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EP1930775
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Auszug aus dem europäischen Patentregister
EP Übersicht: EP1930775
| EP1930775 - SPÜLFLÜSSIGKEIT FÜR DIE LITHOGRAPHIE UND VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER RESISTSTRUKTUR [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.] | Status | Anmeldung zurückgenommen Status aktualisiert am 20.02.2009 Datenbank zuletzt aktualisiert am 04.11.2024 | Letztes Ereignis Tooltip | 20.02.2009 | Zurücknahme der Anmeldung | veröffentlicht am 25.03.2009 [2009/13] | Anmelder | Für alle benannten Staaten TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 150, Nakamaruko Nakahara-ku Kawasaki-shi, Kanagawa 211-0012 / JP | [2008/24] | Erfinder | 01 /
SAWADA, Yoshihiro; c/o TOKYO OHKA KOGYO CO. LTD., 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi Kana gawa; 2110012 / JP | 02 /
WAKIYA, Kazumasa; c/o TOKYO OHKA KOGYO CO. LTD., 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi Kanag awa; 2110012 / JP | 03 /
KOSHIYAMA, Jun; c/o TOKYO OHKA KOGYO CO. LTD., 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi Kanagaw a; 2110012 / JP | 04 /
MIYAMOTO, Atsushi; c/o TOKYO OHKA KOGYO CO. LTD., 150, Nakamaruko, Nakahara-ku Kawasaki-shi, Kana gawa; 2110012 / JP | 05 /
TAJIMA, Hidekazu; c/o TOKYO OHKA KOGYO CO. LTD., 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi Kanag awa; 2110012 / JP | [2008/24] | Vertreter | Hayes, Adrian Chetwynd Boult Wade Tennant Verulam Gardens 70 Gray's Inn Road London WC1X 8BT / GB | [N/P] |
| Frühere [2008/24] | Hayes, Adrian Chetwynd Boult Wade Tennant, Verulam Gardens 70 Gray's Inn Road London WC1X 8BT / GB | Anmeldenummer, Anmeldetag | 05781041.8 | 29.08.2005 | [2008/24] | WO2005JP15630 | Prioritätsnummer, Prioritätstag | JP20040254940 | 01.09.2004 Ursprünglich veröffentlichtes Format: JP 2004254940 | [2008/24] | Anmeldesprache | JA | Verfahrenssprache | EN | Veröffentlichung | Art: | A1 Anmeldung mit Recherchenbericht | Nr.: | WO2006025303 | Datum: | 09.03.2006 | Sprache: | EN | [2006/10] | Art: | A1 Anmeldung mit Recherchenbericht | Nr.: | EP1930775 | Datum: | 11.06.2008 | Sprache: | EN | Die von der WIPO am 09.03.2006 in einer EPA-Amtssprache veröffentlichte Anmeldung tritt an die Stelle der Veröffentlichung der europäischen Patentanmeldung. | [2008/24] | Recherchenbericht(e) | Internationaler Recherchenbericht - veröffentlicht am: | JP | 09.03.2006 | Klassifikation | IPC: | G03F7/32, H01L21/027 | [2008/24] | CPC: |
H01L21/0273 (EP,US);
G03F7/32 (EP,KR,US)
| Benannte Vertragsstaaten | AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LI, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR [2008/24] | Bezeichnung der Erfindung | Deutsch: | SPÜLFLÜSSIGKEIT FÜR DIE LITHOGRAPHIE UND VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER RESISTSTRUKTUR | [2008/24] | Englisch: | RINSING LIQUID FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION | [2008/24] | Französisch: | LIQUIDE DE RINÇAGE POUR LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D"UN MOTIF RÉSISTANT | [2008/24] | Eintritt in die regionale Phase | 28.03.2007 | Übersetzung eingereicht | 28.03.2007 | Nationale Grundgebühr entrichtet | 28.03.2007 | Recherchengebühr entrichtet | 28.03.2007 | Benennungsgebühr(en) entrichtet | 28.03.2007 | Prüfungsgebühr entrichtet | Prüfungsverfahren | 28.03.2007 | Prüfungsantrag gestellt [2008/24] | 14.05.2008 | Absendung der Mitteilung über einen Teilrechtsverlusts: benannte Vertragsstaat(en) AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DK, EE, ES, FI, GB, GR, HU, IE, IS, LT, LU, LV, MC, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR | 04.02.2009 | Anmeldung vom Anmelder zurückgenommen [2009/13] | Entrichtete Gebühren | Jahresgebühr | 28.08.2007 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03 | 25.03.2008 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04 |
| Ausschluss der ausschließlichen Tooltip Zuständigkeit des Einheitlichen Patentgerichts | Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts | ||
| Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht. | Angeführt in | Internationale Recherche | [Y]JPH11295902 (KAO CORP); | [Y]JPH07335519 (HITACHI LTD); | [Y]JPH07142349 (MITSUBISHI ELECTRIC CORP); | [Y]JP2003107744 (KAO CORP); | [Y]JP2004184648 (CLARIANT JAPAN KK, et al); | [Y]JP2000250229 (NEC CORP); | [Y]JP2002174908 (NIKON CORP) |