerThe patent has been granted
Status updated on  31.05.2019
FormerGrant of patent is intended
Status updated on  27.05.2019
FormerRequest for examination was made
Status updated on  21.05.2019
FormerGrant of patent is intended
Status updated on  06.01.2019
FormerRequest for examination was made
Status updated on  02.03.2018
FormerThe application has been published
Status updated on  18.04.2017
Most recent event   Tooltip08.07.2022Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): MK		published on 10.08.2022  [2022/32]
Applicant(s)For all designated states
Sigray Inc.
5750 Imhoff Drive
Suite I
Concord, CA 94520 / US
[2019/27]
Former [2017/20]For all designated states
Sigray Inc.
5750 Imhoff Drive
Suite I
Concord, CA 94520 / US
Inventor(s)01 / YUN, Wenbing
151 Adams Ranch Rd.
Walnut Creek, CA 94595 / US
02 / LEWIS, Sylvia Jia Yun
1160 Mission St.
Unit 1708
San Francisco, CA 94103 / US
03 / KIRZ, Janos
561 Cragmont Ave.
Berkeley, CA 94708 / US
04 / LYON, Alan Francis
1325 La Loma Ave.
Berkeley, CA 94708 / US
 [2017/20]
Representative(s)Tevlin, Christopher Michael, et al
Marks & Clerk LLP
1 New York Street
Manchester M1 4HD / GB
[2019/27]
Former [2017/20]Richards, John, et al
Ladas & Parry LLP
Temple Chambers
3-7 Temple Avenue
London EC4Y 0DA / GB
Application number, filing date16200793.419.09.2014
[2017/20]
Priority number, dateUS201361880151P19.09.2013         Original published format: US 201361880151 P
US201361894073P22.10.2013         Original published format: US 201361894073 P
US201461931519P24.01.2014         Original published format: US 201461931519 P
US201462008856P06.06.2014         Original published format: US 201462008856 P
US20141446581621.08.2014         Original published format: US201414465816
[2017/20]
Filing languageEN
Procedural languageEN
PublicationType: A2 Application without search report 
No.:EP3168856
Date:17.05.2017
Language:EN
[2017/20]
Type: A3 Search report 
No.:EP3168856
Date:23.08.2017
Language:EN
[2017/34]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP3168856
Date:03.07.2019
Language:EN
[2019/27]
Search report(s)(Supplementary) European search report - dispatched on:EP25.07.2017
ClassificationIPC:H01J35/08
[2017/20]
CPC:
H01J35/105 (EP,US); H01J2235/084 (EP); H01J2235/086 (EP)
Designated contracting statesAL,   AT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   RS,   SE,   SI,   SK,   SM,   TR [2018/14]
Former [2017/20]AL,  AT,  BE,  BG,  CH,  CY,  CZ,  DE,  DK,  EE,  ES,  FI,  FR,  GB,  GR,  HR,  HU,  IE,  IS,  IT,  LI,  LT,  LU,  LV,  MC,  MK,  MT,  NL,  NO,  PL,  PT,  RO,  RS,  SE,  SI,  SK,  SM,  TR 
TitleGerman:RÖNTGENQUELLEN MIT LINEARER AKKUMULATION[2017/20]
English:X-RAY SOURCES USING LINEAR ACCUMULATION[2017/20]
French:SOURCES DE RAYONS X UTILISANT L'ACCUMULATION LINÉAIRE[2017/20]
Examination procedure25.11.2016Date on which the examining division has become responsible
22.02.2018Amendment by applicant (claims and/or description)
22.02.2018Examination requested  [2018/14]
07.01.2019Communication of intention to grant the patent
17.05.2019Disapproval of the communication of intention to grant the patent by the applicant or resumption of examination proceedings by the EPO
17.05.2019Fee for grant paid
17.05.2019Fee for publishing/printing paid
27.05.2019Information about intention to grant a patent
27.05.2019Receipt of the translation of the claim(s)
Parent application(s)   TooltipEP14868433.5  / EP3047501
Opposition(s)03.06.2020No opposition filed within time limit [2020/32]
Fees paidRenewal fee
19.12.2016Renewal fee patent year 03
12.09.2017Renewal fee patent year 04
26.09.2018Renewal fee patent year 05
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court		 See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipHU19.09.2014
AL03.07.2019
AT03.07.2019
CY03.07.2019
CZ03.07.2019
DK03.07.2019
EE03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
IT03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
MC03.07.2019
MK03.07.2019
MT03.07.2019
NL03.07.2019
PL03.07.2019
RO03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
