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EP0233333
Europäisches Verfahren
Auszug aus dem europäischen Patentregister
EP Übersicht: EP0233333
| EP0233333 - Photolack-Behandlungsverfahren [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.] | Status | Einspruch zurückgewiesen Status aktualisiert am 06.12.1996 Datenbank zuletzt aktualisiert am 02.04.2025 | Letztes Ereignis Tooltip | 19.09.2008 | Änderung - Vertreter | veröffentlicht am 22.10.2008 [2008/43] | Anmelder | Für alle benannten Staaten USHIO DENKI Asahi-Tokai Building 19 No. 6-1, 2-chome Ote-machi Chiyoda-ku Tokyo, 100 / JP | [1987/35] | Erfinder | 01 /
Tanaka, Kazuya USHIO DENKI 6409 motoishikawa-cho Midori-ku Yokohama-shi Kanagawa / JP | 02 /
Ueki, Kazuyoshi USHIO DENKI 6409 motoishikawa-cho Midori-ku Yokohama-shi Kanagawa / JP | 03 /
Suzuki, Hiroko USHIO DENKI 6409 motoishikawa-cho Midori-ku Yokohama-shi Kanagawa / JP | 04 /
Mimura, Yoshiki USHIO DENKI 6409 motoishikawa-cho Midori-ku Yokohama-shi Kanagawa / JP | 05 /
Suzuki, Shinji USHIO DENKI 6409 motoishikawa-cho Midori-ku Yokohama-shi Kanagawa / JP | 06 /
Sugioka, Shinji USHIO DENKI 6409 motoishikawa-cho Midori-ku Yokohama-shi Kanagawa / JP | [1987/35] | Vertreter | Lang, Friedrich, et al Lang & Tomerius Patentanwaltspartnerschaft mbB Rosa-Bavarese-Strasse 5 80639 München / DE | [N/P] |
| Frühere [2008/43] | Lang, Friedrich, et al Lang & Tomerius Patentanwälte Landsberger Strasse 300 80687 München / DE | ||
| Frühere [1995/34] | Lang, Friedrich, Dipl.-Ing., et al Patentanwälte Weber & Heim Irmgardstrasse 3 D-81479 München / DE | ||
| Frühere [1995/33] | Lang, Friedrich, Dipl.-Ing. Patentanwälte Weber & Heim Hofbrunnstrasse 36 D-81479 München / DE | ||
| Frühere [1988/28] | Betten, Jürgen, Dipl.-Ing. Betten & Resch Patentanwälte Reichenbachstrasse 19 D-80469 München / DE | ||
| Frühere [1987/35] | Betten, Jürgen Dipl.-Ing. Betten & Gleiss Patentanwälte Reichenbachstrasse 19 D-8000 München 5 / DE | Anmeldenummer, Anmeldetag | 86116308.7 | 25.11.1986 | [1987/35] | Prioritätsnummer, Prioritätstag | JP19860028774 | 14.02.1986 Ursprünglich veröffentlichtes Format: JP 2877486 | [1987/35] | Anmeldesprache | EN | Verfahrenssprache | EN | Veröffentlichung | Art: | A2 Anmeldung ohne Recherchenbericht | Nr.: | EP0233333 | Datum: | 26.08.1987 | Sprache: | EN | [1987/35] | Art: | A3 Recherchenbericht | Nr.: | EP0233333 | Datum: | 24.02.1988 | Sprache: | EN | [1988/08] | Art: | B1 Patentschrift | Nr.: | EP0233333 | Datum: | 10.02.1993 | Sprache: | EN | [1993/06] | Recherchenbericht(e) | (Ergänzender) europäischer Recherchenbericht - versandt am: | EP | 06.01.1988 | Klassifikation | IPC: | G03F7/26 | [1987/35] | CPC: |
G03F7/2022 (EP)
| Benannte Vertragsstaaten | DE, GB, NL [1987/35] | Bezeichnung der Erfindung | Deutsch: | Photolack-Behandlungsverfahren | [1987/35] | Englisch: | Method of treating photoresists | [1987/35] | Französisch: | Procédé de traitement de photoréserves | [1987/35] | Prüfungsverfahren | 24.07.1988 | Prüfungsantrag gestellt [1988/42] | 25.09.1990 | Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M06) | 21.03.1991 | Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung | 16.07.1991 | Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M04) | 21.11.1991 | Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung | 28.04.1992 | Absendung der Ankündigung der Erteilung (Einverständnis: Ja) | 12.08.1992 | Ankündigung der Patenterteilung | 28.09.1992 | Erteilungsgebühr entrichtet | 28.09.1992 | Veröffentlichungs-/Druckkostengebühr entrichtet | Einspruch (Einsprüche) | Einsprechende(r) | 01
08.11.1993
17.12.1993
ADMISSIBLE FUSION SYSTEM CORPORATION 7600 Standish Place Rockville, Maryland 20855 / US Vertreter des Einsprechenden Prinz, Egon Prinz & Partner Manzingerweg 7 81241 München / DE | [N/P] |
| Frühere [1994/02] | |||
| Einsprechende(r) | 01
08.11.1993
17.12.1993
ADMISSIBLE FUSION SYSTEM CORPORATION 7600 Standish Place Rockville, Maryland 20855 / US Vertreter des Einsprechenden Prinz, Egon Prinz & Partner Manzingerweg 7 D-81241 München / DE | 17.01.1994 | Aufforderung des Patentinhabers, eine Stellungnahme zum Einspruch einzureichen | 09.03.1995 | Termin der mündlichen Verhandlung | 24.03.1995 | Niederschrift über die mündliche Verhandlung abgesandt | 05.11.1996 | Absendedatum der Zurückweisung des Einspruchs | 23.11.1996 | Rechtswirksamkeit der Zurückweisung des Einspruchs [1997/04] | Beschwerde im Anschluss an den Einspruch | 26.05.1995 | Beschwerde eingegangen No. T0480/95 | 27.07.1995 | Begründung eingereicht | 05.11.1996 | Ergebnis des Beschwerdeverfahrens: Aufrechterhaltung in unveränderter Form | Entrichtete Gebühren | Jahresgebühr | 18.11.1988 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03 | 27.11.1989 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04 | 30.11.1990 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05 | 28.11.1991 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 06 | 27.11.1992 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 07 |
| Ausschluss der ausschließlichen Tooltip Zuständigkeit des Einheitlichen Patentgerichts | Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts | ||
| Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht. | Erlöschen während des Einspruchsverfahrens Tooltip | GB | 25.11.1995 | NL | 01.06.1996 | [1997/51] |
| Frühere [1996/47] | GB | 25.11.1995 | Angeführte Dokumente: | Recherche | [Y]GB2143961 | [Y] - MICROELECTRONIC ENGINEERING, vol. 3, no. 1/4, December 1985, pages 329-337, Elsevier Science Publishers B.V., North-Holland, Amsterdam, NL; A. GUTMANN et al.: "Thermal stability and etching resistance of formaldehyde- and deep UV-hardened photoresists" | [Y] - SOLID STATE TECHNOLOGY, vol. 27, no. 7, July 1984, pages 45-46, Port Washington, New York, US; "Photoresist stabilization system" | [A] - IBM TECHNICAL DISCLOSURE BULLETIN, vol. 26, no. 2, July 1983, pages 656-657, New York, US; F. MARTINET: "Control of resist-hardening process in a barrel plasma etcher system" | [A] - JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, vol. 29, no. 6, June 1982, pages 1379-1382, Princeton, New Jersey, US; R. ALLEN et al.: "Deep U.V. hardening of positive photoresist patterns" |