EP4415028 - FILM FORMING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING CRYSTALLINE SEMICONDUCTOR FILM USING SAME [Cliquez sur ce lien avec le bouton droit de la souris pour le conserver dans vos signets]
Statut	La requête en examen a été présentée Statut actualisé le 12.07.2024 Base de données mise à jour au 24.03.2026
Précédent	La publication internationale a été faite Statut actualisé le 14.04.2023
Dernier événement Tooltip	21.01.2026	Rapport complémentaire de recherche	publié le 18.02.2026 [2026/08]
Demandeur(s)	Pour tous les Etats désignés SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 4-1, Marunouchi 1 chome Chiyoda-ku Tokyo 1000005 / JP
	Pour tous les Etats désignés Shin-Etsu Engineering Co., Ltd. 9 Kanda-nishiki-cho 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 101-0054 / JP
	[N/P]
Précédent [2024/33]	Pour tous les Etats désignés SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 4-1, Marunouchi 1 chome Chiyoda-ku Tokyo 1000005 / JP
	Pour tous les Etats désignés Shin-etsu Engineering Co., Ltd. 9 Kanda Nishikicho 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 101-0054 / JP
Inventeur(s)	01 / HASHIGAMI, Hiroshi Annaka-shi, Gunma 379-0195 / JP
	02 / KOJIMA, Muneyuki Annaka-shi, Gunma 379-0127 / JP
	[2024/33]
Mandataire(s)	Mooser, Sebastian Thomas Wuesthoff & Wuesthoff Patentanwälte und Rechtsanwalt PartG mbB Schweigerstraße 2 81541 München / DE
	[2024/33]
Numéro de la demande, date de dépôt	22878146.4	29.06.2022
	[2024/33]
	WO2022JP25860
Numéro de priorité, date	JP20210165618	07.10.2021 Format original publié: JP 2021165618
	[2024/33]
Langue de dépôt	JA
Langue de la procédure	EN
Publication	Type:	A1 Demande avec rapport de recherche
	N°:	WO2023058273
	Date:	13.04.2023
	Langue:	JA
	[2023/15]
	Type:	A1 Demande avec rapport de recherche
	N°:	EP4415028
	Date:	14.08.2024
	Langue:	EN
	[2024/33]
Rapport(s) de recherche	Rapport de recherche internationale - publié le:	JP	13.04.2023
	Rapport (complémentaire) de recherche européenne - envoyé le:	EP	20.01.2026
Classification	IPC:	H01L21/365, H01L21/368	[2024/33]
	CPC:	H10P14/24 (EP,US); H10P14/60 (EP,KR); C23C16/40 (EP,US); C23C16/4412 (EP,US); C23C16/4486 (EP,US); C23C16/45512 (US); (+) C23C16/4583 (EP,US); C23C16/46 (EP,US); H10P14/265 (EP); H10P14/3411 (EP); H10P14/3434 (EP,US); H10P72/0402 (KR); H10P72/0431 (KR); H10P72/7624 (KR) (-)
Etats contractants désignés	AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LI, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR [2024/33]
Titre	Allemand:	FILMBILDUNGSVORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR BILDUNG EINES KRISTALLINEN HALBLEITERFILMS DAMIT	[2024/33]
	Anglais:	FILM FORMING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING CRYSTALLINE SEMICONDUCTOR FILM USING SAME	[2024/33]
	Français:	APPAREIL DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM SEMI-CONDUCTEUR CRISTALLIN FAISANT INTERVENIR CET APPAREIL	[2024/33]
Entrée dans la phase régionale	27.03.2024	Traduction produite
	27.03.2024	Taxe nationale de base payée
	27.03.2024	Taxe de recherche payée
	27.03.2024	Taxe(s) de désignation payée(s)
	27.03.2024	Taxe d'examen payée
Procédure dexamen	27.03.2024	Requête en examen déposée [2024/33]
	13.11.2024	Modification par le demandeur (revendications et/ou déscription)
Taxes payées	Taxe annuelle
	27.03.2024	Taxe annuelle Année du brevet 03
	20.05.2025	Taxe annuelle Année du brevet 04
Dérogation à la compétence Tooltip exclusive de la juridiction unifiée du brevet	Voir le Registre de la juridiction unifiée du brevet pour les données relatives à la dérogation
	La juridiction unifiée du brevet assume l'entière responsabilité de l'exactitude, de l'exhaustivité et de la qualité des données présentées sous le lien fourni.
Citations:	Recherche	[XIY] JP6925548 (信越化学工業株式会社) [X] 1,7,9 * paragraphs [0049] , [0073] , [0 53] - [0063]; figure 1 *[I] 10 [Y] 2-6,8
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	Recherche internationale	[YX] JP6925548 (信越化学工業株式会社) [Y] 2-6, 8, 10 * paragraphs [0034]-[0059], fig. 1 *[X] 1, 7, 9
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		[Y] JP2012119591 (FUJI ELECTRIC CO LTD et al.) [Y] 10 * paragraph [0168] *
	par le demandeur	JP2013028480
		JP2020107636
		JP2020188170

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