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EP0654813
Europäisches Verfahren
Auszug aus dem europäischen Patentregister
EP Übersicht: EP0654813
| EP0654813 - Gerät zur Musteraufzeichnung mittels Elektronenstrahl und Mustersaufzeichnungsverfahren unter Verwendung eines solchen Geräts [Mit Rechtsklick auf diesen Link können Sie ein Bookmark anlegen.] | Status | Kein Einspruch fristgerecht eingelegt Status aktualisiert am 14.01.2000 Datenbank zuletzt aktualisiert am 17.09.2024 | Letztes Ereignis Tooltip | 17.02.2006 | Änderung - Erlöschen in einem Vertragsstaat Aktualisierte Staaten: FR | veröffentlicht am 05.04.2006 [2006/14] | Anmelder | Für alle benannten Staaten MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA 2-3, Marunouchi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 100 / JP | [N/P] |
| Frühere [1995/21] | Für alle benannten Staaten MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA 2-3, Marunouchi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 100 / JP | Erfinder | 01 /
Moriizumi, Koichi, c/o Mitsubishi Denki K.K. Ultra LSI Kaihatsu, Kenkyusho, 1 Mizuhara 4-chome Itami-shi, Hyogo 664 / JP | 02 /
Kamiyama, Kinya, c/o Mitsubishi Denki K.K. Ultra LSI Kaihatsu, Kenkyusho, 1 Mizuhara 4-chome Itami-shi, Hyogo 664 / JP | 03 /
Taoka, Hironobu, c/o Mitsubishi Denki K.K. Ultra LSI Kaihatsu, Kenkyusho, 1 Mizuhara 4-chome Itami-shi, Hyogo 664 / JP | [1995/21] | Vertreter | Prüfer, Lutz H., et al Harthauser Strasse 25d 81545 München / DE | [N/P] |
| Frühere [1995/21] | Prüfer, Lutz H., Dipl.-Phys., et al Harthauser Strasse 25d D-81545 München / DE | Anmeldenummer, Anmeldetag | 94114545.0 | 15.09.1994 | [1995/21] | Prioritätsnummer, Prioritätstag | JP19930270992 | 28.10.1993 Ursprünglich veröffentlichtes Format: JP 27099293 | [1995/21] | Anmeldesprache | EN | Verfahrenssprache | EN | Veröffentlichung | Art: | A1 Anmeldung mit Recherchenbericht | Nr.: | EP0654813 | Datum: | 24.05.1995 | Sprache: | EN | [1995/21] | Art: | B1 Patentschrift | Nr.: | EP0654813 | Datum: | 10.03.1999 | Sprache: | EN | [1999/10] | Recherchenbericht(e) | (Ergänzender) europäischer Recherchenbericht - versandt am: | EP | 06.04.1995 | Klassifikation | IPC: | H01J37/20, H01J37/317 | [1995/21] | CPC: |
B82Y10/00 (EP);
B82Y40/00 (EP);
H01J37/20 (EP);
H01J37/3174 (EP);
H01L21/027 (KR);
H01J2237/20214 (EP)
| Benannte Vertragsstaaten | DE, FR, GB [1995/21] | Bezeichnung der Erfindung | Deutsch: | Gerät zur Musteraufzeichnung mittels Elektronenstrahl und Mustersaufzeichnungsverfahren unter Verwendung eines solchen Geräts | [1995/21] | Englisch: | Electron beam drawing apparatus and method of drawing with such an apparatus | [1998/20] | Französisch: | Appareil de traçage de motifs par faisceau d'électrons et méthode de traçage de motifs utilisant un tel appareil | [1998/20] |
| Frühere [1995/21] | Electron beam drawing apparatus and method of drawing with such apparatus | ||
| Frühere [1995/21] | Appareil de traçage de motifs par faisceau d'électrons et méthode de traçage de motifs utilisant un tèl appareil | Prüfungsverfahren | 12.05.1995 | Prüfungsantrag gestellt [1995/28] | 18.03.1996 | Absendung einer Mitteilung der Prüfungsabteilung (Frist: M04) | 28.06.1996 | Erwiderung auf eine Mitteilung der Prüfungsabteilung | 30.04.1998 | Absendung der Ankündigung der Erteilung (Einverständnis: Ja) | 20.08.1998 | Erteilungsgebühr entrichtet | 20.08.1998 | Veröffentlichungs-/Druckkostengebühr entrichtet | 28.08.1998 | Ankündigung der Patenterteilung | Einspruch (Einsprüche) | 11.12.1999 | Kein Einspruch fristgerecht eingelegt [2000/09] | Entrichtete Gebühren | Jahresgebühr | 26.09.1996 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 03 | 30.09.1997 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 04 | 29.09.1998 | Jahresgebühr entrichtet Patentjahr 05 |
| Ausschluss der ausschließlichen Tooltip Zuständigkeit des Einheitlichen Patentgerichts | Zu den entsprechenden Daten siehe das Register des Einheitlichen Patentgerichts | ||
| Die Verantwortung für die Richtigkeit, Vollständigkeit oder Qualität der unter dem Link angezeigten Daten liegt allein beim Einheitlichen Patentgericht. | Erlöschen während des Einspruchsverfahrens Tooltip | FR | 10.03.1999 | [2006/14] |
| Frühere [2000/24] | FR | 06.08.1999 | Angeführte Dokumente: | Recherche | [XY]JPS6167914 ; | [Y]US4516029 (TUCKER THEODORE W [US]) [Y] 2,3,5 * column 1, line 50 - column 2, line 17 * * figure 8 *; | [YA]US5175435 (SAKAMOTO KIICHI [JP], et al) [Y] 5 * column 4, line 19 - line 58 * * column 6, line 24 - line 39 * * figures 1,3 * [A] 1,8; | [A]JPS63209127 ; | [A]JPS6167912 ; | [A]US4627009 (HOLMES DUANE C [US], et al) [A] 1-4 * column 1, line 58 - column 2, line 12 * * column 2, line 49 - column 3, line 51 * * column 4, line 26 - line 42 * * column 5, line 31 - line 41 * * figure 1 *; | [A]EP0422655 (HITACHI LTD [JP]) [A] 1-3 * column 4, line 33 - column 5, line 25 * * column 8, line 31 - line 39 * * figures 3A,5 * | [XY] - PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, (19860815), vol. 10, no. 236, Database accession no. (E - 428), & JP61067914 A 19860408 (SONY) [X] 1,6 * abstract * [Y] 2,3,5 | [A] - PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, (19881224), vol. 12, no. 498, Database accession no. (E - 698), & JP63209127 A 19880830 (NEC CO.) [A] 4 * abstract * | [A] - PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, (19860815), vol. 10, no. 236, Database accession no. (E - 428), & JP61067912 A 19860408 (SONY) [A] 5 * abstract * | Prüfung | - Y. SAKITANI ET AL., "Electron-beam cell-projection lithography system", J. VAC. SCI. TECHNOL., vol. B10, no. 6, doi:doi:10.1116/1.585997, pages 2759 - 2763, XP000332480 DOI: http://dx.doi.org/10.1116/1.585997 | - "Microwave Engineering", A.N. BROERS AND T.H.P. CHANG, HIGH RESOLUTION LITHOGRAPHY, Fig. 18, Cambridge University Press, 1979, edited by H. Armed and T.H.P. Chang. | - R. YOSHIKAWA ET AL., "A high dose and high accuracy variable shaped electron beam exposure system for quartermicron device fabrication", J. VAC. SCI. TECHNOL., vol. B5, no. 1, pages 70 - 74 |