Auszug aus dem europäischen Patentregister

EP Übersicht: EP3767683

EP3767683 - TRANSISTOR MIT HOHER ELEKTRONENBEWEGLICHKEIT UND SEIN HERSTELLUNGSVERFAHREN [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.]
StatusPrüfungsverfahren läuft
Status aktualisiert am  02.12.2022
Datenbank zuletzt aktualisiert am 10.03.2026
FrüherePrüfungsantrag gestellt
Status aktualisiert am  23.07.2021
FrühereAnmeldung veröffentlicht
Status aktualisiert am  18.12.2020
Letztes Ereignis   Tooltip16.04.2025Neuer Eintrag: Jahresgebühr entrichtet 
AnmelderFür alle benannten Staaten
United Microelectronics Corp.
No.3, Li-Hsin Road 2
Science-Based Industrial Park
Hsin-Chu City 300 / TW
[2024/43]
Frühere [2021/03]Für alle benannten Staaten
United Microelectronics Corp.
No. 3, Lin-Hsin Rd. 2
Science-Based Industrial Park
Hsin-Chu City 300 / TW
Erfinder01 / LEE, Kuo-Hsing
5F.-2, No.16, Ln. 120, Ziyou St., Zhudong Township
310 Hsinchu County / TW
02 / SHENG, Yi-Chung
6F., No.92, Dongxing Rd.
701 Tainan City / TW
03 / HSUEH, Sheng-Yuan
No.273, Wencheng 1st Rd.
70465 Tainan City / TW
04 / KANG, Chih-Kai
No.18, Daxin Rd., Xinhua Dist.
71247 Tainan City / TW
05 / HUANG, Guan-Kai
No.17, Aly. 27, Ln. 53, Sec. 2, Zhonghua N. Rd.
North Dist.
704 Tainan City / TW
06 / WU, Chien-Liang
No. 15, Ziqiang Rd. Xinwei Vil., Yanpu Township
907 Pingtung County / TW
 [2021/03]
VertreterIsarpatent
Patent- und Rechtsanwälte Barth
Charles Hassa Peckmann & Partner mbB
Friedrichstrasse 31
80801 München / DE
[N/P]
Frühere [2021/03]Isarpatent
Patent- und Rechtsanwälte Behnisch Barth Charles
Hassa Peckmann & Partner mbB
Friedrichstrasse 31
80801 München / DE
Anmeldenummer, Anmeldetag20168434.707.04.2020
[2021/03]
Prioritätsnummer, PrioritätstagCN20191064909818.07.2019         Ursprünglich veröffentlichtes Format: CN201910649098
[2021/03]
AnmeldespracheEN
VerfahrensspracheEN
VeröffentlichungArt: A1 Anmeldung mit Recherchenbericht 
Nr.:EP3767683
Datum:20.01.2021
Sprache:EN
[2021/03]
Recherchenbericht(e)(Ergänzender) europäischer Recherchenbericht - versandt am:EP22.09.2020
KlassifikationIPC:H01L29/778, H01L21/337, H01L21/336, H01L29/06, H01L29/40, // H01L29/10, H01L29/207, H01L29/423, H01L29/417, H01L29/20
[2021/03]
CPC:
H10D30/4755 (EP,CN,US); H10D30/015 (EP,CN,US); H10D62/106 (EP);
H10D64/111 (EP); H10D64/411 (CN); H10D62/343 (EP);
H10D62/8503 (EP,CN); H10D62/854 (EP); H10D64/256 (EP,CN);
H10D64/513 (EP) (-)
Benannte VertragsstaatenAL,   AT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   RS,   SE,   SI,   SK,   SM,   TR [2021/34]
Frühere [2021/03]AL,  AT,  BE,  BG,  CH,  CY,  CZ,  DE,  DK,  EE,  ES,  FI,  FR,  GB,  GR,  HR,  HU,  IE,  IS,  IT,  LI,  LT,  LU,  LV,  MC,  MK,  MT,  NL,  NO,  PL,  PT,  RO,  RS,  SE,  SI,  SK,  SM,  TR 
ErstreckungsstaatenBANoch nicht entrichtet
MENoch nicht entrichtet
Validierungsstaat(en)KHNoch nicht entrichtet
MANoch nicht entrichtet
MDNoch nicht entrichtet
TNNoch nicht entrichtet
Bezeichnung der ErfindungDeutsch:TRANSISTOR MIT HOHER ELEKTRONENBEWEGLICHKEIT UND SEIN HERSTELLUNGSVERFAHREN[2021/03]
Englisch:HIGH ELECTRON MOBILITY TRANSISTOR (HEMT) AND FORMING METHOD THEREOF[2021/03]
Französisch:TRANSISTOR À HAUTE MOBILITÉ ÉLECTRONIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION[2021/03]
Prüfungsverfahren19.07.2021Änderung durch den Anmelder (Ansprüche und/oder Beschreibung)
19.07.2021Prüfungsantrag gestellt  [2021/34]
19.07.2021Datum, an dem die Prüfungsabteilung zuständig geworden ist
02.12.2022Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M04)
10.02.2023Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
Entrichtete GebührenJahresgebühr
21.03.2022Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03
21.03.2023Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04
21.03.2024Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05
15.04.2025Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 06
Ausschluss der ausschließlichen  Tooltip
Zuständigkeit des Einheitlichen
Patentgerichts
Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts
Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht.
Angeführte Dokumente:Recherche[XI] US2013193485  (AKIYAMA SHINICHI et al.) [X] 1-3,6-15 * e.g. figure 15 and associated text * * figures 8B-C, E, 14D-E, G-H *[I] 4,5
 [XI]   SHENG JIANG ET AL: "All-GaN-Integrated Cascode Heterojunction Field Effect Transistors", IEEE TRANSACTIONS ON POWER ELECTRONICS, vol. 32, no. 11, November 2017 (2017-11-01), USA, pages 8743 - 8750, XP055691900, ISSN: 0885-8993, DOI: 10.1109/TPEL.2016.2643499 [X] 1,2,4-7,9-11,13,14 * figure 2(a) * * part II.A *[I] 3,8,12,15

DOI:   http://dx.doi.org/10.1109/TPEL.2016.2643499
PrüfungUS2016336313
 US2009032820
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