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EP3844318
Europäisches Verfahren
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Auszug aus dem europäischen Patentregister
EP Übersicht: EP3844318
| EP3844318 - VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SILICIUM- UND STICKSTOFFHALTIGEN SCHICHTEN [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.] | Status | Prüfungsverfahren läuft Status aktualisiert am 17.11.2023 Datenbank zuletzt aktualisiert am 17.09.2024 | |
| Frühere | Prüfungsantrag gestellt Status aktualisiert am 04.06.2021 | ||
| Frühere | Veröffentlichung bereits erfolgt Status aktualisiert am 11.04.2020 | Letztes Ereignis Tooltip | 13.09.2024 | Neuer Eintrag: Jahresgebühr entrichtet | Anmelder | Für alle benannten Staaten Versum Materials US, LLC 8555 S. River Parkway Tempe, AZ 85284 / US | [2021/27] | Erfinder | 01 /
LEI, Xinjian 8555 S. River Parkway Tempe, AZ 85284 / US | 02 /
KIM, Moo-sung 8555 S. River Parkway Tempe, AZ 85284 / US | 03 /
LEE, Se-won 8555 S. River Parkway Tempe, AZ 85284 / US | [2021/27] | Vertreter | Sommer, Andrea Andrea Sommer Patentanwälte Partnerschaft mbB Uhlandstraße 2 80336 München / DE | [N/P] |
| Frühere [2021/27] | Sommer, Andrea Andrea Sommer Patentanwälte PartG mbB Uhlandstraße 2 80336 München / DE | Anmeldenummer, Anmeldetag | 19869361.6 | 02.10.2019 | [2021/27] | WO2019US54268 | Prioritätsnummer, Prioritätstag | US201862740478P | 03.10.2018 Ursprünglich veröffentlichtes Format: US 201862740478 P | [2021/27] | Anmeldesprache | EN | Verfahrenssprache | EN | Veröffentlichung | Art: | A1 Anmeldung mit Recherchenbericht | Nr.: | WO2020072625 | Datum: | 09.04.2020 | Sprache: | EN | [2020/15] | Art: | A1 Anmeldung mit Recherchenbericht | Nr.: | EP3844318 | Datum: | 07.07.2021 | Sprache: | EN | Die von der WIPO am 09.04.2020 in einer EPA-Amtssprache veröffentlichte Anmeldung tritt an die Stelle der Veröffentlichung der europäischen Patentanmeldung. | [2021/27] | Recherchenbericht(e) | Internationaler Recherchenbericht - veröffentlicht am: | KR | 09.04.2020 | (Ergänzender) europäischer Recherchenbericht - versandt am: | EP | 04.05.2022 | Klassifikation | IPC: | H01L21/02, C23C16/455, C23C16/34, C23C16/56, C23C16/36, C23C16/505, C07F7/12 | [2022/22] | CPC: |
H01L21/0228 (EP,KR,US);
C23C16/45553 (EP,KR,US);
C07F7/12 (EP,KR);
C23C16/308 (US);
C23C16/345 (EP,KR,US);
C23C16/36 (EP,US);
C23C16/45531 (EP,US);
C23C16/45536 (KR);
C23C16/45542 (EP,US);
C23C16/505 (EP,US);
C23C16/56 (EP,KR,US);
H01L21/02126 (EP);
H01L21/0214 (EP,US);
H01L21/02167 (EP);
H01L21/0217 (EP,KR,US);
H01L21/02208 (US);
H01L21/02211 (EP);
H01L21/02219 (KR);
H01L21/02274 (EP);
H01L21/02326 (EP,US);
H01L21/0234 (EP,US);
H01L21/02348 (US)
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| Frühere IPC [2021/27] | C23C16/455, C23C16/34, C23C16/56, H01L21/02, C07F7/12 | Benannte Vertragsstaaten | AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LI, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR [2021/27] | Bezeichnung der Erfindung | Deutsch: | VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SILICIUM- UND STICKSTOFFHALTIGEN SCHICHTEN | [2021/27] | Englisch: | METHODS FOR MAKING SILICON AND NITROGEN CONTAINING FILMS | [2021/27] | Französisch: | PROCÉDÉS DE FABRICATION DE FILMS CONTENANT DU SILICIUM ET DE L'AZOTE | [2021/27] | Eintritt in die regionale Phase | 31.03.2021 | Nationale Grundgebühr entrichtet | 31.03.2021 | Recherchengebühr entrichtet | 31.03.2021 | Benennungsgebühr(en) entrichtet | 31.03.2021 | Prüfungsgebühr entrichtet | Prüfungsverfahren | 31.03.2021 | Prüfungsantrag gestellt [2021/27] | 03.06.2022 | Änderung durch den Anmelder (Ansprüche und/oder Beschreibung) | 17.11.2023 | Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M04) | 15.03.2024 | Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung | Entrichtete Gebühren | Jahresgebühr | 29.09.2021 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03 | 15.09.2022 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04 | 13.09.2023 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05 | 12.09.2024 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 06 |
| Ausschluss der ausschließlichen Tooltip Zuständigkeit des Einheitlichen Patentgerichts | Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts | ||
| Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht. | Angeführte Dokumente: | Recherche | [XAY]KR20180010994 (DNF CO LTD [KR]); | [XYI]US2018033614 (CHANDRA HARIPIN [US], et al); | US2019249296 [ ] (JANG SE JIN [KR], et al) | Internationale Recherche | [X]US2011256734 (HAUSMANN DENNIS M [US], et al) [X] 8-12,23-24; | [X]US2013078376 (HIGASHINO KATSUKO [US], et al)[X] 23-24; | [YX]WO2016149541 (APPLIED MATERIALS INC [US]) [Y] 18-20 [X] 23-24; | [YX]US2018033614 (CHANDRA HARIPIN [US], et al) [Y] 1-7,13-20,22 [X] 21,23-24; | [YX]KR20180034581 (VERSUM MAT US LLC [US]) [Y] 1-7,13-20,22 [X] 23-24 | vom Anmelder | US5069244 | JP2000100812 | US6077356 | US6355582 | US7334595 | US2009155606 | KR20180010994 | US2018033614 | WO2018057677 | WO2018063907 | US9984868 | US10049882 | - OLSEN, "Analysis of LPCVD Process Conditions for the Deposition of Low Stress Silicon Nitride", Materials Science in Semiconductor Process, (20020000), vol. 5, doi:10.1016/S1369-8001(02)00058-6, page 51, XP004383353 DOI: http://dx.doi.org/10.1016/S1369-8001(02)00058-6 | - TAYLOR et al., "Hexachlorodisilane as a Precursor in the LPCVD of Silicon Dioxide and Silicon Oxynitride Films", J. Electrochem. Soc., (19890000), vol. 136, page 2382, XP000117260 | - M. TANAKA et al., "Film Properties of Low-k Silicon Nitride Films Formed by Hexachlorodisilane and Ammonia", J. Electrochem. Soc., (20000000), vol. 147, page 2284 |