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EP0337258
Europäisches Verfahren
Auszug aus dem europäischen Patentregister
EP Übersicht: EP0337258
| EP0337258 - Strahlungsempfindliches Gemisch für lichtempfindliche Beschichtungsmaterialien und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern und Reliefbildern [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.] | Status | Kein Einspruch fristgerecht eingelegt Status aktualisiert am 23.04.1994 Datenbank zuletzt aktualisiert am 26.07.2024 | Letztes Ereignis Tooltip | 23.04.1994 | Kein Einspruch fristgerecht eingelegt | veröffentlicht am 15.06.1994 [1994/24] | Anmelder | Für alle benannten Staaten BASF Aktiengesellschaft Carl-Bosch-Strasse 38 67063 Ludwigshafen / DE | [N/P] |
| Frühere [1989/42] | Für alle benannten Staaten BASF Aktiengesellschaft Carl-Bosch-Strasse 38 D-67063 Ludwigshafen / DE | Erfinder | 01 /
Schwalm, Reinhold Am Huettenwingert 53 D-6706 Wachenheim / DE | [1989/42] | Anmeldenummer, Anmeldetag | 89105919.8 | 05.04.1989 | [1989/42] | Prioritätsnummer, Prioritätstag | DE19883812325 | 14.04.1988 Ursprünglich veröffentlichtes Format: DE 3812325 | [1989/42] | Anmeldesprache | DE | Verfahrenssprache | DE | Veröffentlichung | Art: | A2 Anmeldung ohne Recherchenbericht | Nr.: | EP0337258 | Datum: | 18.10.1989 | Sprache: | DE | [1989/42] | Art: | A3 Recherchenbericht | Nr.: | EP0337258 | Datum: | 29.08.1990 | Sprache: | DE | [1990/35] | Art: | B1 Patentschrift | Nr.: | EP0337258 | Datum: | 23.06.1993 | Sprache: | DE | [1993/25] | Recherchenbericht(e) | (Ergänzender) europäischer Recherchenbericht - versandt am: | EP | 10.07.1990 | Klassifikation | IPC: | G03F7/004 | [1993/25] | CPC: |
G03F7/0045 (EP,US);
Y10S430/111 (EP,US);
Y10S430/122 (EP,US);
Y10S430/123 (EP,US);
Y10S430/143 (EP,US)
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| Frühere IPC [1989/42] | G03F7/10 | Benannte Vertragsstaaten | BE, DE, FR, GB, NL [1989/42] | Bezeichnung der Erfindung | Deutsch: | Strahlungsempfindliches Gemisch für lichtempfindliche Beschichtungsmaterialien und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern und Reliefbildern | [1989/42] | Englisch: | Light sensitive compositions for light sensitive coating materials and processes for obtaining relief patterns and images | [1989/42] | Französisch: | Compositions photosensibles pour matériaux de revêtement photosensibles et procédé de fabrication d'images et de modèles formant relief | [1989/42] | Prüfungsverfahren | 14.07.1990 | Prüfungsantrag gestellt [1990/36] | 29.10.1992 | Absendung der Ankündigung der Erteilung (Einverständnis: Ja) | 27.11.1992 | Ankündigung der Patenterteilung | 02.01.1993 | Erteilungsgebühr entrichtet | 02.01.1993 | Veröffentlichungs-/Druckkostengebühr entrichtet | Einspruch (Einsprüche) | 24.03.1994 | Kein Einspruch fristgerecht eingelegt [1994/24] | Entrichtete Gebühren | Jahresgebühr | 02.01.1991 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03 | 16.04.1992 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04 | 20.04.1993 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05 |
| Ausschluss der ausschließlichen Tooltip Zuständigkeit des Einheitlichen Patentgerichts | Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts | ||
| Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht. | Angeführte Dokumente: | Recherche | [A]EP0132710 (BASF AG [DE]); | [XP]EP0297443 (BASF AG [DE]); | [XP]EP0271010 (BASF AG [DE]); | [A]DE3628046 (FUJI PHOTO FILM CO LTD [JP]) | [A] - JOURNAL OF IMAGING TECHNOLOGY. vol. 11, no. 4, August 1985, SPRINGFIELD US Seiten 146 - 157; S.Papas: "Photogeneration of Acid: Part 6 -A Review of Basic Principles for Resist" |