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Neue Version des Europäischen Patentregisters – Angaben zu ESZ-Verfahren im Einheitspatentregister.

2024-07-24

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Auszug aus dem europäischen Patentregister

EP Übersicht: EP4300591

EP4300591 - SIGE:GAB-QUELLEN- ODER -DRAIN-STRUKTUREN MIT NIEDRIGEM WIDERSTAND [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.]
StatusPrüfungsantrag gestellt
Status aktualisiert am  05.07.2024
Datenbank zuletzt aktualisiert am 17.09.2024
FrühereAnmeldung veröffentlicht
Status aktualisiert am  01.12.2023
Letztes Ereignis   Tooltip05.07.2024Das Datum, an dem die Prüfungsabteilung zuständig geworden ist, wurde festgestellt 
05.07.2024Prüfungsantrag gestelltveröffentlicht am 07.08.2024  [2024/32]
05.07.2024Änderung - benannte Staatenveröffentlicht am 07.08.2024  [2024/32]
AnmelderFür alle benannten Staaten
INTEL Corporation
2200 Mission College Blvd.
Santa Clara, CA 95054 / US
[2024/01]
Erfinder01 / NANDI, Debaleena
Hillsboro, 97124 / US
02 / ZIGONEANU, Imola
Portland, 97229 / US
03 / DEWEY, Gilbert
Beaverton, 97006 / US
04 / JAHAGIRDAR, Anant H.
Portland, 97229 / US
05 / KENNEL, Harold W.
Portland, 97223 / US
06 / PATEL, Pratik
Portland, 97229 / US
07 / MURTHY, Anand
Portland, 97229 / US
08 / CHOI, Chi-Hing
Portland, 97229 / US
09 / KOBRINSKY, Mauro J.
Portland, 97229 / US
10 / GHANI, Tahir
Portland, 97229 / US
 [2024/01]
Vertreter2SPL Patentanwälte PartG mbB
Landaubogen 3
81373 München / DE
[2024/01]
Anmeldenummer, Anmeldetag23173199.312.05.2023
[2024/01]
Prioritätsnummer, PrioritätstagUS20221785078227.06.2022         Ursprünglich veröffentlichtes Format: US202217850782
[2024/01]
AnmeldespracheEN
VerfahrensspracheEN
VeröffentlichungArt: A1 Anmeldung mit Recherchenbericht 
Nr.:EP4300591
Datum:03.01.2024
Sprache:EN
[2024/01]
Recherchenbericht(e)(Ergänzender) europäischer Recherchenbericht - versandt am:EP17.11.2023
KlassifikationIPC:H01L29/78, H01L29/08, H01L29/66
[2024/01]
CPC:
H01L29/785 (EP); H01L27/0886 (US); H01L21/26513 (EP);
H01L21/268 (EP); H01L21/28518 (EP); H01L29/0847 (EP,US);
H01L29/161 (EP,US); H01L29/165 (EP); H01L29/167 (EP,US);
H01L29/41791 (US); H01L29/45 (EP); H01L29/66795 (EP,US);
H01L29/7848 (EP); H01L29/7851 (US); H01L29/665 (EP);
H01L29/66545 (EP) (-)
Benannte VertragsstaatenAL,   AT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   ME,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   RS,   SE,   SI,   SK,   SM,   TR [2024/32]
Frühere [2024/01]AL,  AT,  BE,  BG,  CH,  CY,  CZ,  DE,  DK,  EE,  ES,  FI,  FR,  GB,  GR,  HR,  HU,  IE,  IS,  IT,  LI,  LT,  LU,  LV,  MC,  ME,  MK,  MT,  NL,  NO,  PL,  PT,  RO,  RS,  SE,  SI,  SK,  SM,  TR 
ErstreckungsstaatenBANoch nicht entrichtet
Validierungsstaat(en)KHNoch nicht entrichtet
MANoch nicht entrichtet
MDNoch nicht entrichtet
TNNoch nicht entrichtet
Bezeichnung der ErfindungDeutsch:SIGE:GAB-QUELLEN- ODER -DRAIN-STRUKTUREN MIT NIEDRIGEM WIDERSTAND[2024/01]
Englisch:SIGE:GAB SOURCE OR DRAIN STRUCTURES WITH LOW RESISTIVITY[2024/01]
Französisch:STRUCTURES SOURCE OU DRAIN SIGE:GAB A FAIBLE RESISTIVITE[2024/01]
Prüfungsverfahren01.07.2024Änderung durch den Anmelder (Ansprüche und/oder Beschreibung)
03.07.2024Prüfungsantrag gestellt  [2024/32]
03.07.2024Datum, an dem die Prüfungsabteilung zuständig geworden ist
Ausschluss der ausschließlichen  Tooltip
Zuständigkeit des Einheitlichen
Patentgerichts
Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts
Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht.
Angeführte Dokumente:Recherche[I]US2017352762  (YANG CHENG-YU [TW], et al) [I] 1-15 * paragraph [0043] * * paragraph [0045] * * paragraph [0047] - paragraph [0048] * * paragraph [0065] *;
 [I]US2018261597  (ADUSUMILLI PRANEET [US], et al) [I] 1-15 * paragraph [0025] * * paragraph [0020] * * paragraph [0036] - paragraph [0037] * * paragraph [0047] - paragraph [0051] * * paragraph [0057] * * paragraph [0032] *;
 [I]US2019097051  (TSAI CHUN-HSIUNG [TW], et al) [I] 1-15 * paragraph [0050] * * paragraph [0055] * * paragraph [0063] - paragraph [0064] *;
 [I]US2019157269  (KOH SHAO-MING [TW], et al) [I] 1-15 * paragraph [0036] * * paragraph [0038]; figure 16A *;
 [I]US2019165124  (MORE SHAHAJI B [TW], et al) [I] 1-15 * paragraph [0027] * * paragraph [0029] - paragraph [0030] * * paragraph [0037] *;
 [A]US2019221565  (GLUSCHENKOV OLEG [US], et al) [A] 1-15* paragraph [0028] *;
 [A]US2020312959  (BOMBERGER CORY [US], et al) [A] 9 * paragraph [0047] * * paragraph [0050] - paragraph [0051] *
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