EP0822452 - Méthode et dispositif de correction de l'effet de proximité optique [Cliquez sur ce lien avec le bouton droit de la souris pour le conserver dans vos signets]
Statut	La demande est réputée retirée Statut actualisé le 02.02.2001 Base de données mise à jour au 19.03.2026
Dernier événement Tooltip	02.02.2001	Demande réputée retirée	publié le 21.03.2001 [2001/12]
Demandeur(s)	Pour tous les Etats désignés LSI Logic Corporation 1551 McCarthy Boulevard Milpitas, CA 95035 / US
	[N/P]
Précédent [1998/06]	Pour tous les Etats désignés LSI LOGIC CORPORATION 1551 McCarthy Boulevard Milpitas, CA 95035 / US
Inventeur(s)	01 / Garza, Mario P.O. Box 64088 Sunnyvale, CA 94084 / US
	02 / Eib, Nicholas K. 781 Almondwood Way San Jose, CA 95120 / US
	03 / Chao, Keith K. 719 Broadmoor Drive San Jose, CA 95129 / US
	[1998/06]
Mandataire(s)	Kahler, Kurt Patentanwälte Kahler, Käck, Fiener Vorderer Anger 268 86899 Landsberg / DE
	[N/P]
Précédent [1998/06]	Kahler, Kurt, Dipl.-Ing. Patentanwälte Kahler, Käck, Fiener et col., Vorderer Anger 268 86899 Landsberg/Lech / DE
Numéro de la demande, date de dépôt	97103090.3	26.02.1997
	[1998/06]
Numéro de priorité, date	US19960607365	27.02.1996 Format original publié: US 607365
	[1998/06]
Langue de dépôt	EN
Langue de la procédure	EN
Publication	Type:	A2 Demande sans rapport de recherche
	N°:	EP0822452
	Date:	04.02.1998
	Langue:	EN
	[1998/06]
	Type:	A3 Rapport de recherche
	N°:	EP0822452
	Date:	13.05.1998
	[1998/20]
Rapport(s) de recherche	Rapport (complémentaire) de recherche européenne - envoyé le:	EP	26.03.1998
Classification	IPC:	G03F7/20, G03F1/14	[1998/20]
	CPC:	G03F7/70441 (EP,US); G03F1/36 (EP,US)
	Précédent IPC [1998/06]	G03F7/20
Etats contractants désignés	DE, FR, GB, IT, NL [1998/06]
Titre	Allemand:	Verfahren und Vorrichtung zur Korrektur des optischen Proximity-Effekts	[1998/06]
	Anglais:	Optical proximity correction method and apparatus	[1998/06]
	Français:	Méthode et dispositif de correction de l'effet de proximité optique	[1998/06]
Procédure dexamen	05.11.1998	Requête en examen déposée [1999/01]
	18.12.1998	Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M04)
	16.04.1999	Réponse à une notification de la division dexamen
	31.08.1999	Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M06)
	07.03.2000	Réponse à une notification de la division dexamen
	05.04.2000	Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M04)
	16.09.2000	La demande est réputée retirée, date d'effet juridique [2001/12]
	05.10.2000	Envoi dune notification signalant que la demande est réputée retirée, motif: {0} [2001/12]
Taxes payées	Taxe annuelle
	26.02.1999	Taxe annuelle Année du brevet 03
	03.02.2000	Taxe annuelle Année du brevet 04
Dérogation à la compétence Tooltip exclusive de la juridiction unifiée du brevet	Voir le Registre de la juridiction unifiée du brevet pour les données relatives à la dérogation
	La juridiction unifiée du brevet assume l'entière responsabilité de l'exactitude, de l'exhaustivité et de la qualité des données présentées sous le lien fourni.
Citations:	Recherche	[Y] STIRNIMAN J ET AL: "OPTIMIZING PROXIMITY CORRECTION FOR WAFER FABRICATION PROCESSES", PROCEEDINGS OF THE SPIE, vol. 2322, 14 September 1994 (1994-09-14), pages 239 - 246, XP000607940 [Y] 4,5,10,11 * page 240, paragraph 2 * DOI: http://dx.doi.org/10.1117/12.195819
		[A] HENDERSON R C ET AL: "CD DATA REQUIREMENTS FOR PROXIMITY EFFECT CORRECTIONS", PROCEEDINGS OF THE SPIE, vol. 2322, 14 September 1994 (1994-09-14), pages 218 - 228, XP000607939 [A] 7,13,17 * page 221, paragraphs 4-7 * DOI: http://dx.doi.org/10.1117/12.195817

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