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Extract from the Register of European Patents

EP About this file: EP2484801

EP2484801 - Method of deposition of Al2O3/SiO2 stacks, from TMA or TEA and silicon precursors [Right-click to bookmark this link]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  29.06.2018
Database last updated on 29.06.2024
FormerThe patent has been granted
Status updated on  21.07.2017
FormerGrant of patent is intended
Status updated on  21.03.2017
FormerExamination is in progress
Status updated on  24.01.2017
Most recent event   Tooltip10.07.2020Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): AL		published on 12.08.2020  [2020/33]
Applicant(s)For all designated states
L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE
75, Quai d'Orsay
75007 Paris / FR
For all designated states
Technische Universiteit Eindhoven
Den Dolech 2
5612 AZ Eindhoven / NL
[2012/32]
Inventor(s)01 / Lachaud, Christophe
64 rue de la Fontaine
91240, SAINT-MICHEL SUR ORGE / FR
02 / Madec, Alain
35 avenue du Général de Gaulle
91140, VILLEBON S/YVETTE / FR
03 / Kessels, Wilhelmus Mathijs Marie
Bijsterveldenlaan 13
5045 ZZ, TILBURG / NL
04 / Dingemans, Gijs
Nazarethstraat 2
5021 VX, TILBURG / NL
 [2012/32]
Representative(s)Grout de Beaufort, François-Xavier
L'Air Liquide
Direction Propriété Intellectuelle
75, quai d'Orsay
75321 Paris Cedex 07 / FR
[N/P]
Former [2012/32]Grout de Beaufort, François-Xavier
L'Air Liquide Direction Propriété Intellectuelle 75, quai d'Orsay
75321 Paris Cedex 07 / FR
Application number, filing date11305113.007.02.2011
[2012/32]
Filing languageEN
Procedural languageEN
PublicationType: A1 Application with search report 
No.:EP2484801
Date:08.08.2012
Language:EN
[2012/32]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP2484801
Date:23.08.2017
Language:EN
[2017/34]
Search report(s)(Supplementary) European search report - dispatched on:EP07.06.2011
ClassificationIPC:C23C16/40, C23C16/455, H01L21/314, H01L21/02, H01L31/0216, H01L31/18
[2014/10]
CPC:
C23C16/402 (EP); C23C16/403 (EP); C23C16/45529 (EP);
C23C16/45553 (EP); H01L31/02167 (EP); H01L31/1868 (EP);
H01L21/02164 (EP); H01L21/0217 (EP); H01L21/02178 (EP);
H01L21/022 (EP); H01L21/0228 (EP); Y02P70/50 (EP) (-)
Former IPC [2012/32]C23C16/40, C23C16/455, H01L21/314
Designated contracting statesAL,   AT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   RS,   SE,   SI,   SK,   SM,   TR [2017/34]
Former [2012/32]AL,  AT,  BE,  BG,  CH,  CY,  CZ,  DE,  DK,  EE,  ES,  FI,  FR,  GB,  GR,  HR,  HU,  IE,  IS,  IT,  LI,  LT,  LU,  LV,  MC,  MK,  MT,  NL,  NO,  PL,  PT,  RO,  RS,  SE,  SI,  SK,  SM,  TR 
TitleGerman:Verfahren zur Abscheiden von Al2O3/SiO2-Stapeln durch Aluminium- und Silizium-Vorläufer[2017/14]
English:Method of deposition of Al2O3/SiO2 stacks, from TMA or TEA and silicon precursors[2012/32]
French:Procédé pour le dépôt de piles d'Al2O3/SiO2 à partir de précurseurs du silicium et de l'aluminium[2017/14]
Former [2012/32]Verfahren zum Aufsetzen von Al2O3/SiO2-Stapeln, von Aluminium- und Silikonvorläufern
Former [2012/32]Procédé pour le dépôt de piles d'Al2O3/SiO2 de précurseurs du silicium et de l'aluminium
Examination procedure30.01.2013Amendment by applicant (claims and/or description)
08.02.2013Examination requested  [2013/12]
23.12.2014Despatch of a communication from the examining division (Time limit: M06)
22.06.2015Reply to a communication from the examining division
06.10.2016Despatch of a communication from the examining division (Time limit: M04)
23.01.2017Reply to a communication from the examining division
22.03.2017Communication of intention to grant the patent
11.07.2017Fee for grant paid
11.07.2017Fee for publishing/printing paid
11.07.2017Receipt of the translation of the claim(s)
Divisional application(s)The date of the Examining Division's first communication in respect of the earliest application for which a communication has been issued is  23.12.2014
Opposition(s)24.05.2018No opposition filed within time limit [2018/31]
Fees paidRenewal fee
21.02.2013Renewal fee patent year 03
20.02.2014Renewal fee patent year 04
23.02.2015Renewal fee patent year 05
22.02.2016Renewal fee patent year 06
17.02.2017Renewal fee patent year 07
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court		 See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipHU07.02.2011
AL23.08.2017
AT23.08.2017
CY23.08.2017
CZ23.08.2017
DK23.08.2017
EE23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
IT23.08.2017
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LV23.08.2017
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MK23.08.2017
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RS23.08.2017
SE23.08.2017
SI23.08.2017
SK23.08.2017
SM23.08.2017
TR23.08.2017
BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
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LU07.02.2018
MT07.02.2018
BE28.02.2018
CH28.02.2018
LI28.02.2018
[2020/33]
Former [2020/31]HU07.02.2011
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FI23.08.2017
HR23.08.2017
IT23.08.2017
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MK23.08.2017
NL23.08.2017
PL23.08.2017
PT23.08.2017
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RS23.08.2017
SE23.08.2017
SI23.08.2017
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SM23.08.2017
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NO23.11.2017
GR24.11.2017
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GR24.11.2017
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RS23.08.2017
SE23.08.2017
SI23.08.2017
SK23.08.2017
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NO23.11.2017
GR24.11.2017
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CZ23.08.2017
DK23.08.2017
EE23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
IT23.08.2017
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PL23.08.2017
RO23.08.2017
RS23.08.2017
SE23.08.2017
SI23.08.2017
SK23.08.2017
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BG23.11.2017
NO23.11.2017
GR24.11.2017
IS23.12.2017
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EE23.08.2017
ES23.08.2017
FI23.08.2017
HR23.08.2017
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LT23.08.2017
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RO23.08.2017
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SK23.08.2017
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