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Kurzmeldungen

Neue Version des Europäischen Patentregisters – Angaben zu ESZ-Verfahren im Einheitspatentregister.

2024-07-24

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Auszug aus dem europäischen Patentregister

EP Übersicht: EP1843079

EP1843079 - Halbleiter-Strahlungsquelle sowie Lichthärtgerät [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.]
StatusKein Einspruch fristgerecht eingelegt
Status aktualisiert am  22.12.2017
Datenbank zuletzt aktualisiert am 18.11.2024
FrüherePatent erteilt
Status aktualisiert am  13.01.2017
FrühereErteilung des Patents vorgesehen
Status aktualisiert am  03.01.2017
Letztes Ereignis   Tooltip10.07.2020Erlöschen des Patents in einem Vertragsstaat
Neue Staaten: IS
veröffentlicht am 12.08.2020  [2020/33]
AnmelderFür alle benannten Staaten
Ivoclar Vivadent AG
Bendererstrasse 2
9494 Schaan / LI
[2007/41]
Erfinder01 / Plank, Wolfgang
Hopfengarten 16
A-6830 Rankweil / AT
02 / Senn, Bruno
Wetti 41
CH-9470 Buchs / CH
 [2007/41]
VertreterBaronetzky, Klaus, et al
Splanemann
Patentanwälte Partnerschaft
Rumfordstrasse 7
80469 München / DE
[2017/07]
Frühere [2007/41]Baronetzky, Klaus, et al
Splanemann Reitzner Baronetzky Westendorp Patentanwälte Rumfordstrasse 7
80469 München / DE
Anmeldenummer, Anmeldetag07003444.219.02.2007
[2007/41]
Prioritätsnummer, PrioritätstagDE2006101537703.04.2006         Ursprünglich veröffentlichtes Format: DE102006015377
[2007/41]
AnmeldespracheDE
VerfahrensspracheDE
VeröffentlichungArt: A2 Anmeldung ohne Recherchenbericht 
Nr.:EP1843079
Datum:10.10.2007
Sprache:DE
[2007/41]
Art: A3 Recherchenbericht 
Nr.:EP1843079
Datum:09.07.2008
[2008/28]
Art: B1 Patentschrift 
Nr.:EP1843079
Datum:15.02.2017
Sprache:DE
[2017/07]
Recherchenbericht(e)(Ergänzender) europäischer Recherchenbericht - versandt am:EP05.06.2008
KlassifikationIPC:H01L25/075, // H01L33/60, H01L33/64, A61C13/15
[2016/40]
CPC:
H01L25/0753 (EP,US); A61C19/003 (EP,US); H01L2224/48091 (EP,US);
H01L2924/3025 (EP,US); H01L33/60 (EP,US); H01L33/64 (EP,US);
H01L33/648 (EP,US) (-)
C-Set:
H01L2224/48091, H01L2924/00014 (EP,US);
H01L2924/3025, H01L2924/00 (US,EP)
Frühere IPC [2007/41]F21K7/00, A61C13/15
Benannte VertragsstaatenAT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   NL,   PL,   PT,   RO,   SE,   SI,   SK,   TR [2017/07]
Frühere [2007/41]AT,  BE,  BG,  CH,  CY,  CZ,  DE,  DK,  EE,  ES,  FI,  FR,  GB,  GR,  HU,  IE,  IS,  IT,  LI,  LT,  LU,  LV,  MC,  NL,  PL,  PT,  RO,  SE,  SI,  SK,  TR 
Bezeichnung der ErfindungDeutsch:Halbleiter-Strahlungsquelle sowie Lichthärtgerät[2007/41]
Englisch:Semiconductor light source and light curing apparatus[2007/41]
Französisch:Source semi-conductrice de lumière et appareil de photo-durcissement[2007/41]
Prüfungsverfahren10.09.2008Prüfungsantrag gestellt  [2008/43]
23.10.2008Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M06)
01.05.2009Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
23.03.2015Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M06)
07.08.2015Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
22.12.2015Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M06)
08.06.2016Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
15.09.2016Ankündigung der Patenterteilung
21.12.2016Erteilungsgebühr entrichtet
21.12.2016Veröffentlichungs-/Druckkostengebühr entrichtet
21.12.2016Eingang der Übersetzungen des Patentanspruchs/der Patentansprüche
Teilanmeldung(en)Das Datum des ersten Bescheids der Prüfungsabteilung zu der frühesten Anmeldung, zu der ein Bescheid ergangen ist , ist  23.10.2008
Einspruch (Einsprüche)16.11.2017Kein Einspruch fristgerecht eingelegt [2018/04]
Entrichtete GebührenJahresgebühr
26.02.2009Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03
25.02.2010Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04
24.02.2011Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05
28.02.2012Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 06
27.02.2013Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 07
27.02.2014Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 08
26.02.2015Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 09
26.02.2016Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 10
Ausschluss der ausschließlichen  Tooltip
Zuständigkeit des Einheitlichen
Patentgerichts
Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts
Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht.
Erlöschen während des Einspruchsverfahrens  TooltipHU19.02.2007
CY15.02.2017
CZ15.02.2017
DK15.02.2017
EE15.02.2017
FI15.02.2017
LT15.02.2017
LV15.02.2017
MC15.02.2017
NL15.02.2017
PL15.02.2017
RO15.02.2017
SI15.02.2017
SK15.02.2017
TR15.02.2017
IE19.02.2017
LU19.02.2017
BE28.02.2017
BG15.05.2017
GR16.05.2017
IS15.06.2017
PT15.06.2017
[2020/33]
Frühere [2020/15]HU19.02.2007
CY15.02.2017
CZ15.02.2017
DK15.02.2017
EE15.02.2017
FI15.02.2017
LT15.02.2017
LV15.02.2017
MC15.02.2017
NL15.02.2017
PL15.02.2017
RO15.02.2017
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SK15.02.2017
TR15.02.2017
IE19.02.2017
LU19.02.2017
BE28.02.2017
BG15.05.2017
GR16.05.2017
PT15.06.2017
Frühere [2019/46]HU19.02.2007
CY15.02.2017
CZ15.02.2017
DK15.02.2017
EE15.02.2017
FI15.02.2017
LT15.02.2017
LV15.02.2017
MC15.02.2017
NL15.02.2017
PL15.02.2017
RO15.02.2017
SI15.02.2017
SK15.02.2017
IE19.02.2017
LU19.02.2017
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DK15.02.2017
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LV15.02.2017
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GR16.05.2017
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LV15.02.2017
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