Auszug aus dem europäischen Patentregister

EP Übersicht: EP1159583

EP1159583 - VERFAHREN ZUR MESSUNG DER WELLIGKEIT VON SILIZIUMSCHEIBEN [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.]
Frühere [2001/49]VERFAHREN UND SYSTEM ZUR MESSUNG DER WELLIGKEIT VON SILIZIUMSCHEIBEN
[2004/03]
StatusAnmeldung gilt als zurückgenommen
Status aktualisiert am  22.10.2004
Datenbank zuletzt aktualisiert am 11.04.2026
Letztes Ereignis   Tooltip22.10.2004Anmeldung gilt als zurückgenommenveröffentlicht am 08.12.2004  [2004/50]
AnmelderFür alle benannten Staaten
MEMC Electronic Materials, Inc.
501 Pearl Drive (O'Fallon) P.O. Box 8
St. Peters, Missouri 63376 / US
[N/P]
Frühere [2001/49]Für alle benannten Staaten
MEMC Electronic Materials, Inc.
501 Pearl Drive (O'Fallon) P.O. Box 8
St. Peters, Missouri 63376 / US
Erfinder01 / WITTE, Dale A., MEMC Electronic Materials, Inc.
501 Pearl Drive, P.O. Box 8
St. Peters, MO 63376 / US
 [2001/49]
VertreterMaiwald GmbH
Elisenhof
Elisenstraße 3
80335 München / DE
[N/P]
Frühere [2001/49]Maiwald Patentanwalts GmbH
Elisenhof Elisenstrasse 3
80335 München / DE
Anmeldenummer, Anmeldetag00914535.007.02.2000
[2001/49]
WO2000US03078
Prioritätsnummer, PrioritätstagUS1999026423005.03.1999         Ursprünglich veröffentlichtes Format: US 264230
[2001/49]
AnmeldespracheEN
VerfahrensspracheEN
VeröffentlichungArt: A1 Anmeldung mit Recherchenbericht
Nr.:WO0052420
Datum:08.09.2000
Sprache:EN
[2000/36]
Art: A1 Anmeldung mit Recherchenbericht 
Nr.:EP1159583
Datum:05.12.2001
Sprache:EN
Die von der WIPO am 08.09.2000 in einer EPA-Amtssprache veröffentlichte Anmeldung tritt an die Stelle der Veröffentlichung der europäischen Patentanmeldung.
[2001/49]
Recherchenbericht(e)Internationaler Recherchenbericht - veröffentlicht am:EP08.09.2000
KlassifikationIPC:G01B21/30
[2001/49]
CPC:
G01B21/30 (EP,KR,US); H10P74/203 (EP,US)
Benannte VertragsstaatenAT,   BE,   CH,   CY,   DE,   DK,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   IE,   IT,   LI,   LU,   MC,   NL,   PT,   SE [2001/49]
Bezeichnung der ErfindungDeutsch:VERFAHREN ZUR MESSUNG DER WELLIGKEIT VON SILIZIUMSCHEIBEN[2004/03]
Englisch:METHOD OF MEASURING WAVINESS OF SILICON WAFERS[2004/03]
Französisch:PROCEDE DE MESURE DU VOILAGE DE PLAQUETTES DE SILICIUM[2004/03]
Frühere [2001/49]VERFAHREN UND SYSTEM ZUR MESSUNG DER WELLIGKEIT VON SILIZIUMSCHEIBEN
Frühere [2001/49]METHOD AND SYSTEM OF MEASURING WAVINESS IN SILICON WAFERS
Frühere [2001/49]PROCEDE ET SYSTEME DE MESURE DU VOILAGE DE PLAQUETTES DE SILICIUM
Eintritt in die regionale Phase09.08.2001Nationale Grundgebühr entrichtet 
09.08.2001Benennungsgebühr(en) entrichtet 
09.08.2001Prüfungsgebühr entrichtet 
Prüfungsverfahren28.07.2000Antrag auf vorläufige Prüfung gestellt
mit der internationalen vorläufigen Prüfung beauftragte Behörde: EP
09.08.2001Prüfungsantrag gestellt  [2001/49]
25.11.2002Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M04)
20.03.2003Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
21.01.2004Ankündigung der Patenterteilung
02.06.2004Anmeldung gilt als zurückgenommen, Datum der Rechtswirksamkeit  [2004/50]
07.07.2004Absendung der Mitteilung, wonach die Anmeldung als zurückgenommen gilt. Grund: Erteilungsgebühr/Druckkostengebühr nicht fristgerecht entrichtet  [2004/50]
Entrichtete GebührenJahresgebühr
13.02.2002Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03
12.02.2003Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04
12.02.2004Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05
Ausschluss der ausschließlichen  Tooltip
Zuständigkeit des Einheitlichen
Patentgerichts
Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts
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