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Neue Version des Europäischen Patentregisters – Angaben zu ESZ-Verfahren im Einheitspatentregister.

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Auszug aus dem europäischen Patentregister

EP Übersicht: EP1411144

EP1411144 - VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER HOCHFESTEN ELASTISCHEN DIAMANTARTIGEN KOHLENSTOFFSTRUKTUR [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.]
StatusKein Einspruch fristgerecht eingelegt
Status aktualisiert am  12.08.2011
Datenbank zuletzt aktualisiert am 29.10.2024
Letztes Ereignis   Tooltip12.08.2011Kein Einspruch fristgerecht eingelegtveröffentlicht am 14.09.2011  [2011/37]
AnmelderFür alle benannten Staaten
NEC Corporation
7-1, Shiba 5-chome Minato-ku
Tokyo 108-8001 / JP
Für alle benannten Staaten
SII Nano Technology Inc.
8, Nakase 1-chome, Mihama-ku Chiba-shi
Chiba / JP
[2010/40]
Frühere [2010/40]Für alle benannten Staaten
NEC Corporation
7-1, Shiba 5-chome Minato-ku
Tokyo 108-8001 / JP
Für alle benannten Staaten
SII Nano Technology Inc.
8, Nakase 1-chome, Mihama-ku
Chiba-shi, Chiba / JP
Frühere [2005/22]Für alle benannten Staaten
NEC Corporation
7-1, Shiba 5-chome
Minato-ku, Tokyo 108-8001 / JP
Für alle benannten Staaten
SII Nano Technology Inc.
8, Nakase 1-chome, Mihama-ku
Chiba-shi, Chiba / JP
Frühere [2004/17]Für alle benannten Staaten
NEC Corporation
7-1, Shiba 5-chome
Minato-ku, Tokyo 108-8001 / JP
Für alle benannten Staaten
Seiko Instruments Inc.
8 Nakase 1-chome, Mihama-ku
Chiba-shi, Chiba 261-8507 / JP
Erfinder01 / FUJITA, Jun-ichi c/o NEC CORPORATION
7-1, Shiba 5-chome
Minato-ku, Tokyo 108-8001 / JP
02 / ISHIDA, Masahiko c/o NEC CORPORATION
7-1, Shiba 5-chome
Minato-ku, Tokyo 108-8001 / JP
03 / OCHIAI, Yukinori c/o NEC CORPORATION
7-1, Shiba 5-chome
Minato-ku, Tokyo 108-8001 / JP
04 / MATSUI, Shinji
5-23-2, Tsujii 7-chome
Himeji-shi, Hyogo 670-0083 / JP
05 / KAITO, Takashi c/o SEIKO INSTRUMENTS INC.
8, Nakase 1-chome, Mihama-ku
Chiba-shi, Chiba 261-8507 / JP
 [2004/17]
VertreterWenzel & Kalkoff
Patentanwälte
Meiendorfer Strasse 89
22145 Hamburg / DE
[N/P]
Frühere [2009/46]Wenzel & Kalkoff
Patentanwälte Meiendorfer Stasse 89
22145 Hamburg / DE
Frühere [2004/17]Patentanwälte Wenzel & Kalkoff
Grubesallee 26, Postfach 73 04 66
22124 Hamburg / DE
Anmeldenummer, Anmeldetag02738851.128.06.2002
[2004/17]
WO2002JP06546
Prioritätsnummer, PrioritätstagJP2001019788529.06.2001         Ursprünglich veröffentlichtes Format: JP 2001197885
[2004/17]
AnmeldespracheJA
VerfahrensspracheEN
VeröffentlichungArt: A1 Anmeldung mit Recherchenbericht
Nr.:WO03002779
Datum:09.01.2003
Sprache:EN
[2003/02]
Art: A1 Anmeldung mit Recherchenbericht 
Nr.:EP1411144
Datum:21.04.2004
Sprache:EN
Die von der WIPO am 09.01.2003 in einer EPA-Amtssprache veröffentlichte Anmeldung tritt an die Stelle der Veröffentlichung der europäischen Patentanmeldung.
[2004/17]
Art: B1 Patentschrift 
Nr.:EP1411144
Datum:06.10.2010
Sprache:EN
[2010/40]
Recherchenbericht(e)Internationaler Recherchenbericht - veröffentlicht am:JP09.01.2003
(Ergänzender) europäischer Recherchenbericht - versandt am:EP08.11.2007
KlassifikationIPC:C23C16/26, C23C16/48, C23C16/455, C23C16/04, B82B1/00, B82B3/00
[2007/49]
CPC:
C23C16/45517 (EP,US); B81C1/00111 (EP,US); C01B32/25 (EP,US);
C01B32/26 (EP,US); C23C16/047 (EP,US); C23C16/26 (EP,US);
C23C16/45591 (EP,US) (-)
Frühere IPC [2004/17]C23C16/27, C01B31/02, B81C5/00
Benannte VertragsstaatenDE,   GB [2009/52]
Frühere [2004/17]AT,  BE,  CH,  CY,  DE,  DK,  ES,  FI,  FR,  GB,  GR,  IE,  IT,  LI,  LU,  MC,  NL,  PT,  SE,  TR 
Bezeichnung der ErfindungDeutsch:VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER HOCHFESTEN ELASTISCHEN DIAMANTARTIGEN KOHLENSTOFFSTRUKTUR[2004/17]
Englisch:METHOD FOR FORMING ULTRA-HIGH STRENGTH ELASTIC DIAMOND LIKE CARBON STRUCTURE[2004/28]
Französisch:PROCEDE DE FORMAGE DE STRUCTURE DE CARBONE DIAMANTOIDE ELASTIQUE ULTRA-RESISTANTE[2004/17]
