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Auszug aus dem europäischen Patentregister

EP Übersicht: EP1474825

EP1474825 - EINSTUFIGES VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON OXIDSCHICHTEN HOHER QUALITÄT UND UNTERSCHIEDLICHER DICKE [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.]
StatusAnmeldung gilt als zurückgenommen
Status aktualisiert am  07.10.2011
Datenbank zuletzt aktualisiert am 04.11.2024
Letztes Ereignis   Tooltip07.10.2011Anmeldung gilt als zurückgenommenveröffentlicht am 09.11.2011  [2011/45]
AnmelderFür alle benannten Staaten
NXP B.V.
High Tech Campus 60
5656 AG Eindhoven / NL
[2007/31]
Frühere [2004/46]Für alle benannten Staaten
Koninklijke Philips Electronics N.V.
Groenewoudseweg 1
5621 BA Eindhoven / NL
Erfinder01 / LOO, Josine, J., G., P.
Prof. Holstlaan 6
NL-5656 AA Eindhoven / NL
02 / PONOMAREV, Youri
Prof. Holstlaan 6
NL-5656 AA Eindhoven / NL
03 / SCHAIJK, Robertus, T., F.
Prof. Holstlaan 6
NL-5656 AA Eindhoven / NL
 [2004/46]
VertreterSchouten, Marcus Maria, et al
NXP B.V.
Intellectual Property & Licensing
High Tech Campus 60
5656 AG Eindhoven / NL
[N/P]
Frühere [2009/44]Schouten, Marcus Maria, et al
NXP B.V. IP & L Department High Tech Campus 32
5656 AE Eindhoven / NL
Frühere [2008/14]van der Veer, Johannis Leendert, et al
NXP Semiconductors Intellectual Property Department High Tech Campus 60
5656 AG Eindhoven / NL
Frühere [2007/01]Pennings, Johannes, et al
NXP Semiconductors Intellectual Property Department High Tech Campus 60
5656 AG Eindhoven / NL
Frühere [2004/46]Eleveld, Koop Jan
Philips Intellectual Property & Standards, P.O. Box 220
5600 AE Eindhoven / NL
Anmeldenummer, Anmeldetag03734785.320.01.2003
[2004/46]
WO2003IB00136
Prioritätsnummer, PrioritätstagEP2002007542501.02.2002         Ursprünglich veröffentlichtes Format: EP 02075425
[2004/46]
AnmeldespracheEN
VerfahrensspracheEN
VeröffentlichungArt: A2 Anmeldung ohne Recherchenbericht
Nr.:WO03065437
Datum:07.08.2003
Sprache:EN
[2003/32]
Art: A2 Anmeldung ohne Recherchenbericht 
Nr.:EP1474825
Datum:10.11.2004
Sprache:EN
Die von der WIPO am 07.08.2003 in einer EPA-Amtssprache veröffentlichte Anmeldung tritt an die Stelle der Veröffentlichung der europäischen Patentanmeldung.
[2004/46]
Recherchenbericht(e)Internationaler Recherchenbericht - veröffentlicht am:EP13.11.2003
KlassifikationIPC:H01L21/316, H01L21/8247, H01L21/28, H01L21/8234, H01L21/8238, H01L27/102
[2004/46]
CPC:
H01L21/823462 (EP,KR,US); H01L21/225 (KR); H10B41/30 (EP,US);
H01L21/02554 (KR); H01L21/32055 (KR); H01L21/823468 (EP,KR,US);
H01L29/40114 (EP,US); H01L29/66825 (EP,KR,US); H10B41/35 (EP,KR,US);
H10B69/00 (EP,US); H01L21/02238 (EP); H01L21/02255 (EP);
H01L21/31662 (US) (-)
Benannte VertragsstaatenAT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HU,   IE,   IT,   LI,   LU,   MC,   NL,   PT,   SE,   SI,   SK,   TR [2004/46]
ErstreckungsstaatenALNoch nicht entrichtet
LTNoch nicht entrichtet
LVNoch nicht entrichtet
MKNoch nicht entrichtet
RONoch nicht entrichtet
Bezeichnung der ErfindungDeutsch:EINSTUFIGES VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON OXIDSCHICHTEN HOHER QUALITÄT UND UNTERSCHIEDLICHER DICKE[2004/46]
Englisch:METHOD AND DEVICE TO FORM HIGH QUALITY OXIDE LAYERS OF DIFFERENT THICKNESS IN ONE PROCESSING STEP[2004/46]
Französisch:PROCEDE ET DISPOSITIF DE FORMATION, EN UNE SEULE ETAPE DE TRAITEMENT, DE COUCHES D'OXYDES DE HAUTE QUALITE DE DIFFERENTES EPAISSEURS.[2004/46]
Eintritt in die regionale Phase01.09.2004Nationale Grundgebühr entrichtet 
01.09.2004Benennungsgebühr(en) entrichtet 
01.09.2004Prüfungsgebühr entrichtet 
Prüfungsverfahren01.09.2004Prüfungsantrag gestellt  [2004/46]
04.01.2011Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M04)
17.05.2011Anmeldung gilt als zurückgenommen, Datum der Rechtswirksamkeit  [2011/45]
22.06.2011Absendung der Mitteilung, wonach die Anmeldung als zurückgenommen gilt. Grund: Erwiderung auf die Mitteilung der Prüfungsabteilung nicht fristgerecht eingegangen  [2011/45]
Teilanmeldung(en)Das Datum des ersten Bescheids der Prüfungsabteilung zu der frühesten Anmeldung, zu der ein Bescheid ergangen ist , ist  04.01.2011
Entrichtete GebührenJahresgebühr
31.01.2005Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03
31.01.2006Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04
31.01.2007Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05
31.01.2008Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 06
02.02.2009Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 07
01.02.2010Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 08
31.01.2011Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 09
Ausschluss der ausschließlichen  Tooltip
Zuständigkeit des Einheitlichen
Patentgerichts
Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts
Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht.
Angeführt inInternationale Recherche[XA]JPS56157024  ;
 [A]JPS5662366  ;
 [A]JPS5975654  ;
 [A]EP0465045  (AMERICAN TELEPHONE & TELEGRAPH [US]);
 [XA]US5918116  (CHITTIPEDDI SAILESH [US]);
 [XA]US6274429  (MISRA SUDHANSHU [US]);
 [PXA]US2002127806  (CHEN WEI-WEN [TW])
PrüfungUS4210993
 US5208175
 US5970352
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