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EP1534873
Europäisches Verfahren
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Auszug aus dem europäischen Patentregister
EP Übersicht: EP1534873
| EP1534873 - REPARATUR VON DEFEKTEN AUF FOTOMASKEN MIT EINEM GELADENEN TEILCHENSTRAHL UND TOPOGRAPHISCHE DATEN AUS EINEM RASTER SONDENMIKROSKOP [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.] | Status | Prüfungsverfahren läuft Status aktualisiert am 22.05.2010 Datenbank zuletzt aktualisiert am 04.11.2024 | Letztes Ereignis Tooltip | 30.09.2010 | Neuer Eintrag: Zuschlagsgebühr zur Jahresgebühr: Absendung der Mitteilung + Frist | Anmelder | Für alle benannten Staaten FEI COMPANY 5350 NE Dawson Creek Drive Hillsboro, Oregon 97124-5793 / US | [N/P] |
| Frühere [2005/22] | Für alle benannten Staaten FEI Company 5350 NE Dawson Creek Drive Hillsboro, Oregon 97124-5793 / US | Erfinder | 01 /
FERRANTI, David, C. 158 Riverdale Road Concord, MA 01742 / US | 02 /
RAY, Valery 4 Colimar Street, District Vista Hermosa Oriental Zone, Santo Domingo / DO | 03 /
SMITH, Gerald 10 Lutheran Drive Nashua, NH 03063 / US | 04 /
MUSIL, Christian R. 90 Hansell Rd New Providence, NJ 07974 / US | [2007/01] |
| Frühere [2005/22] | 01 /
FERRANTI, David, C. 158 Riverdale Road Concord, MA 01742 / US | ||
| 02 /
RAY, Valery 103 Laurel Ave. Haverhill, MA 01835 / US | |||
| 03 /
SMITH, Gerald 10 Lutheran Drive Nashua, NH 03063 / US | |||
| 04 /
MUSIL, Christian R. 353 Harvard Street, Apt. 26 Cambridge, MA 02138 / US | Vertreter | Bakker, Hendrik, et al FEI Company Patent Department P.O. Box 1745 5602 BS Eindhoven / NL | [N/P] |
| Frühere [2008/17] | Bakker, Hendrik, et al FEI Company Patent Department P.O. Box 1745 5602 BS Eindhoven / NL | ||
| Frühere [2006/42] | Bakker, Hendrik, et al FEI Company Patent Department P.O. Box 80066 5600 KA Eindhoven / NL | ||
| Frühere [2005/22] | Bakker, Hendrik FEI Company, Patent Department, Postbus 80066 5600 KA Eindhoven / NL | Anmeldenummer, Anmeldetag | 03785301.7 | 08.08.2003 | [2005/22] | WO2003US25801 | Prioritätsnummer, Prioritätstag | US20020402010P | 08.08.2002 Ursprünglich veröffentlichtes Format: US 402010 P | US20030636309 | 07.08.2003 Ursprünglich veröffentlichtes Format: US 636309 | [2005/22] | Anmeldesprache | EN | Verfahrenssprache | EN | Veröffentlichung | Art: | A2 Anmeldung ohne Recherchenbericht | Nr.: | WO2004015496 | Datum: | 19.02.2004 | Sprache: | EN | [2004/08] | Art: | A2 Anmeldung ohne Recherchenbericht | Nr.: | EP1534873 | Datum: | 01.06.2005 | Sprache: | EN | Die von der WIPO am 19.02.2004 in einer EPA-Amtssprache veröffentlichte Anmeldung tritt an die Stelle der Veröffentlichung der europäischen Patentanmeldung. | [2005/22] | Recherchenbericht(e) | Internationaler Recherchenbericht - veröffentlicht am: | US | 07.04.2005 | (Ergänzender) europäischer Recherchenbericht - versandt am: | EP | 20.08.2009 | Klassifikation | IPC: | C23C14/58 | [2005/22] | CPC: |
G03F1/74 (EP,US)
| Benannte Vertragsstaaten | DE, FR, GB [2005/48] |
