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EP About this file: EP2128088

EP2128088 - APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SILICON SUBSTRATE [Right-click to bookmark this link]
Former [2009/49]	APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SILICON SUBSTRATE, AND SILICON SUBSTRATE
	[2012/51]
Status	No opposition filed within time limit Status updated on 04.04.2014 Database last updated on 12.07.2024
Most recent event Tooltip	15.07.2016	Lapse of the patent in a contracting state New state(s): TR	published on 17.08.2016 [2016/33]
Applicant(s)	For all designated states Kojima, Gen 2-11-7, Tsukushino, Machida-shi Tokyo / JP
	For all designated states Yokoyama, Hiroshi 218 S Main Street Hudson, OH 44236 / US
	[2010/13]
Former [2009/49]	For all designated states National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 3-1, Kasumigaseki 1-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-8921 / JP
Inventor(s)	01 / KOJIMA, Gen c/o National Institute of Advanced Industrial Science and Technology Tsukuba Central 2 1-1 Umezono 1-chome Tsukuba-shi Ibaraki 305-8568 / JP
	02 / YOKOYAMA, Hiroshi c/o National Institute of Advanced Industrial Science and Technology Tsukuba Central 2 1-1 Umezono 1-chome Tsukuba-shi Ibaraki 305-8568 / JP
	03 / HAYASHI, Yutaka c/o National Institute of Advanced Industrial Science and Technology Tsukuba Central 2 1-1 Umezono 1-chome Tsukuba-shi Ibaraki 305-8568 / JP
	[2013/22]
Former [2009/49]	01 / KOJIMA, Gen c/o National Institute of Advanced Industrial Science and Technology Tsukuba Central 2 1-1 Umezono 1-chome Tsukuba-shi Ibaraki 305-8568 / JP
	02 / YOKOYAMA, Hiroshi c/o National Institute of Advanced Industrial Science and Technology Tsukuba Central 2 1-1 Umezono 1-chome Tsukuba-shi Ibaraki 305-8568 / JP
	03 / HAYASHI, Yutaka c/o National Institute of Advanced Industrial Science and Technology Tsukuba Central 2 1-1 Umezono 1-chome Tsukuba-shi Ibaraki 305-8568 / JP
Representative(s)	Hall, Matthew Benjamin Dehns St Bride's House 10 Salisbury Square London EC4Y 8JD / GB
	[N/P]
Former [2013/22]	Hall, Matthew Benjamin Dehns St. Bride's House 10 Salisbury Square London EC4Y 8JD / GB
Former [2009/49]	Hall, Matthew Benjamin Frank B. Dehn & Co. St Bride's House 10 Salisbury Square London EC4Y 8JD / GB
Application number, filing date	08703609.1	22.01.2008
	[2009/49]
	WO2008JP50762
Priority number, date	JP20070014629	25.01.2007 Original published format: JP 2007014629
	[2009/49]
Filing language	JA
Procedural language	EN
Publication	Type:	A1 Application with search report
	No.:	WO2008090864
	Date:	31.07.2008
	Language:	JA
	[2008/31]
	Type:	A1 Application with search report
	No.:	EP2128088
	Date:	02.12.2009
	Language:	EN
	[2009/49]
	Type:	B1 Patent specification
	No.:	EP2128088
	Date:	29.05.2013
	Language:	EN
	[2013/22]
Search report(s)	International search report - published on:	JP	31.07.2008
	(Supplementary) European search report - dispatched on:	EP	03.02.2012
Classification	IPC:	C01B33/02, C30B29/06, H01L31/04, C30B11/00, C30B15/00, C30B15/30, H01L31/18, C30B28/10	[2012/10]
	CPC:	H01L31/182 (EP,US); C30B15/002 (EP,US); C30B15/007 (EP,US); C30B15/30 (EP,US); C30B28/10 (EP,US); C30B29/06 (EP,US); (+) Y02E10/546 (EP,US); Y02P70/50 (EP,US) (-)
	Former IPC [2009/49]	C01B33/02, C30B29/06, H01L31/04
Designated contracting states	AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LI, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR [2009/49]
Title	German:	VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SILICIUMSUBSTRATS	[2012/51]
	English:	APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SILICON SUBSTRATE	[2012/51]
	French:	APPAREIL ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT DE SILICIUM	[2012/51]
	Former [2009/49]	VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SILICIUMSUBSTRATS UND SILICIUMSUBSTRAT
	Former [2009/49]	APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SILICON SUBSTRATE, AND SILICON SUBSTRATE
	Former [2009/49]	APPAREIL ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT DE SILICIUM ET SUBSTRAT DE SILICIUM
Entry into regional phase	17.08.2009	Translation filed
	17.08.2009	National basic fee paid
	17.08.2009	Search fee paid
	17.08.2009	Designation fee(s) paid
	17.08.2009	Examination fee paid
Examination procedure	17.08.2009	Examination requested [2009/49]
	03.09.2012	Amendment by applicant (claims and/or description)
	14.12.2012	Communication of intention to grant the patent
	16.04.2013	Fee for grant paid
	16.04.2013	Fee for publishing/printing paid
Divisional application(s)	The date of the Examining Division's first communication in respect of the earliest application for which a communication has been issued is 14.12.2012
Opposition(s)	03.03.2014	No opposition filed within time limit [2014/19]
Fees paid	Renewal fee
	25.01.2010	Renewal fee patent year 03
	26.01.2011	Renewal fee patent year 04
	27.01.2012	Renewal fee patent year 05
	23.01.2013	Renewal fee patent year 06
Opt-out from the exclusive Tooltip competence of the Unified Patent Court	See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
	Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition Tooltip	HU	22.01.2008
	AT	29.05.2013
	BE	29.05.2013
	CY	29.05.2013
	CZ	29.05.2013
	DK	29.05.2013
	EE	29.05.2013
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	HR	29.05.2013
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	SI	29.05.2013
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	TR	29.05.2013
	BG	29.08.2013
	NO	29.08.2013
	GR	30.08.2013
	ES	09.09.2013
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	IE	22.01.2014
	LU	22.01.2014
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	FR	31.01.2014
	LI	31.01.2014
	[2016/33]
Former [2016/32]	HU	22.01.2008
	AT	29.05.2013
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Former [2014/06]	AT	29.05.2013
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Former [2014/02]	AT	29.05.2013
	FI	29.05.2013
	HR	29.05.2013
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