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EP About this file: EP2114112

EP2114112 - Apparatus for industrial plasma processes [Right-click to bookmark this link]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  29.07.2016
Database last updated on 20.12.2024
Most recent event   Tooltip17.08.2018Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): BG		published on 19.09.2018  [2018/38]
Applicant(s)For all designated states
Plasmetrex GmbH
Schwarzschildstrasse 3
12489 Berlin / DE
[2009/45]
Inventor(s)01 / Klick, Michael, Dr.
Semmelweisstrasse 57
12524 Berlin / DE
02 / Rothe, Ralf, Dr.
Herderstrasse 6
15890 Eisenhüttenstadt / DE
03 / Eichhorn, Lutz
Kaulsdorfer Strasse 148
12555 Berlin / DE
 [2009/45]
Representative(s)Zeitler Volpert Kandlbinder Patentanwälte Partnerschaft mbB
Postfach 10 02 37
80076 München / DE
[N/P]
Former [2015/39]Zeitler Volpert Kandlbinder Patent- und Rechtsanwälte Partnerschaft mbB
Postfach 26 02 51
80059 München / DE
Former [2009/45]Volpert, Marcus, et al
Zeitler - Volpert - Kandlbinder Patentanwälte Herrnstrasse 44
80539 München / DE
Application number, filing date08008191.229.04.2008
[2009/45]
Filing languageEN
Procedural languageEN
PublicationType: A1 Application with search report 
No.:EP2114112
Date:04.11.2009
Language:EN
[2009/45]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP2114112
Date:23.09.2015
Language:EN
[2015/39]
Search report(s)(Supplementary) European search report - dispatched on:EP09.10.2008
ClassificationIPC:H05H1/00
[2009/45]
CPC:
H05H1/0081 (EP,KR); H01J37/32935 (KR)
Designated contracting statesAT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   SE,   SI,   SK,   TR [2015/39]
Former [2009/45]AT,  BE,  BG,  CH,  CY,  CZ,  DE,  DK,  EE,  ES,  FI,  FR,  GB,  GR,  HR,  HU,  IE,  IS,  IT,  LI,  LT,  LU,  LV,  MC,  MT,  NL,  NO,  PL,  PT,  RO,  SE,  SI,  SK,  TR 
TitleGerman:Vorrichtung für industrielle Plasmaprozesse[2009/45]
English:Apparatus for industrial plasma processes[2009/45]
French:Appareil pour procédés industriels au plasma[2015/17]
Former [2009/45]Appareil pour processus industriels au plasma
Examination procedure24.11.2009Examination requested  [2010/01]
15.02.2010Despatch of a communication from the examining division (Time limit: M04)
07.05.2010Reply to a communication from the examining division
03.03.2014Despatch of a communication from the examining division (Time limit: M04)
08.07.2014Reply to a communication from the examining division
29.09.2014Despatch of a communication from the examining division (Time limit: M04)
29.01.2015Reply to a communication from the examining division
15.04.2015Communication of intention to grant the patent
10.08.2015Fee for grant paid
10.08.2015Fee for publishing/printing paid
10.08.2015Receipt of the translation of the claim(s)
Divisional application(s)The date of the Examining Division's first communication in respect of the earliest application for which a communication has been issued is  15.02.2010
Opposition(s)24.06.2016No opposition filed within time limit [2016/35]
Fees paidRenewal fee
29.03.2010Renewal fee patent year 03
29.04.2011Renewal fee patent year 04
29.03.2012Renewal fee patent year 05
30.04.2013Renewal fee patent year 06
24.04.2014Renewal fee patent year 07
21.04.2015Renewal fee patent year 08
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court		 See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipHU29.04.2008
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BE23.09.2015
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