| Frühere [2005/22] | AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LI, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR | Erstreckungsstaaten | AL | Noch nicht entrichtet | LT | Noch nicht entrichtet | LV | Noch nicht entrichtet | MK | Noch nicht entrichtet | Bezeichnung der Erfindung | Deutsch: | REPARATUR VON DEFEKTEN AUF FOTOMASKEN MIT EINEM GELADENEN TEILCHENSTRAHL UND TOPOGRAPHISCHE DATEN AUS EINEM RASTER SONDENMIKROSKOP | [2005/22] | Englisch: | REPAIRING DEFECTS ON PHOTOMASKS USING A CHARGED PARTICLE BEAM AND TOPOGRAPHICAL DATA FROM A SCANNING PROBE MICROSCOPE | [2005/22] | Französisch: | REPARATION DE DEFAUTS SUR DES PHOTOMASQUES A L'AIDE D'UN FAISCEAU DE PARTICULES CHARGEES ET DE DONNEES TOPOGRAPHIQUES OBTENUES A PARTIR D'UN MICROSCOPE-SONDE A BALAYAGE | [2005/22] | Eintritt in die regionale Phase | 06.01.2005 | Nationale Grundgebühr entrichtet | 06.01.2005 | Recherchengebühr entrichtet | 06.01.2005 | Benennungsgebühr(en) entrichtet | 06.01.2005 | Prüfungsgebühr entrichtet | Prüfungsverfahren | 06.01.2005 | Prüfungsantrag gestellt [2005/22] | 27.01.2010 | Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M06) | 14.09.2010 | Absendung der Mitteilung, wonach die Anmeldung als zurückgenommen gilt. Grund: Erwiderung auf die Mitteilung der Prüfungsabteilung nicht fristgerecht eingegangen | Entrichtete Gebühren | Jahresgebühr | 19.08.2005 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03 | 29.08.2006 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04 | 29.08.2007 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05 | 25.08.2008 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 06 | 25.08.2009 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 07 | Zuschlagsgebühr | Zuschlagsgebühr zur Jahresgebühr | 31.08.2010 | 08 M06 Noch nicht entrichtet |
| Ausschluss der ausschließlichen Tooltip Zuständigkeit des Einheitlichen Patentgerichts | Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts | ||
| Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht. | Angeführte Dokumente: | Recherche | [XY]US6322935 (SMITH ERYN [US]) [X] 1-10,14-24,4,5,9,18,19,24 * column 5, line 61 - column 6, line 28; figure 12 * * column 1, lines 6-10 * * column 6, lines 29-51 * * column 7, lines 19-61 * [Y] 11-13; | [Y]US6322672 (SHUMAN RICHARD F [US], et al) [Y] 11-13* the whole document * | Internationale Recherche | [Y]US5116782 (YAMAGUCHI HIROSHI [JP], et al); | [Y]US5569392 (MIYOSHI MOTOSUKE [JP], et al); | [Y]US6042738 (CASEY JR J DAVID [US], et al); | [Y]US6322672 (SHUMAN RICHARD F [US], et al); | [X]US6322935 (SMITH ERYN [US]); | [YP]US2003047691 (MUSIL CHRISTIAN R [US], et al); | [XP]US6703626 (TAKAOKA OSAMU [JP], et al); | [Y] - MORGAN ET AL., "Progress for characterization and advanced reticle repair", SOLID STATE TECHNOLOGY, (200007), XP000936450 | [Y] - NAGASHIGE ET AL., "Detection and repair of multiphase defects on alternating phase-shreft mask for DUV lithography", 19TH ANNUAL BACUS, (199909), vol. 3873, pages 127 - 136, XP008042436 DOI: http://dx.doi.org/10.1117/12.373308 |