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EP1107293

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Auszug aus dem europäischen Patentregister

EP Übersicht: EP1107293

EP1107293 - RÖNTGEN BELICHTER METHODE MASKE SPIEGEL SYNCHROTON STRAHLER BESTRAHLUNGSMETHODE UND ALBLEITERANORDNUNG [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.]
Status	Anmeldung zurückgenommen Status aktualisiert am 29.12.2006 Datenbank zuletzt aktualisiert am 12.08.2024
Letztes Ereignis Tooltip	25.07.2008	Änderung - Vertreter	veröffentlicht am 27.08.2008 [2008/35]
Anmelder	Für alle benannten Staaten MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA 7-3, Marunouchi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-8310 / JP
	Für alle benannten Staaten CANON KABUSHIKI KAISHA 30-2, Shimomaruko 3-chome Ohta-ku Tokyo 146-8501 / JP
	[N/P]
Frühere [2006/18]	Für alle benannten Staaten MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA 7-3, Marunouchi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-8310 / JP
	Für alle benannten Staaten CANON KABUSHIKI KAISHA 30-2, Shimomaruko 3-chome Ohta-ku Tokyo 146-8501 / JP
Frühere [2001/24]	Für alle benannten Staaten MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA 2-3, Marunouchi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-8310 / JP
	Für alle benannten Staaten CANON KABUSHIKI KAISHA 30-2, Shimomaruko 3-chome Ohta-ku Tokyo 146-8501 / JP
Erfinder	01 / ITOGA, Kenji, Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha 2-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku Tokyo 100-8310 / JP
	02 / KITAYAMA, Toyoki, Mitsubishi Denki Kab. Kaisha 2-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku Tokyo 100-8310 / JP
	03 / WATANABE, Yutaka, Canon Kabushiki Kaisha 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku Tokyo 146-8501 / JP
	04 / UZAWA, Shunichi, Canon Kabushiki Kaisha 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku Tokyo 146-8501 / JP
	[2001/24]
Vertreter	Hofer, Dorothea, et al Prüfer & Partner GbR Patentanwälte Sohnckestrasse 12 81479 München / DE
	[N/P]
Frühere [2008/35]	Hofer, Dorothea, et al Prüfer & Partner GbR Patentanwälte Sohnckestrasse 12 81479 München / DE
Frühere [2006/14]	Hofer, Dorothea, et al Prüfer & Partner GbR Patentanwälte Harthauser Strasse 25 d 81545 München / DE
Frühere [2001/24]	Prüfer, Lutz H., Dipl.-Phys., et al PRÜFER & PARTNER, Patentanwälte, Harthauser Strasse 25d 81545 München / DE
Anmeldenummer, Anmeldetag	00929857.1	24.05.2000
	[2001/24]
	WO2000JP03337
Prioritätsnummer, Prioritätstag	JP19990149621	28.05.1999 Ursprünglich veröffentlichtes Format: JP 14962199
	[2001/24]
Anmeldesprache	JA
Verfahrenssprache	EN
Veröffentlichung	Art:	A1 Anmeldung mit Recherchenbericht
	Nr.:	WO0074119
	Datum:	07.12.2000
	Sprache:	EN
	[2000/49]
	Art:	A1 Anmeldung mit Recherchenbericht
	Nr.:	EP1107293
	Datum:	13.06.2001
	Sprache:	EN
	Die von der WIPO am 07.12.2000 in einer EPA-Amtssprache veröffentlichte Anmeldung tritt an die Stelle der Veröffentlichung der europäischen Patentanmeldung.
	[2001/24]
Recherchenbericht(e)	Internationaler Recherchenbericht - veröffentlicht am:	JP	07.12.2000
	(Ergänzender) europäischer Recherchenbericht - versandt am:	EP	12.10.2001
Klassifikation	IPC:	H01L21/027, H05H13/04, G21K1/06	[2001/47]
	CPC:	G03F7/70008 (EP,US); H01L21/027 (KR); G03F7/708 (EP,US); G21K1/06 (EP,US); G21K1/10 (EP,US); G21K5/04 (EP,US)
	Frühere IPC [2001/24]	H01L21/027, H05H13/04
Benannte Vertragsstaaten	DE, GB, NL [2004/20]
Frühere [2001/24]	AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LI, LU, MC, NL, PT, SE
Erstreckungsstaaten	AL	Noch nicht entrichtet
	LT	Noch nicht entrichtet
	LV	Noch nicht entrichtet
	MK	Noch nicht entrichtet
	RO	Noch nicht entrichtet
	SI	Noch nicht entrichtet
Bezeichnung der Erfindung	Deutsch:	RÖNTGEN BELICHTER METHODE MASKE SPIEGEL SYNCHROTON STRAHLER BESTRAHLUNGSMETHODE UND ALBLEITERANORDNUNG	[2001/24]
