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Auszug aus dem europäischen Patentregister

EP Übersicht: EP0465515

EP0465515 - VERFAHREN ZUR ÜBERWACHUNG VON IONEN-UNTERSTÜTZTEN BEARBEITUNGSVORGÄNGEN AN WAFERN UND VORRICHTUNG ZUR DURCHFÜHRUNG DES VERFAHRENS [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.]
Status	Kein Einspruch fristgerecht eingelegt Status aktualisiert am 20.06.1997 Datenbank zuletzt aktualisiert am 29.10.2024
Letztes Ereignis Tooltip	20.06.1997	Kein Einspruch fristgerecht eingelegt	veröffentlicht am 06.08.1997 [1997/32]
Anmelder	Für alle benannten Staaten Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Leonrodstrasse 54 80636 München / DE
	[N/P]
Frühere [1992/03]	Für alle benannten Staaten FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. Leonrodstrasse 54 D-80636 München / DE
Erfinder	01 / HEINRICH, Friedhelm Rheingaustr. 25 D-1000 Berlin 41 / DE
	[1992/03]
Vertreter	Münich, Wilhelm, et al Dr. Münich & Kollegen Anwaltskanzlei Wilhelm-Mayr-Strasse 11 80689 München / DE
	[N/P]
Frühere [1994/08]	Münich, Wilhelm, Dr., et al Kanzlei Münich, Steinmann, Schiller Wilhelm-Mayr-Str. 11 D-80689 München / DE
Frühere [1992/03]	Münich, Wilhelm, Dr. Kanzlei Münich, Steinmann, Schiller Wilhelm-Mayr-Str. 11 D-80689 München / DE
Anmeldenummer, Anmeldetag	90905183.1	31.03.1990
	[1992/03]
	WO1990DE00255
Prioritätsnummer, Prioritätstag	DE19893910491	31.03.1989 Ursprünglich veröffentlichtes Format: DE 3910491
	[1992/03]
Anmeldesprache	DE
Verfahrenssprache	DE
Veröffentlichung	Art:	A1 Anmeldung mit Recherchenbericht
	Nr.:	WO9012415
	Datum:	18.10.1990
	Sprache:	DE
	[1990/24]
	Art:	A1 Anmeldung mit Recherchenbericht
	Nr.:	EP0465515
	Datum:	15.01.1992
	Sprache:	DE
	Die von der WIPO am 18.10.1990 in einer EPA-Amtssprache veröffentlichte Anmeldung tritt an die Stelle der Veröffentlichung der europäischen Patentanmeldung.
	[1992/03]
	Art:	B1 Patentschrift
	Nr.:	EP0465515
	Datum:	14.08.1996
	Sprache:	DE
	[1996/33]
Recherchenbericht(e)	Internationaler Recherchenbericht - veröffentlicht am:	EP	18.10.1990
Klassifikation	IPC:	H01J37/32, H01J37/304, G01N21/62, H01J37/305	[1992/03]
	CPC:	H01J37/32935 (EP,US)
Benannte Vertragsstaaten	AT, BE, CH, DE, FR, GB, IT, LI, LU, NL, SE [1992/09]
Frühere [1992/03]	AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, IT, LI, LU, NL, SE
Bezeichnung der Erfindung	Deutsch:	VERFAHREN ZUR ÜBERWACHUNG VON IONEN-UNTERSTÜTZTEN BEARBEITUNGSVORGÄNGEN AN WAFERN UND VORRICHTUNG ZUR DURCHFÜHRUNG DES VERFAHRENS	[1992/03]
	Englisch:	PROCESS AND DEVICE FOR MONITORING ION ASSISTED MACHINING PROCESSES ON WAFERS	[1996/33]
	Französisch:	PROCEDE ET DISPOSITIF POUR CONTROLER DES PROCESSUS D'USINAGE ASSISTES PAR VOIE IONIQUE SUR DES TRANCHES	[1992/03]
	Frühere [1992/03]	PROCESS AND DEVICE FOR MONITORING ASSISTED ION MACHINING PROCESSES ON WAFERS
Eintritt in die regionale Phase	11.09.1991	Nationale Grundgebühr entrichtet
	11.09.1991	Benennungsgebühr(en) entrichtet
	11.09.1991	Prüfungsgebühr entrichtet
Prüfungsverfahren	01.06.1990	Teilrechtsverlust, Datum der Rechtswirksamkeit: benannte Vertragsstaat(en)
	03.08.1990	Antrag auf vorläufige Prüfung gestellt mit der internationalen vorläufigen Prüfung beauftragte Behörde: DE
	11.09.1991	Prüfungsantrag gestellt [1992/03]
