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Neue Version des Europäischen Patentregisters – Angaben zu ESZ-Verfahren im Einheitspatentregister.

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Auszug aus dem europäischen Patentregister

EP Übersicht: EP1561239

EP1561239 - VERFAHREN ZUR ATOMSCHICHTABSCHEIDUNG [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.]
StatusKein Einspruch fristgerecht eingelegt
Status aktualisiert am  02.03.2012
Datenbank zuletzt aktualisiert am 07.10.2024
Letztes Ereignis   Tooltip04.10.2013Erlöschen des Patents in einem Vertragsstaat
Neue Staaten: HU
veröffentlicht am 06.11.2013  [2013/45]
AnmelderFür alle benannten Staaten
Micron Technology, Inc.
8000 South Federal Way, MS 525
Boise, ID 83716 / US
[2011/17]
Frühere [2005/32]Für alle benannten Staaten
Micron Technology, Inc.
8000 South Federal Way, MS 525
Boise, ID 83716 / US
Erfinder01 / DOAN, Trung, Tri
101 Lausen Court
Los Gaton, CA 95032 / US
02 / BLALOCK, Guy, T.
2178 Nrth Greenvieuw Court
Eagle, ID 83616 / US
03 / SANDHU, Gurtej, S.
2964 East Parkriver Drive
Boise, ID 83706 / US
 [2005/32]
VertreterHackett, Sean James
Marks & Clerk LLP
Alpha Tower
Suffolk Street Queensway
Birmingham B1 1TT / GB
[N/P]
Frühere [2008/33]Hackett, Sean James
Marks & Clerk Alpha Tower Suffolk Street Queensway
Birmingham B1 1TT / GB
Frühere [2005/32]Hackett, Sean James
Marks & Clerk, Patent Attorneys, Alpha Tower, Suffolk Street Queensway
Birmingham B1 1TT / GB
Anmeldenummer, Anmeldetag03783399.312.11.2003
[2005/32]
WO2003US36223
Prioritätsnummer, PrioritätstagUS2002029307212.11.2002         Ursprünglich veröffentlichtes Format: US 293072
[2005/32]
AnmeldespracheEN
VerfahrensspracheEN
VeröffentlichungArt: A2 Anmeldung ohne Recherchenbericht
Nr.:WO2004044963
Datum:27.05.2004
Sprache:EN
[2004/22]
Art: A2 Anmeldung ohne Recherchenbericht 
Nr.:EP1561239
Datum:10.08.2005
Sprache:EN
Die von der WIPO am 27.05.2004 in einer EPA-Amtssprache veröffentlichte Anmeldung tritt an die Stelle der Veröffentlichung der europäischen Patentanmeldung.
[2005/32]
Art: B1 Patentschrift 
Nr.:EP1561239
Datum:27.04.2011
Sprache:EN
[2011/17]
Recherchenbericht(e)Internationaler Recherchenbericht - veröffentlicht am:EP25.11.2004
KlassifikationIPC:H01L21/285
[2005/32]
CPC:
C23C16/38 (EP,US); H01L21/20 (KR); H01L21/0228 (EP,US);
C23C16/403 (EP,US); C23C16/45542 (EP,US); C23C16/515 (EP,US);
H01L21/02274 (EP,KR,US); H01L21/28562 (EP,US); H01L21/3141 (US);
H01L21/76841 (EP,US); H01L21/02178 (EP,KR,US); H01L21/02183 (EP,KR,US);
H01L21/02186 (EP,KR,US); H01L21/02205 (EP,KR,US); H01L21/31616 (US);
H01L21/31683 (US) (-)
Benannte VertragsstaatenAT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HU,   IE,   IT,   LI,   LU,   MC,   NL,   PT,   RO,   SE,   SI,   SK,   TR [2011/17]
Frühere [2005/32]AT,  BE,  BG,  CH,  CY,  CZ,  DE,  DK,  EE,  ES,  FI,  FR,  GB,  GR,  HU,  IE,  IT,  LI,  LU,  MC,  NL,  PT,  RO,  SE,  SI,  SK,  TR 
ErstreckungsstaatenALNoch nicht entrichtet
LTNoch nicht entrichtet
LVNoch nicht entrichtet
MKNoch nicht entrichtet
Bezeichnung der ErfindungDeutsch:VERFAHREN ZUR ATOMSCHICHTABSCHEIDUNG[2005/32]
Englisch:ATOMIC LAYER DEPOSITION METHODS[2005/32]
Französisch:PROCEDES DE DEPOT DE COUCHE ATOMIQUE[2005/32]
Eintritt in die regionale Phase23.05.2005Nationale Grundgebühr entrichtet 
23.05.2005Benennungsgebühr(en) entrichtet 
23.05.2005Prüfungsgebühr entrichtet 
Prüfungsverfahren10.06.2004Antrag auf vorläufige Prüfung gestellt
mit der internationalen vorläufigen Prüfung beauftragte Behörde: US
17.05.2005Änderung durch den Anmelder (Ansprüche und/oder Beschreibung)
23.05.2005Prüfungsantrag gestellt  [2005/32]
21.05.2007Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M06)
28.11.2007Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
19.11.2010Ankündigung der Patenterteilung
09.03.2011Erteilungsgebühr entrichtet
09.03.2011Veröffentlichungs-/Druckkostengebühr entrichtet
Einspruch (Einsprüche)30.01.2012Kein Einspruch fristgerecht eingelegt [2012/14]
Entrichtete GebührenJahresgebühr
