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Auszug aus dem europäischen Patentregister

EP Übersicht: EP0456075

EP0456075 - Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial für die Belichtung mit DUV-Strahlung [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.]
StatusKein Einspruch fristgerecht eingelegt
Status aktualisiert am  18.07.1997
Datenbank zuletzt aktualisiert am 14.09.2024
Letztes Ereignis   Tooltip18.07.1997Kein Einspruch fristgerecht eingelegtveröffentlicht am 03.09.1997 [1997/36]
AnmelderFür alle benannten Staaten
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
65926 Frankfurt am Main / DE
[N/P]
Frühere [1991/46]Für alle benannten Staaten
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
D-65926 Frankfurt am Main / DE
Erfinder01 / Röschert, Horst, Dr. Dipl.-Chem.
Am Pfingstborn 16
W-6531 Ober-Hilbersheim / DE
02 / Pawlowski, Georg, Dr. Dipl.-Chem.
Fritz-Kalle-Strasse 34
W-6200 Wiesbaden / DE
03 / Merrem, Hans-Joachim, Dr. Dipl.-Chem.
47 Addison-Drive
Basking Ridge, N.J. 07920 / US
04 / Dammel, Ralph, Dr. Dipl.-Chem.
Im Quellborn 16
W-6501 Klein-Winternheim / DE
05 / Spiess, Walter, Dr. Dipl.-Phys.
Rheingaustrasse 20
W-6110 Dieburg / DE
[1991/46]
Anmeldenummer, Anmeldetag91106920.129.04.1991
[1991/46]
Prioritätsnummer, PrioritätstagDE1990401464808.05.1990         Ursprünglich veröffentlichtes Format: DE 4014648
[1991/46]
AnmeldespracheDE
VerfahrensspracheDE
VeröffentlichungArt: A1 Anmeldung mit Recherchenbericht 
Nr.:EP0456075
Datum:13.11.1991
Sprache:DE
[1991/46]
Art: B1 Patentschrift 
Nr.:EP0456075
Datum:11.09.1996
Sprache:DE
[1996/37]
Recherchenbericht(e)(Ergänzender) europäischer Recherchenbericht - versandt am:EP28.08.1991
KlassifikationIPC:G03F7/004
[1991/46]
CPC:
G03F7/0163 (EP,US); G03F7/16 (KR)
Benannte VertragsstaatenDE,   FR,   GB,   IT [1996/18]
Frühere [1991/46]AT,  BE,  CH,  DE,  ES,  FR,  GB,  IT,  LI,  NL,  SE 
Bezeichnung der ErfindungDeutsch:Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial für die Belichtung mit DUV-Strahlung[1991/46]
Englisch:Positive-working radiation-sensitive mixture and radiation-sensitive recording material for exposure using deep UV-radiation[1991/46]
Französisch:Composition sensible aux rayonnements à effet positif et matériel d'enregistrement sensible aux rayonnements UV profonds[1996/37]
Frühere [1991/46]Composition sensible aux rayonnements à effet positif et matériel d'enregistrement sensibles aux rayonnements lourdes expositions aux rayonnements UV profonds
Prüfungsverfahren17.02.1992Prüfungsantrag gestellt  [1992/16]
25.07.1995Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M02)
02.10.1995Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
23.11.1995Absendung der Ankündigung der Erteilung (Einverständnis: Ja)
14.03.1996Ankündigung der Patenterteilung
24.06.1996Erteilungsgebühr entrichtet
24.06.1996Veröffentlichungs-/Druckkostengebühr entrichtet
Einspruch (Einsprüche)12.06.1997Kein Einspruch fristgerecht eingelegt [1997/36]
Entrichtete GebührenJahresgebühr
09.03.1993Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03
10.03.1994Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04
02.05.1995Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05
02.05.1996Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 06
Ausschluss der ausschließlichen  Tooltip
Zuständigkeit des Einheitlichen
Patentgerichts
Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts
Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht.
Angeführte Dokumente:Recherche[A]JP01188852  ;
 [AP]EP0378067  (HOECHST AG [DE])
 [A]  - PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 13, no. 478 (P-951)(3826) 30 Oktober 1989, & JP-A-01 188852 (MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD) 28 Juli 1989,, & JP01188852 A 00000000
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