	Englisch:	X-RAY EXPOSURE APPARATUS, X-RAY EXPOSING METHOD, X-RAY MASK, X-RAY MIRROR, SYNCHROTRON RADIATOR, SYNCHROTRON RADIATING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE	[2001/24]
	Französisch:	APPAREIL D'EXPOSITION AUX RAYONS X, PROCEDE D'EXPOSITION AUX RAYONS X, MASQUE A RAYONS X, APPAREIL A RAYONNEMENT SYNCHROTRON, PROCEDE DE RAYONNEMENT PAR SYNCHROTRON ET DISPOSITIF A SEMI-CONDUCTEUR	[2001/24]
Eintritt in die regionale Phase	30.01.2001	Übersetzung eingereicht
	31.01.2001	Nationale Grundgebühr entrichtet
	31.01.2001	Recherchengebühr entrichtet
	31.01.2001	Benennungsgebühr(en) entrichtet
	31.01.2001	Prüfungsgebühr entrichtet
Prüfungsverfahren	31.01.2001	Prüfungsantrag gestellt [2001/24]
	31.01.2001	Antrag auf beschleunigte Prüfung gestellt
	07.12.2001	Änderung durch den Anmelder (Ansprüche und/oder Beschreibung)
	02.08.2002	Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M04)
	02.08.2002	Entscheidung über den Antrag auf beschleunigte Prüfung - stattgegeben: Ja
	05.12.2002	Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
	25.08.2006	Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M04)
	21.12.2006	Anmeldung vom Anmelder zurückgenommen [2007/05]
Entrichtete Gebühren	Jahresgebühr
	28.05.2002	Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03
	28.05.2003	Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04
	27.05.2004	Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05
	20.05.2005	Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 06
	31.05.2006	Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 07
Ausschluss der ausschließlichen Tooltip Zuständigkeit des Einheitlichen Patentgerichts	Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts
	Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht.
Angeführte Dokumente:	Recherche	[A]GB2054195 (AGA AB) [A] 1,4,5,7,11,19,20,27,28,30,34 * the whole document *;
		[PA] - ZICHUN LE ET AL, "Theoretical calculations of a square multilayer Bragg-Fresnel lens by quantum theory", OPTICS AND LASER TECHNOLOGY, OCT. 1999, ELSEVIER, UK, vol. 31, no. 7, ISSN 0030-3992, pages 497 - 503, XP002178984 [PA] 1,2 * page 500, column R, paragraph 3 - page 501, column L, paragraph 1 * DOI: http://dx.doi.org/10.1016/S0030-3992(99)00104-8
	Internationale Recherche	[X]JPH1114800 (NIPPON TELEGRAPH & TELEPHONE);
		[X]EP0903638 (MICROPARTS GMBH [DE]);
		[Y]JPS5571311U
	Prüfung	- CERRINA F.; GUCKEL H.; WILEY J.D., "A synchrotron radiation x-ray lithography beam line of novel design", J.VAC.SCI.TECHNOL., (19850201), pages 227 - 231, XP002111158 DOI: http://dx.doi.org/10.1116/1.583233
		- BENNET H.E.; KHOUNSARY A.M., "Comparison of technology for high power laser mirrors and synchrotron radiation mirrors", ANNUAL MEETING OF SPIE, SAN DIEGO 11-16 JULY 1993, (19931101), XP009070784 DOI: http://dx.doi.org/10.1117/12.163826
		- TAKACS PETER Z.; FURENLID KAREN; FURENLID LARS, "Damage observations on synchrotron beam line mirrors", SPIE CONFERENCE ON OPTICAL SYSTEMS CONTAMINATION AND DEGRADATION; SAN DIEGO, JUL 20-23 1998
		- HENKE B.L.; GULLIKSON E.M.; DAVIS J.C., "X-RAY INTERACTIONS: PHOTOABSORPTION, SCATTERING, TRASMISSION, AND REFLECTION AT 3 = 50-30,000 EV,Z = 1-92", ATOMIC DATA AND NUCLEAR DATA TABLES, (19930701), vol. 54, pages 181 - 342, XP009069742
		- ELLIOT A., "The use of toroidal reflecting surfaces in x-ray diffraction cameras", J.SCI.INSTRUM., (1965), vol. 42, pages 312 - 316
		- JONES K.W. ET AL, "Fabrication of an 8:1 ellipsoidal mirror for a synchrotron x-ray microprobe", PROCEEDINGS OF THE SPIE, (1987), vol. 749, pages 37 - 44, XP009070763
		- ISHII M. ET AL, "The optically active center and its activation process in Er-doped Si thin film produced by laser ablation", J.APPL.PHYSICS, (19990415), vol. 85, pages 4024 - 4031

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