EP1474825 - EINSTUFIGES VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON OXIDSCHICHTEN HOHER QUALITÄT UND UNTERSCHIEDLICHER DICKE [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.] | Status | Anmeldung gilt als zurückgenommen Status aktualisiert am 07.10.2011 Datenbank zuletzt aktualisiert am 04.11.2024 | Letztes Ereignis Tooltip | 07.10.2011 | Anmeldung gilt als zurückgenommen | veröffentlicht am 09.11.2011 [2011/45] | Anmelder | Für alle benannten Staaten NXP B.V. High Tech Campus 60 5656 AG Eindhoven / NL | [2007/31] |
Frühere [2004/46] | Für alle benannten Staaten Koninklijke Philips Electronics N.V. Groenewoudseweg 1 5621 BA Eindhoven / NL | Erfinder | 01 /
LOO, Josine, J., G., P. Prof. Holstlaan 6 NL-5656 AA Eindhoven / NL | 02 /
PONOMAREV, Youri Prof. Holstlaan 6 NL-5656 AA Eindhoven / NL | 03 /
SCHAIJK, Robertus, T., F. Prof. Holstlaan 6 NL-5656 AA Eindhoven / NL | [2004/46] | Vertreter | Schouten, Marcus Maria, et al NXP B.V. Intellectual Property & Licensing High Tech Campus 60 5656 AG Eindhoven / NL | [N/P] |
Frühere [2009/44] | Schouten, Marcus Maria, et al NXP B.V. IP & L Department High Tech Campus 32 5656 AE Eindhoven / NL | ||
Frühere [2008/14] | van der Veer, Johannis Leendert, et al NXP Semiconductors Intellectual Property Department High Tech Campus 60 5656 AG Eindhoven / NL | ||
Frühere [2007/01] | Pennings, Johannes, et al NXP Semiconductors Intellectual Property Department High Tech Campus 60 5656 AG Eindhoven / NL | ||
Frühere [2004/46] | Eleveld, Koop Jan Philips Intellectual Property & Standards, P.O. Box 220 5600 AE Eindhoven / NL | Anmeldenummer, Anmeldetag | 03734785.3 | 20.01.2003 | [2004/46] | WO2003IB00136 | Prioritätsnummer, Prioritätstag | EP20020075425 | 01.02.2002 Ursprünglich veröffentlichtes Format: EP 02075425 | [2004/46] | Anmeldesprache | EN | Verfahrenssprache | EN | Veröffentlichung | Art: | A2 Anmeldung ohne Recherchenbericht | Nr.: | WO03065437 | Datum: | 07.08.2003 | Sprache: | EN | [2003/32] | Art: | A2 Anmeldung ohne Recherchenbericht | Nr.: | EP1474825 | Datum: | 10.11.2004 | Sprache: | EN | Die von der WIPO am 07.08.2003 in einer EPA-Amtssprache veröffentlichte Anmeldung tritt an die Stelle der Veröffentlichung der europäischen Patentanmeldung. | [2004/46] | Recherchenbericht(e) | Internationaler Recherchenbericht - veröffentlicht am: | EP | 13.11.2003 | Klassifikation | IPC: | H01L21/316, H01L21/8247, H01L21/28, H01L21/8234, H01L21/8238, H01L27/102 | [2004/46] | CPC: |
H01L21/823462 (EP,KR,US);
H01L21/225 (KR);
H10B41/30 (EP,US);
H01L21/02554 (KR);
H01L21/32055 (KR);
H01L21/823468 (EP,KR,US);
H01L29/40114 (EP,US);
H01L29/66825 (EP,KR,US);
H10B41/35 (EP,KR,US);
H10B69/00 (EP,US);
H01L21/02238 (EP);
H01L21/02255 (EP);
H01L21/31662 (US)
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| Benannte Vertragsstaaten | AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LI, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR [2004/46] | Erstreckungsstaaten | AL | Noch nicht entrichtet | LT | Noch nicht entrichtet | LV | Noch nicht entrichtet | MK | Noch nicht entrichtet | RO | Noch nicht entrichtet | Bezeichnung der Erfindung | Deutsch: | EINSTUFIGES VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON OXIDSCHICHTEN HOHER QUALITÄT UND UNTERSCHIEDLICHER DICKE | [2004/46] | Englisch: | METHOD AND DEVICE TO FORM HIGH QUALITY OXIDE LAYERS OF DIFFERENT THICKNESS IN ONE PROCESSING STEP | [2004/46] | Französisch: | PROCEDE ET DISPOSITIF DE FORMATION, EN UNE SEULE ETAPE DE TRAITEMENT, DE COUCHES D'OXYDES DE HAUTE QUALITE DE DIFFERENTES EPAISSEURS. | [2004/46] | Eintritt in die regionale Phase | 01.09.2004 | Nationale Grundgebühr entrichtet | 01.09.2004 | Benennungsgebühr(en) entrichtet | 01.09.2004 | Prüfungsgebühr entrichtet | Prüfungsverfahren | 01.09.2004 | Prüfungsantrag gestellt [2004/46] | 04.01.2011 | Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M04) | 17.05.2011 | Anmeldung gilt als zurückgenommen, Datum der Rechtswirksamkeit [2011/45] | 22.06.2011 | Absendung der Mitteilung, wonach die Anmeldung als zurückgenommen gilt. Grund: Erwiderung auf die Mitteilung der Prüfungsabteilung nicht fristgerecht eingegangen [2011/45] | Teilanmeldung(en) | Das Datum des ersten Bescheids der Prüfungsabteilung zu der frühesten Anmeldung, zu der ein Bescheid ergangen ist , ist 04.01.2011 | Entrichtete Gebühren | Jahresgebühr | 31.01.2005 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03 | 31.01.2006 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04 | 31.01.2007 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05 | 31.01.2008 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 06 | 02.02.2009 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 07 | 01.02.2010 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 08 | 31.01.2011 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 09 |
Ausschluss der ausschließlichen Tooltip Zuständigkeit des Einheitlichen Patentgerichts | Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts | ||
Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht. | Angeführt in | Internationale Recherche | [XA]JPS56157024 ; | [A]JPS5662366 ; | [A]JPS5975654 ; | [A]EP0465045 (AMERICAN TELEPHONE & TELEGRAPH [US]); | [XA]US5918116 (CHITTIPEDDI SAILESH [US]); | [XA]US6274429 (MISRA SUDHANSHU [US]); | [PXA]US2002127806 (CHEN WEI-WEN [TW]) | Prüfung | US4210993 | US5208175 | US5970352 |