Frühere [2004/17]METHOD FOR FORMING ULTRA-HIGH STRENGTH ELASTIC DIAMOND LIKE CARBON STRUCTURE
Eintritt in die regionale Phase15.01.2004Übersetzung eingereicht 
15.01.2004Nationale Grundgebühr entrichtet 
15.01.2004Recherchengebühr entrichtet 
15.01.2004Benennungsgebühr(en) entrichtet 
15.01.2004Prüfungsgebühr entrichtet 
Prüfungsverfahren28.06.2002Antrag auf vorläufige Prüfung gestellt
mit der internationalen vorläufigen Prüfung beauftragte Behörde: JP
15.01.2004Prüfungsantrag gestellt  [2004/17]
28.03.2008Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M06)
22.09.2008Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
30.11.2009Ankündigung der Patenterteilung
01.06.2010Absendung der Mitteilung, wonach die Anmeldung als zurückgenommen gilt. Grund: Erteilungsgebühr/Druckkostengebühr nicht fristgerecht entrichtet
16.06.2010Erteilungsgebühr entrichtet
16.06.2010Veröffentlichungs-/Druckkostengebühr entrichtet
Einspruch (Einsprüche)07.07.2011Kein Einspruch fristgerecht eingelegt [2011/37]
Antrag auf Weiterbehandlung für:Die Anmeldung gilt als zurückgenommen, weil für die Patenterteilung erforderliche Handlungen nicht vorgenommen wurden
16.06.2010Antrag auf Weiterbehandlung gestellt
16.06.2010Komplette Zahlung eingegangen (Datum des Zahlungseingangs)
Antrag stattgegeben
07.07.2010Entscheidung abgesandt
Entrichtete GebührenJahresgebühr
29.06.2004Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03
29.06.2005Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04
29.06.2006Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05
28.06.2007Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 06
29.03.2008Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 07
27.06.2009Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 08
11.08.2010Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 09
Zuschlagsgebühr
Zuschlagsgebühr zur Jahresgebühr
30.06.201009   M06   Gebühr entrichtet am   11.08.2010
Ausschluss der ausschließlichen  Tooltip
Zuständigkeit des Einheitlichen
Patentgerichts
Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts
Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht.
Angeführte Dokumente:Recherche[A]US5135808  (KIMOCK FRED M [US], et al) [A] 2-9 * column 4, lines 25-43 * * column 6, line 49 - column 7, line 5; figure 1; examples B,C; claims 1,34 *;
 [A]US6086962  (MAHONEY LEONARD JOSEPH [US], et al) [A] 2-9 * column 6, line 9 - column 7, line 14; figures 1-3; examples A,B,C; claims 1-30 *;
 [X]JP2001107252  (JAPAN SCIENCE & TECH CORP) [X] 2-9 * paragraphs [0021] - [0028] - [0036] - [0047] - [0050] - [0056]; figures 1-8; claims 1,2,4,5,14 *;
 [X]  - SHINJI MATSUI ET AL, "Three-dimensional nanostructure fabrication by focused-ion-beam chemical vapor deposition", JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY: PART B, AVS / AIP, MELVILLE, NEW YORK, NY, US, (2000), vol. 18, no. 6, ISSN 1071-1023, pages 3181 - 3184, XP002956386 [X] 2-9 * page 3181, column R.H., paragraph II - page 3184, column R.H., paragraph IV; figures 1-8 *

DOI:   http://dx.doi.org/10.1116/1.1319689
 [A]  - T. MORI, Y. NAMBA, "Hard diamondlike carbon films deposited by ionized deposition of methane gas", JOURNAL OF VACCUM SCIENCE TECHNOLOGY, PART A, New York, USA, (1983), vol. 1, no. 1, pages 23 - 27, XP002455513 [A] 2-9 * page 23, column L.H., paragraph II - page 24, column L.H., paragraph II; figures 1,2,8,9; table I *

DOI:   http://dx.doi.org/10.1116/1.572304
Internationale Recherche[X]JP2001107252  (JAPAN SCIENCE & TECH CORP);
 [AE]WO0244079  (SEIKO INSTR INC [JP], et al);
 [A]EP0710057  (EBARA CORP [JP], et al);
 [A]JPH10163201  (SEIKO INSTR INC);
 [A]JP2967198B
 [X]  - SHINJI MATSUI ET AL., "Three-dimensional nanostructure fabrication by focused-ion-beam chemical vapor deposition", J. VAC. SCI. TECHNOL. B, (2000), vol. 18, no. 6, pages 3181 - 3184, XP002956386

DOI:   http://dx.doi.org/10.1116/1.1319689
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