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Auszug aus dem europäischen Patentregister

EP Übersicht: EP0148470

EP0148470 - Planar-Magnetron-Kathodenzerstaubung mit veränderter Feldgestaltung [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.]
StatusKein Einspruch fristgerecht eingelegt
Status aktualisiert am  09.01.1992
Datenbank zuletzt aktualisiert am 14.09.2024
Letztes Ereignis   Tooltip15.08.2008Änderung - Vertreterveröffentlicht am 17.09.2008  [2008/38]
AnmelderFür alle benannten Staaten
Hitachi, Ltd.
6, Kanda Surugadai 4-chome
Chiyoda-ku
Tokyo / JP
[N/P]
Frühere [1985/29]Für alle benannten Staaten
HITACHI, LTD.
6, Kanda Surugadai 4-chome
Chiyoda-ku, Tokyo 100 / JP
Erfinder01 / Kobayashi, Shigeru
31-3, Hanegi-1-chome Setagaya-ku
Tokyo / JP
02 / Abe, Katsuo
2-12, Take-5-chome
Yokosuka-shi / JP
03 / Sakata, Masao
Fujimiryo, 1545, Yoshidacho
Totsuka-ku Yokohama / JP
04 / Kasahara, Osamu
8-9, Higashikoigakubo-3-chome
Kokubunji-shi / JP
05 / Ogishi, Hidetsugu
1018-16, Inumecho
Hachioji-shi / JP
[1985/29]
VertreterBeetz & Partner mbB
Patentanwälte
Prinzregentenstraße 54
80538 München / DE
[N/P]
Frühere [2008/38]Beetz & Partner
Patentanwälte Steinsdorfstrasse 10
80538 München / DE
Frühere [1985/29]Patentanwälte Beetz - Timpe - Siegfried Schmitt-Fumian - Mayr
Steinsdorfstrasse 10
D-80538 München / DE
Anmeldenummer, Anmeldetag84115772.019.12.1984
[1985/29]
Prioritätsnummer, PrioritätstagJP1983023988421.12.1983         Ursprünglich veröffentlichtes Format: JP 23988483
JP1983024384326.12.1983         Ursprünglich veröffentlichtes Format: JP 24384383
JP1983024384426.12.1983         Ursprünglich veröffentlichtes Format: JP 24384483
[1985/29]
AnmeldespracheEN
VerfahrensspracheEN
VeröffentlichungArt: A2 Anmeldung ohne Recherchenbericht 
Nr.:EP0148470
Datum:17.07.1985
Sprache:EN
[1985/29]
Art: A3 Recherchenbericht 
Nr.:EP0148470
Datum:16.07.1986
Sprache:EN
[1986/29]
Art: B1 Patentschrift 
Nr.:EP0148470
Datum:02.08.1989
Sprache:EN
[1989/31]
Recherchenbericht(e)(Ergänzender) europäischer Recherchenbericht - versandt am:EP29.05.1986
KlassifikationIPC:H01J37/34
[1985/29]
CPC:
H01J37/3429 (EP,US); C23C14/34 (KR); H01J37/3408 (EP,US);
H01J37/3458 (EP,US)
Benannte VertragsstaatenDE,   FR,   GB [1985/29]
Bezeichnung der ErfindungDeutsch:Planar-Magnetron-Kathodenzerstaubung mit veränderter Feldgestaltung[1985/29]
Englisch:Planar magnetron sputtering with modified field configuration[1985/29]
Französisch:Pulvérisation cathodique à magnétron planaire à configuration de champ modifiée[1985/29]
Prüfungsverfahren21.07.1986Prüfungsantrag gestellt  [1986/38]
22.01.1988Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M06)
26.07.1988Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
31.10.1988Absendung der Ankündigung der Erteilung (Einverständnis: Ja)
27.01.1989Ankündigung der Patenterteilung
03.03.1989Erteilungsgebühr entrichtet
03.03.1989Veröffentlichungs-/Druckkostengebühr entrichtet
Einspruch (Einsprüche)03.05.1990Kein Einspruch fristgerecht eingelegt [1992/09]
Entrichtete GebührenJahresgebühr
18.12.1986Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03
17.12.1987Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04
27.12.1988Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05
Ausschluss der ausschließlichen  Tooltip
Zuständigkeit des Einheitlichen
Patentgerichts
Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts
Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht.
Angeführte Dokumente:Recherche[AD]EP0070574  (HITACHI LTD [JP]);
 [A]US4391697  (MORRISON JR CHARLES F)
PrüfungUS4265729
 EP0081176
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