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Auszug aus dem europäischen Patentregister

EP Übersicht: EP4037440

EP4037440 - PLASMAERZEUGUNGSVORRICHTUNG UND PLASMABESTRAHLUNGSVERFAHREN [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.]
StatusPrüfungsverfahren läuft
Status aktualisiert am  17.05.2024
Datenbank zuletzt aktualisiert am 14.09.2024
FrüherePrüfungsantrag gestellt
Status aktualisiert am  01.07.2022
FrühereVeröffentlichung bereits erfolgt
Status aktualisiert am  03.04.2021
Letztes Ereignis   Tooltip04.09.2024Neuer Eintrag: Erwiderung auf den Prüfungsbericht 
AnmelderFür alle benannten Staaten
Fuji Corporation
19, Chausuyama
Yamamachi
Chiryu-shi, Aichi 472-8686 / JP
[2022/31]
Erfinder01 / IKEDO, Toshiyuki
c/o FUJI CORPORATION, 19 Chausuyama, Yamamachi
Chiryu-shi, Aichi 472-8686 / JP
02 / IWATA, Takuya
c/o FUJI CORPORATION, 19 Chausuyama, Yamamachi
Chiryu-shi, Aichi 472-8686 / JP
03 / SHIRAKI, Soichi
c/o FUJI CORPORATION, 19 Chausuyama, Yamamachi
Chiryu-shi, Aichi 472-8686 / JP
 [2022/31]
VertreterGrünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB
Leopoldstraße 4
80802 München / DE
[2022/31]
Anmeldenummer, Anmeldetag19947409.927.09.2019
[2022/31]
WO2019JP38099
AnmeldespracheJA
VerfahrensspracheEN
VeröffentlichungArt: A1 Anmeldung mit Recherchenbericht
Nr.:WO2021059469
Datum:01.04.2021
Sprache:JA
[2021/13]
Art: A1 Anmeldung mit Recherchenbericht 
Nr.:EP4037440
Datum:03.08.2022
Sprache:EN
[2022/31]
Recherchenbericht(e)Internationaler Recherchenbericht - veröffentlicht am:JP01.04.2021
(Ergänzender) europäischer Recherchenbericht - versandt am:EP17.10.2022
KlassifikationIPC:H05H1/26, H05H1/46
[2022/37]
CPC:
H05H1/466 (EP); H05H1/341 (EP)
Frühere IPC [2022/31]H05H1/26
Benannte VertragsstaatenAL,   AT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   RS,   SE,   SI,   SK,   SM,   TR [2022/31]
Bezeichnung der ErfindungDeutsch:PLASMAERZEUGUNGSVORRICHTUNG UND PLASMABESTRAHLUNGSVERFAHREN[2022/31]
Englisch:PLASMA GENERATION DEVICE AND PLASMA TREATMENT METHOD[2022/31]
Französisch:DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE PLASMA ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PAR PLASMA[2022/31]
Eintritt in die regionale Phase23.03.2022Übersetzung eingereicht 
23.03.2022Nationale Grundgebühr entrichtet 
23.03.2022Recherchengebühr entrichtet 
23.03.2022Benennungsgebühr(en) entrichtet 
23.03.2022Prüfungsgebühr entrichtet 
Prüfungsverfahren23.03.2022Prüfungsantrag gestellt  [2022/31]
08.05.2023Änderung durch den Anmelder (Ansprüche und/oder Beschreibung)
08.05.2023Datum, an dem die Prüfungsabteilung zuständig geworden ist
17.05.2024Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M04)
04.09.2024Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
Entrichtete GebührenJahresgebühr
23.03.2022Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03
26.08.2022Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04
24.08.2023Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05
13.08.2024Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 06
Ausschluss der ausschließlichen  Tooltip
Zuständigkeit des Einheitlichen
Patentgerichts		 Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts
Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht.
Angeführte Dokumente:Recherche[A]US3830428  (DYOS G) [A] 2-5 * figures 1-3 ** column 2, line 62 - column 4, line 48 *;
 [A]JPS56126981U  (HITACHI SEIKO, LTD.) [A] 1,6 * figures 1,2 * * page 1, line 1 - page 9, line 10 *;
 [A]JPS57165370U  (HITACHI SEIKO, LTD.) [A] 1,6 * figures 2, 3 * * page 1, line 1 - page 12, line 1 *;
 [A]US5220150  (PFENDER EMIL [US], et al) [A] 2-5 * figures 1,2 * * column 2, line 38 - column 4, line 57 *;
 [X]JPH05174994  (ORIGIN ELECTRIC) [X] 1,6 * figures 1-4 * * page 2 - page 4 *;
 [XI]JPH08294779  (KOIKE SANSO KOGYO KK) [X] 2-4 * figures 1-2 * * paragraph [0001] - paragraph [0050] * [I] 5;
 [X]EP1893004  (THERMAL DYNAMICS CORP [US]) [X] 1,6 * figures 1-13 * * paragraph [0014] - paragraph [0032] *;
 [X]JP2010212182  (JAPAN RADIO CO LTD) [X] 1,6 * paragraph [0001] - paragraph [0072] * * figures 1-6 *;
 [A]WO2019180839  (FUJI CORP [JP]) [A] 1,6 * figures 1,3,5 *
Internationale Recherche[Y]JPS56126981U  (HITACHI SEIKO, LTD.) [Y] 1, 6 * , page 8, lines 1-4 (Family: none) *;
 [Y]JPS57165370U  (HITACHI SEIKO, LTD.) [Y] 2-5* , page 7, lines 13-15, page 7, line 18 to page 8, line 4, fig. 2 (Family: none) *;
 [XA]JPH05174994  (ORIGIN ELECTRIC) [X] 1-4 * , examples, fig. 1-2 (Family: none) * [A] 5-6;
 [Y]WO2019180839  (FUJI CORP [JP]) [Y] 1-6 * , paragraphs [0021], [0024], fig. 2-3 (Family: none) *
vom AnmelderWO2015141768
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