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EP About this file: EP1665341

EP1665341 - AN IMAGER PHOTO DIODE CAPACITOR STRUCTURE WITH REDUCED PROCESS VARIATION SENSITIVITY AND ITS METHOD OF FABRICATION [Right-click to bookmark this link]
Former [2006/23]AN IMAGER PHOTO DIODE CAPACITOR STRUCTURE WITH REDUCED PROCESS VARIATION SENSITIVITY
[2010/15]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  20.01.2012
Database last updated on 25.09.2024
Most recent event   Tooltip04.10.2013Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): HU		published on 06.11.2013  [2013/45]
Applicant(s)For all designated states
Aptina Imaging Corporation
c/o Citco Trustees (Cayman) Limited Regatta Office Park West Bay Road
Grand Cayman, Y1-1205 / KY
[2010/14]
Former [2006/23]For all designated states
MICRON TECHNOLOGY, INC.
8000 South Federal Way
Boise, ID 83707-0006 / US
Inventor(s)01 / MCCLURE, Brent, A.
3315 Raindrop Drive
Boise, ID 83706 / US
 [2006/23]
Representative(s)Hibbert, Juliet Jane Grace, et al
Kilburn & Strode LLP
Lacon London
84 Theobalds Road
London WC1X 8NL / GB
[N/P]
Former [2009/43]Hibbert, Juliet Jane Grace, et al
Kilburn & Strode LLP 20 Red Lion Street
London WC1R 4PJ / GB
Former [2006/23]Roberts, Gwilym Vaughan, et al
Kilburn & Strode 20 Red Lion Street
London WC1R 4PJ / GB
Application number, filing date04757391.030.07.2004
[2006/23]
WO2004US24598
Priority number, dateUS2003063558007.08.2003         Original published format: US 635580
[2006/23]
Filing languageEN
Procedural languageEN
PublicationType: A1 Application with search report
No.:WO2005017982
Date:24.02.2005
Language:EN
[2005/08]
Type: A1 Application with search report 
No.:EP1665341
Date:07.06.2006
Language:EN
The application published by WIPO in one of the EPO official languages on 24.02.2005 takes the place of the publication of the European patent application.
[2006/23]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP1665341
Date:16.03.2011
Language:EN
[2011/11]
Search report(s)International search report - published on:US24.02.2005
(Supplementary) European search report - dispatched on:EP13.02.2008
ClassificationIPC:H01L27/146
[2010/15]
CPC:
H01L27/14609 (EP,US); H01L27/146 (KR); H04N25/59 (EP,US);
H01L27/14643 (EP,US); H01L27/14689 (EP,US); H01L27/148 (EP,US);
H04N25/771 (EP,US) (-)
Former IPC [2008/11]H01L27/146, H01L27/148
Former IPC [2006/23]H01L21/00
Designated contracting statesAT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HU,   IE,   IT,   LI,   LU,   MC,   NL,   PL,   PT,   RO,   SE,   SI,   SK,   TR [2006/23]
Extension statesALNot yet paid
HRNot yet paid
LTNot yet paid
LVNot yet paid
MKNot yet paid
TitleGerman:BILDGEBER-FOTODIODEN-KONDENSATORSTRUKTUR MIT VERRINGERTER PROZESSSCHWANKUNGSEMPFINDLICHKEIT UND SEIN HERSTELLUNGSVERFAHREN[2010/15]
English:AN IMAGER PHOTO DIODE CAPACITOR STRUCTURE WITH REDUCED PROCESS VARIATION SENSITIVITY AND ITS METHOD OF FABRICATION[2010/15]
French:STRUCTURE DE CONDENSATEURS A PHOTODIODE D'IMAGEUR AVEC SENSIBILITE REDUITE DE VARIATION DE PROCESSUS ET SON PROCEDE DE FABRICATION[2010/16]
Former [2006/23]BILDGEBER-FOTODIODEN-KONDENSATORSTRUKTUR MIT VERRINGERTER PROZESSSCHWANKUNGSEMPFINDLICHKEIT
Former [2006/23]AN IMAGER PHOTO DIODE CAPACITOR STRUCTURE WITH REDUCED PROCESS VARIATION SENSITIVITY
Former [2006/23]STRUCTURE DE CONDENSATEURS A PHOTODIODE D'IMAGEUR AVEC SENSIBILITE DE VARIATION DE PROCESSUS
Entry into regional phase02.03.2006National basic fee paid 
04.04.2006Search fee paid 
02.03.2006Designation fee(s) paid 
02.03.2006Examination fee paid 
Examination procedure01.03.2006Amendment by applicant (claims and/or description)
02.03.2006Examination requested  [2006/23]
17.03.2006Despatch of communication that the application is deemed to be withdrawn, reason: filing fee / search fee not paid in time
22.04.2008Despatch of a communication from the examining division (Time limit: M04)
21.08.2008Reply to a communication from the examining division
15.09.2009Despatch of a communication from the examining division (Time limit: M04)
15.01.2010Reply to a communication from the examining division
06.10.2010Communication of intention to grant the patent
24.01.2011Fee for grant paid
24.01.2011Fee for publishing/printing paid
Opposition(s)19.12.2011No opposition filed within time limit [2012/08]
Fees paidRenewal fee
14.06.2006Renewal fee patent year 03
06.06.2007Renewal fee patent year 04
27.03.2008Renewal fee patent year 05
07.05.2009Renewal fee patent year 06
09.06.2010Renewal fee patent year 07
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court		 See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipAT16.03.2011
BE16.03.2011
CY16.03.2011
CZ16.03.2011
DK16.03.2011
EE16.03.2011
FI16.03.2011
HU16.03.2011
IT16.03.2011
NL16.03.2011
PL16.03.2011
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SE16.03.2011
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[2013/45]
Former [2013/44]AT16.03.2011
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BG16.06.2011
GR17.06.2011
ES27.06.2011
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CY16.03.2011
FI16.03.2011
SE16.03.2011
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BG16.06.2011
GR17.06.2011
ES27.06.2011
Former [2011/37]CY16.03.2011
FI16.03.2011
SE16.03.2011
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BG16.06.2011
GR17.06.2011
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GR17.06.2011
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