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EP0599779

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Auszug aus dem europäischen Patentregister

EP Übersicht: EP0599779

EP0599779 - Hochauflösender negativ arbeitender Photoresist mit grossem Prozessspielraum [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.]
Status	Anmeldung zurückgewiesen Status aktualisiert am 01.02.2002 Datenbank zuletzt aktualisiert am 04.11.2024
Letztes Ereignis Tooltip	01.02.2002	Zurückweisung der Anmeldung	veröffentlicht am 20.03.2002 [2002/12]
Anmelder	Für alle benannten Staaten Olin Microelectronic Materials AG c/o KPMG Fides Peat. Innere Margarethenstrasse 5 4002 Basel / CH
	[1998/36]
Frühere [1994/22]	Für alle benannten Staaten OCG Microelectronic Materials AG Klybeckstrasse 141 CH-4002 Basel / CH
Erfinder	01 / Münzel, Norbert, Dr. Im Clausenfeld 3 D-79423 Heitersheim / DE
	02 / Schulz, Reinhard, Dr. Am Pfarrgarten 5a D-79219 Staufen-Wettelbrunn / DE
	03 / Holzwarth, Heinz St. Blasierweg 2 D-79189 Bad Krozingen / DE
	[1994/22]
Vertreter	Klunker . Schmitt-Nilson . Hirsch Patentanwälte Destouchesstrasse 68 80796 München / DE
	[N/P]
Frühere [1998/10]	Klunker . Schmitt-Nilson . Hirsch Winzererstrasse 106 80797 München / DE
Frühere [1996/18]	(deleted)
Frühere [1994/22]	Roueche, Armand, et al c/o CIBA-GEIGY AG, Patentabteilung, Postfach CH-4002 Basel / CH
Anmeldenummer, Anmeldetag	93810737.2	20.10.1993
	[1994/22]
Prioritätsnummer, Prioritätstag	CH19920003369	29.10.1992 Ursprünglich veröffentlichtes Format: CH 336992
	[1994/22]
Anmeldesprache	DE
Verfahrenssprache	DE
Veröffentlichung	Art:	A1 Anmeldung mit Recherchenbericht
	Nr.:	EP0599779
	Datum:	01.06.1994
	Sprache:	DE
	[1994/22]
Recherchenbericht(e)	(Ergänzender) europäischer Recherchenbericht - versandt am:	EP	07.04.1994
Klassifikation	IPC:	G03F7/004	[1994/22]
	CPC:	G03F7/038 (EP,US); G03F7/00 (KR); G03F7/0045 (EP,US); G03F7/0382 (EP,US); Y10S430/106 (EP,US); Y10S430/122 (EP,US)
Benannte Vertragsstaaten	BE, CH, DE, FR, GB, IT, LI, NL [1994/22]
Bezeichnung der Erfindung	Deutsch:	Hochauflösender negativ arbeitender Photoresist mit grossem Prozessspielraum	[1994/22]
	Englisch:	High-resolution negative photoresist having extended processing latitude	[1994/22]
	Französisch:	Photoréserve négative à haute résolution ayant une latitude de traitement étendue	[1994/22]
Prüfungsverfahren	01.10.1994	Prüfungsantrag gestellt [1994/48]
	23.12.1997	Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M04)
	14.08.1998	Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
	22.03.1999	Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M04)
	19.07.1999	Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
	27.12.1999	Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M09)
	29.09.2000	Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung
	23.04.2001	Absendung der Ankündigung der Erteilung (Einverständnis: )
	12.10.2001	Absendung der Mitteilung über die Zurückweisung der Anmeldung. Grund: Formalprüfung [2002/12]
	22.10.2001	Anmeldung zurückgewiesen, Datum der Rechtswirksamkeit [2002/12]
Antrag auf Weiterbehandlung für:	14.08.1998	Antrag auf Weiterbehandlung gestellt
	14.08.1998	Komplette Zahlung eingegangen (Datum des Zahlungseingangs) Antrag stattgegeben
	27.08.1998	Entscheidung abgesandt
Entrichtete Gebühren	Jahresgebühr
	02.09.1995	Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03
	20.11.1996	Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04
	07.10.1997	Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05
	22.10.1998	Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 06
	04.10.1999	Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 07
	04.10.2000	Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 08
	Zuschlagsgebühr
	Zuschlagsgebühr zur Jahresgebühr
	31.10.1996	04 M06 Gebühr entrichtet am 20.11.1996
	31.10.2001	09 M06 Noch nicht entrichtet
Ausschluss der ausschließlichen Tooltip Zuständigkeit des Einheitlichen Patentgerichts	Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts
	Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht.
Angeführte Dokumente:	Recherche	[A]EP0050802 (HOECHST AG [DE]);
		[X]EP0295465 (HOECHST AG [DE]);
		[A]EP0435437 (NIPPON ZEON CO [JP]);
		JPH03158854 [ ] (TOKYO OHKA KOGYO CO LTD);
		JPH03200254 [ ] (NIPPON ZEON CO);
		JPH0412357 [ ] (TORAY INDUSTRIES);
		JPH04251849 [ ] (FUJI PHOTO FILM CO LTD);
		JPH04274242 [ ] (JAPAN SYNTHETIC RUBBER CO LTD);
		JPH04301851 [ ] (NIPPON ZEON CO);
		[PX]EP0530148 (CIBA GEIGY AG [CH], et al)
	Prüfung	EP0542572

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