14.11.2005Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03
14.11.2006Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04
15.11.2007Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05
12.11.2008Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 06
12.11.2009Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 07
12.11.2010Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 08
Ausschluss der ausschließlichen  Tooltip
Zuständigkeit des Einheitlichen
Patentgerichts
Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts
Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht.
Erlöschen während des Einspruchsverfahrens  TooltipAT27.04.2011
BE27.04.2011
CY27.04.2011
CZ27.04.2011
DK27.04.2011
EE27.04.2011
FI27.04.2011
HU27.04.2011
NL27.04.2011
RO27.04.2011
SE27.04.2011
SI27.04.2011
SK27.04.2011
TR27.04.2011
BG27.07.2011
GR28.07.2011
ES07.08.2011
PT29.08.2011
GB12.11.2011
IE12.11.2011
LU12.11.2011
CH30.11.2011
FR30.11.2011
LI30.11.2011
MC30.11.2011
[2013/45]
Frühere [2013/44]AT27.04.2011
BE27.04.2011
CY27.04.2011
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DK27.04.2011
EE27.04.2011
FI27.04.2011
NL27.04.2011
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TR27.04.2011
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GR28.07.2011
ES07.08.2011
PT29.08.2011
GB12.11.2011
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LU12.11.2011
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SE27.04.2011
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BE27.04.2011
CY27.04.2011
CZ27.04.2011
DK27.04.2011
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CY27.04.2011
FI27.04.2011
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GR28.07.2011
ES07.08.2011
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Frühere [2011/50]CY27.04.2011
FI27.04.2011
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SI27.04.2011
GR28.07.2011
ES07.08.2011
PT29.08.2011
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FI27.04.2011
SE27.04.2011
GR28.07.2011
ES07.08.2011
PT29.08.2011
Frühere [2011/47]PT29.08.2011
Angeführt inInternationale Recherche[A]EP1167567  (APPLIED MATERIALS INC [US]) [A] 64-71 * column 5, line 19 - column 6, line 36 * * column 8, line 17 - line 35; figures 5,12,13 *;
 [A]US2002000598  (KANG SANG-BOM [KR], et al) [A] 64-71 * page 3, paragraph 40 * * page 3, paragraph 43 - page 4, paragraph 45; figures 1ab,2ab *;
 [DA]US6343565  (HONGOH TOSHIAKI [JP]) [DA] 1-50 * column 1, line 1 - column 5, line 64 * * column 6, line 48 - column 7, line 39; figures 1,2,5 *;
 [XA]WO0243114  (SIMPLUS SYSTEMS CORP [US]) [X] 51-58,62,63,72,74-80,82-86,88,90-92,94-98 * the whole document * [A] 64-71;
 [DA]US6399520  (KAWAKAMI SATORU [JP], et al) [DA] 1-50 * column 5, line 33 - column 16, line 21; figures 3-5 *;
 [XA]WO0245871  (ANGSTRON SYSTEMS INC [US]) [X] 72,75-77,83,86-88,95,98,99 * the whole document * [A] 1-50,81,93;
 [A]US2002076507  (CHIANG TONY P [US], et al) [A] 1,2,6,7,10-16,18-29,33,37-45,48-51,64 * page 8, column R, paragraph 120 - page 9, column L, paragraph 130 * * page 13, column L, paragraph 174 - page 17, column R, paragraph 221; figures 13,34-38; claim 1 *;
 [PX]US2002197856  (MATSUSE KIMIHIRO [JP], et al) [PX] 1,6-10,15-21,25-34,40-48 * page 4, column R, paragraph 49 - page 6, column L, paragraph 60 * * page 6, column R, paragraph 65 - page 8, column L, paragraph 72 * * page 9, column R, paragraph 83 - page 11, column L, paragraph 92 * * page 11, column R, paragraph 98 - paragraph 99; figures 5,7,8,12 *;
 [PX]WO03087431  (MICRON TECHNOLOGY INC [US]) [PX] 1,6-10,15-21,25-33,40-48 * the whole document *;
 [E]US2004038525  (MENG SHUANG [US], et al) [E] 51,52,62,63 * page 2, paragraph 31 - page 4, paragraph 39 * * page 6, paragraph 49 ** page 9, paragraph 83; figures 1-3 *
Das EPA übernimmt keine Gewähr für die Richtigkeit von Daten, die aus anderen Behörden stammen, und schließt insbesondere jegliche Garantie dafür aus, dass solche Daten vollständig, aktuell oder für bestimmte Zwecke geeignet sind.