SI03.07.2019
SK03.07.2019
SM03.07.2019
TR03.07.2019
IE19.09.2019
LU19.09.2019
BE30.09.2019
CH30.09.2019
FR30.09.2019
LI30.09.2019
BG03.10.2019
GB03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
IS03.11.2019
PT04.11.2019
[2022/32]
Former [2021/35]HU19.09.2014
AL03.07.2019
AT03.07.2019
CY03.07.2019
CZ03.07.2019
DK03.07.2019
EE03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
IT03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
MC03.07.2019
MT03.07.2019
NL03.07.2019
PL03.07.2019
RO03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
SI03.07.2019
SK03.07.2019
SM03.07.2019
TR03.07.2019
IE19.09.2019
LU19.09.2019
BE30.09.2019
CH30.09.2019
FR30.09.2019
LI30.09.2019
BG03.10.2019
GB03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
IS03.11.2019
PT04.11.2019
Former [2021/34]HU19.09.2014
AL03.07.2019
AT03.07.2019
CY03.07.2019
CZ03.07.2019
DK03.07.2019
EE03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
IT03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
MC03.07.2019
MT03.07.2019
NL03.07.2019
PL03.07.2019
RO03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
SI03.07.2019
SK03.07.2019
SM03.07.2019
TR03.07.2019
IE19.09.2019
LU19.09.2019
BE30.09.2019
CH30.09.2019
LI30.09.2019
BG03.10.2019
GB03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
IS03.11.2019
PT04.11.2019
Former [2021/32]HU19.09.2014
AL03.07.2019
AT03.07.2019
CY03.07.2019
CZ03.07.2019
DK03.07.2019
EE03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
IT03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
MC03.07.2019
NL03.07.2019
PL03.07.2019
RO03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
SI03.07.2019
SK03.07.2019
SM03.07.2019
TR03.07.2019
IE19.09.2019
LU19.09.2019
BE30.09.2019
CH30.09.2019
LI30.09.2019
BG03.10.2019
GB03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
IS03.11.2019
PT04.11.2019
Former [2021/26]AL03.07.2019
AT03.07.2019
CY03.07.2019
CZ03.07.2019
DK03.07.2019
EE03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
IT03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
MC03.07.2019
NL03.07.2019
PL03.07.2019
RO03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
SI03.07.2019
SK03.07.2019
SM03.07.2019
TR03.07.2019
IE19.09.2019
LU19.09.2019
BE30.09.2019
CH30.09.2019
LI30.09.2019
BG03.10.2019
GB03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
IS03.11.2019
PT04.11.2019
Former [2020/48]AL03.07.2019
AT03.07.2019
CZ03.07.2019
DK03.07.2019
EE03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
IT03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
MC03.07.2019
NL03.07.2019
PL03.07.2019
RO03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
SI03.07.2019
SK03.07.2019
SM03.07.2019
TR03.07.2019
IE19.09.2019
LU19.09.2019
BE30.09.2019
CH30.09.2019
LI30.09.2019
BG03.10.2019
GB03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
IS03.11.2019
PT04.11.2019
Former [2020/37]AL03.07.2019
AT03.07.2019
CZ03.07.2019
DK03.07.2019
EE03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
IT03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
MC03.07.2019
NL03.07.2019
PL03.07.2019
RO03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
SI03.07.2019
SK03.07.2019
SM03.07.2019
TR03.07.2019
IE19.09.2019
LU19.09.2019
BE30.09.2019
CH30.09.2019
LI30.09.2019
BG03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
IS03.11.2019
PT04.11.2019
Former [2020/36]AL03.07.2019
AT03.07.2019
CZ03.07.2019
DK03.07.2019
EE03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
IT03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
MC03.07.2019
NL03.07.2019
PL03.07.2019
RO03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
SK03.07.2019
SM03.07.2019
TR03.07.2019
IE19.09.2019
LU19.09.2019
CH30.09.2019
LI30.09.2019
BG03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
IS03.11.2019
PT04.11.2019
Former [2020/35]AL03.07.2019
AT03.07.2019
CZ03.07.2019
DK03.07.2019
EE03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
IT03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
MC03.07.2019
NL03.07.2019
PL03.07.2019
RO03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
