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EP About this file: EP2454636

EP2454636 - MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MEASURING A PARAMETER RELATED TO AN OPTICAL SURFACE CONTAINED THEREIN [Right-click to bookmark this link]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  11.04.2014
Database last updated on 19.10.2024
Most recent event   Tooltip17.07.2015Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): HU, LU		published on 19.08.2015  [2015/34]
Applicant(s)For all designated states
Carl Zeiss SMT GmbH
Rudolf-Eber-Strasse 2
73447 Oberkochen / DE
[2012/21]
Inventor(s)01 / PATRA, Michael
Schubartweg 41
73447 Oberkochen / DE
 [2012/21]
Representative(s)Schwanhäusser, Gernot, et al
Ostertag & Partner
Patentanwälte mbB
Epplestrasse 14
70597 Stuttgart / DE
[N/P]
Former [2013/23]Schwanhäusser, Gernot, et al
Ostertag & Partner
Patentanwälte
Epplestrasse 14
D-70597 Stuttgart / DE
Former [2012/21]Schwanhäusser, Gernot, et al
Ostertag & Partner Patentanwälte Epplestrasse 14
D-70597 Stuttgart / DE
Application number, filing date09777279.217.07.2009
WO2009EP05225
Filing languageEN
Procedural languageEN
PublicationType: A1 Application with search report
No.:WO2011006522
Date:20.01.2011
Language:EN
[2011/03]
Type: A1 Application with search report 
No.:EP2454636
Date:23.05.2012
Language:EN
The application published by WIPO in one of the EPO official languages on 20.01.2011 takes the place of the publication of the European patent application.
[2012/21]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP2454636
Date:05.06.2013
Language:EN
[2013/23]
Search report(s)International search report - published on:EP20.01.2011
ClassificationIPC:G03F7/20, G02B26/08
[2012/21]
CPC:
G03F7/7085 (EP,US); G02B26/08 (KR); G02B13/143 (EP,US);
G02B17/0663 (EP,US); G02B26/0825 (EP,US); G02B26/0833 (EP,US);
G03F7/20 (KR); G03F7/70116 (EP,US) (-)
Designated contracting statesAT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   SE,   SI,   SK,   SM,   TR [2012/21]
Extension statesALNot yet paid
BANot yet paid
RSNot yet paid
TitleGerman:BELICHTUNGSVORRICHTUNG FÜR MIKROLITHOGRAFISCHE PROJEKTION UND VERFAHREN ZUR MESSUNG EINES PARAMETERS EINER OPTISCHEN FLÄCHE DARIN[2012/21]
English:MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MEASURING A PARAMETER RELATED TO AN OPTICAL SURFACE CONTAINED THEREIN[2012/21]
French:APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE MESURE D'UN PARAMÈTRE ASSOCIÉ À UNE SURFACE OPTIQUE CONTENUE DANS CELUI-CI[2012/21]
Entry into regional phase01.02.2012National basic fee paid 
01.02.2012Designation fee(s) paid 
01.02.2012Examination fee paid 
Examination procedure01.02.2012Examination requested  [2012/21]
17.01.2013Communication of intention to grant the patent
19.04.2013Fee for grant paid
19.04.2013Fee for publishing/printing paid
Divisional application(s)The date of the Examining Division's first communication in respect of the earliest application for which a communication has been issued is  17.01.2013
Opposition(s)06.03.2014No opposition filed within time limit [2014/20]
Fees paidRenewal fee
25.01.2012Renewal fee patent year 03
23.07.2012Renewal fee patent year 04
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court		 See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipHU17.07.2009
AT05.06.2013
BE05.06.2013
CY05.06.2013
CZ05.06.2013
DK05.06.2013
EE05.06.2013
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HR05.06.2013
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NO05.09.2013
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NO05.09.2013
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BG05.09.2013
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GR06.09.2013
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FI05.06.2013
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NO05.09.2013
GR06.09.2013
ES16.09.2013
Former [2013/49]AT05.06.2013
FI05.06.2013
LT05.06.2013
SE05.06.2013
SI05.06.2013
NO05.09.2013
GR06.09.2013
ES16.09.2013
Former [2013/48]AT05.06.2013
LT05.06.2013
NO05.09.2013
ES16.09.2013
Former [2013/47]LT05.06.2013
NO05.09.2013
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