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Neue Version des Europäischen Patentregisters – Angaben zu ESZ-Verfahren im Einheitspatentregister.

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Auszug aus dem europäischen Patentregister

EP Übersicht: EP1918751

EP1918751 - Mikroskopsystem, Beobachtungsverfahren und Beobachtungsprogramm [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.]
StatusKein Einspruch fristgerecht eingelegt
Status aktualisiert am  26.11.2010
Datenbank zuletzt aktualisiert am 17.09.2024
Letztes Ereignis   Tooltip26.11.2010Kein Einspruch fristgerecht eingelegtveröffentlicht am 29.12.2010  [2010/52]
AnmelderFür alle benannten Staaten
Olympus Corporation
43-2, Hatagaya 2-chome Shibuya-ku
Tokyo 151-0072 / JP
[2008/19]
Erfinder01 / Yamada, Tatsuki
1692-11, Yamadamachi
Hachioji-shi Tokyo 193-0933 / JP
 [2008/19]
Vertretervon Hellfeld, Axel
Wuesthoff & Wuesthoff
Patentanwälte PartG mbB
Schweigerstrasse 2
81541 München / DE
[N/P]
Frühere [2009/51]von Hellfeld, Axel
Wuesthoff & Wuesthoff Patent- und Rechtsanwälte Schweigerstrasse 2
81541 München / DE
Frühere [2008/19]von Hellfeld, Axel
Wuesthoff & Wuesthoff Patent- und Rechtsanwälte Schweigerstrasse 2
D-81541 München / DE
Anmeldenummer, Anmeldetag06022728.731.10.2006
[2008/19]
AnmeldespracheEN
VerfahrensspracheEN
VeröffentlichungArt: A1 Anmeldung mit Recherchenbericht 
Nr.:EP1918751
Datum:07.05.2008
Sprache:EN
[2008/19]
Art: B1 Patentschrift 
Nr.:EP1918751
Datum:20.01.2010
Sprache:EN
[2010/03]
Recherchenbericht(e)(Ergänzender) europäischer Recherchenbericht - versandt am:EP03.04.2007
KlassifikationIPC:G02B21/00, G02B21/36
[2008/19]
CPC:
G02B21/367 (EP); G02B21/002 (EP)
Benannte VertragsstaatenDE [2009/03]
Frühere [2008/19]AT,  BE,  BG,  CH,  CY,  CZ,  DE,  DK,  EE,  ES,  FI,  FR,  GB,  GR,  HU,  IE,  IS,  IT,  LI,  LT,  LU,  LV,  MC,  NL,  PL,  PT,  RO,  SE,  SI,  SK,  TR 
Bezeichnung der ErfindungDeutsch:Mikroskopsystem, Beobachtungsverfahren und Beobachtungsprogramm[2008/19]
Englisch:Microscope system, observation method and observation program[2008/19]
Französisch:Système de microscope, procédé d'observation et programme d'observation[2008/19]
Prüfungsverfahren18.07.2007Änderung durch den Anmelder (Ansprüche und/oder Beschreibung)
18.07.2007Prüfungsantrag gestellt  [2008/19]
22.11.2007Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M06)
23.05.2008Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
08.11.2008Teilrechtsverlust, Datum der Rechtswirksamkeit: benannte Vertragsstaat(en)
19.12.2008Absendung der Mitteilung über einen Teilrechtsverlusts: benannte Vertragsstaat(en) AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR
19.02.2009Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M04)
28.04.2009Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
28.08.2009Ankündigung der Patenterteilung
10.12.2009Erteilungsgebühr entrichtet
10.12.2009Veröffentlichungs-/Druckkostengebühr entrichtet
Einspruch (Einsprüche)21.10.2010Kein Einspruch fristgerecht eingelegt [2010/52]
Entrichtete GebührenJahresgebühr
16.10.2008Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03
19.10.2009Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04
Ausschluss der ausschließlichen  Tooltip
Zuständigkeit des Einheitlichen
Patentgerichts
Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts
Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht.
Angeführte Dokumente:Recherche[X]WO9839728  (BACUS RES LAB INC [US]) [X] 1,2,5,6,3,4 * figures 1-3,9a,9b,10 * * page 7, line 2 - page 12, line 11 * * page 19, line 34 - page 23, line 32 * * page 30, line 1 - page 32, line 37 * * page 40, line 1 - page 47, line 5 *;
 [XY]EP0994433  (FAIRFIELD IMAGING LTD [GB]) [X] 1,2,5,6 * abstract * * paragraph [0018] - paragraph [0036] * * figure - * [Y] 3,4;
 [Y]WO0127678  (CELLAVISION AB [SE], et al) [Y] 1-3,5,6 * abstract * * page 2, line 2 - page 4, line 28 * * page 6, line 7 - page 8, line 25 *;
 [Y]US2005190437  (NAKAGAWA SHUJI [JP]) [Y] 1-3,5,6 * abstract * * paragraph [0027] - paragraph [0049] *;
 [Y]EP1617377  (ZEISS CARL JENA GMBH [DE]) [Y] 3,4 * abstract * * paragraph [0001] - paragraph [0005] *;
 [X]US2006204072  (WETZEL ARTHUR W [US], et al) [X] 1 * figure 1 ** paragraph [0035] - paragraph [0046] *
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