SK03.07.2019
SM03.07.2019
TR03.07.2019
LU19.09.2019
CH30.09.2019
LI30.09.2019
BG03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
PT04.11.2019
IS24.02.2020
Former [2020/34]AL03.07.2019
AT03.07.2019
CZ03.07.2019
DK03.07.2019
EE03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
IT03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
MC03.07.2019
NL03.07.2019
PL03.07.2019
RO03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
SK03.07.2019
SM03.07.2019
TR03.07.2019
CH30.09.2019
LI30.09.2019
BG03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
PT04.11.2019
IS24.02.2020
Former [2020/27]AL03.07.2019
AT03.07.2019
CZ03.07.2019
DK03.07.2019
EE03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
IT03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
MC03.07.2019
NL03.07.2019
PL03.07.2019
RO03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
SK03.07.2019
SM03.07.2019
TR03.07.2019
BG03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
PT04.11.2019
IS24.02.2020
Former [2020/25]AL03.07.2019
AT03.07.2019
CZ03.07.2019
DK03.07.2019
EE03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
IT03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
MC03.07.2019
NL03.07.2019
PL03.07.2019
RO03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
SK03.07.2019
TR03.07.2019
BG03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
PT04.11.2019
IS24.02.2020
Former [2020/24]AL03.07.2019
AT03.07.2019
CZ03.07.2019
DK03.07.2019
EE03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
IT03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
MC03.07.2019
NL03.07.2019
PL03.07.2019
RO03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
TR03.07.2019
BG03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
PT04.11.2019
IS24.02.2020
Former [2020/23]AL03.07.2019
AT03.07.2019
CZ03.07.2019
DK03.07.2019
EE03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
IT03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
NL03.07.2019
PL03.07.2019
RO03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
TR03.07.2019
BG03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
IS03.11.2019
PT04.11.2019
Former [2020/22]AL03.07.2019
AT03.07.2019
CZ03.07.2019
DK03.07.2019
EE03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
NL03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
TR03.07.2019
BG03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
IS03.11.2019
PT04.11.2019
Former [2020/17]AL03.07.2019
AT03.07.2019
CZ03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
NL03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
TR03.07.2019
BG03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
IS03.11.2019
PT04.11.2019
Former [2020/15]AL03.07.2019
AT03.07.2019
CZ03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
NL03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
BG03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
IS03.11.2019
PT04.11.2019
Former [2020/12]AT03.07.2019
CZ03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
NL03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
BG03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
IS03.11.2019
PT04.11.2019
Former [2020/11]AT03.07.2019
CZ03.07.2019
ES03.07.2019
FI03.07.2019
HR03.07.2019
LT03.07.2019
LV03.07.2019
NL03.07.2019
RS03.07.2019
SE03.07.2019
BG03.10.2019
NO03.10.2019
GR04.10.2019
PT04.11.2019
Former [2020/10]AT03.07.2019
CZ03.07.2019
FI03.07.2019
LT03.07.2019
NL03.07.2019
SE03.07.2019
BG03.10.2019
NO03.10.2019
PT04.11.2019
Former [2020/09]CZ03.07.2019
FI03.07.2019
LT03.07.2019
NL03.07.2019
NO03.10.2019
Former [2020/08]LT03.07.2019
NL03.07.2019
NO03.10.2019
Former [2020/07]NL03.07.2019
Documents cited:Search[XA]US2011026680  (SATO GENTA [JP]) [X] 1-7,10 * paragraphs [0009] , [0030] , [0031] , [0051]; figure 1a * [A] 8,9;
 [A]US2011235781  (AOKI SHOZO [JP], et al)[A] 1
by applicantUS1211092
 US1917099
 US1946312
 US4972449
 US5148462
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DOI:   http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/13/5/309
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