	01.04.1992	Absendung der Mitteilung über einen Teilrechtsverlusts: benannte Vertragsstaat(en) DK
	01.04.1992	Absendung der Mitteilung über einen Teilrechtsverlusts: benannte Vertragsstaat(en) ES
	01.06.1992	Teilrechtsverlust, Datum der Rechtswirksamkeit: benannte Vertragsstaat(en)
	29.12.1993	Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M04)
	03.05.1994	Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
	14.06.1994	Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M06)
	30.01.1995	Absendung der Mitteilung, wonach die Anmeldung als zurückgenommen gilt. Grund: Erwiderung auf die Mitteilung der Prüfungsabteilung nicht fristgerecht eingegangen
	08.03.1995	Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
	25.04.1995	Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M02)
	20.05.1995	Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
	29.06.1995	Absendung der Ankündigung der Erteilung (Einverständnis: Ja)
	13.10.1995	Ankündigung der Patenterteilung
	27.11.1995	Erteilungsgebühr entrichtet
	27.11.1995	Veröffentlichungs-/Druckkostengebühr entrichtet
Einspruch (Einsprüche)	15.05.1997	Kein Einspruch fristgerecht eingelegt [1997/32]
Antrag auf Weiterbehandlung für:	08.03.1995	Antrag auf Weiterbehandlung gestellt
	08.03.1995	Komplette Zahlung eingegangen (Datum des Zahlungseingangs) Antrag stattgegeben
	28.03.1995	Entscheidung abgesandt
Entrichtete Gebühren	Jahresgebühr
	31.03.1992	Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03
	31.03.1993	Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04
	31.03.1994	Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05
	31.03.1995	Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 06
	26.03.1996	Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 07
	Zuschlagsgebühr
	Zuschlagsgebühr/Regel 85a EPÜ 1973
	10.01.1992	DK M01 Noch nicht entrichtet
	10.01.1992	ES M01 Noch nicht entrichtet
Ausschluss der ausschließlichen Tooltip Zuständigkeit des Einheitlichen Patentgerichts	Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts
	Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht.
Erlöschen während des Einspruchsverfahrens Tooltip	SE	14.11.1996
	[1997/18]
Angeführt in	Internationale Recherche	[XP] - APPLIED PHYSICS LETTERS. vol. 55, no. 14, 02 Oktober 1989, NEW YORK US Seiten 1474 - 1476; Heinrich et al.: "New and simple optical method for in-situ etch rate determination and endpoint detection" siehe das ganze Dokument
		[Y] - REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS. vol. 51, no. 11, November 1980, NEW YORK US Seiten 1451 - 1462; Burrell et al.: "Doppler shift spectroscopy of powerful neutral beams" siehe Zusammenfassung siehe Seite 1453, linke Spalte, Absatz 2-Ende rechter Spalte
		[Y] - JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. vol. 53, no. 6, Juni 1982, NEW YORK US Seiten 4389 - 4394; Dzioba et al.: "Optical spectroscopy during reactive ion beam etching of Si and Al targets" siehe Seiten 4389 - 4390
		[A] - JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY: PART B. vol. 3, no. 5, September 1985, NEW YORK US Seiten 1543 - 1545; Husinsky et al.: "Doppler shift laser fluorescence spectroscopy of sputtered and evaporatedatoms under Ar+ bombardment" siehe das ganze Dokument

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