blank Quick help
blank Maintenance news

Scheduled maintenance

Regular maintenance outages:
between 05.00 and 05.15 hrs CET (Monday to Sunday).

Other outages
Availability
Register Forum

2022.02.11

More...
blank News flashes

News Flashes

New version of the European Patent Register – SPC proceedings information in the Unitary Patent Register.

2024-07-24

More...
blank Related links

Extract from the Register of European Patents

EP About this file: EP2529416

EP2529416 - PHOTOVOLTAIC CELL, INCLUDING A CRYSTALLINE SILICON OXIDE PASSIVATION THIN FILM, AND METHOD FOR PRODUCING SAME [Right-click to bookmark this link]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  26.08.2016
Database last updated on 24.08.2024
Most recent event   Tooltip12.10.2018Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): AL
published on 14.11.2018  [2018/46]
Applicant(s)For all designated states
Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
25, Rue Leblanc
Bâtiment "Le Ponant D"
75015 Paris / FR
[N/P]
Former [2015/43]For all designated states
Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
25, rue Leblanc
Bâtiment "Le Ponant D"
75015 Paris / FR
Former [2012/49]For all designated states
Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
25, rue Leblanc
Bâtiment "Le Ponant D"
75015 Paris / FR
Inventor(s)01 / MUR, Pierre
26 Impasse du Bois Radier
Cidex 132A
F-38920 Crolles / FR
02 / MORICEAU, Hubert
26 rue du Fournet
F-38120 Saint-Egrève / FR
03 / RIBEYRON, Pierre-Jean
191 Impasse des Prés
F-38330 Saint Ismier / FR
 [2012/49]
Representative(s)Talbot, Alexandre, et al
Cabinet Hecké
28 Cours Jean Jaurès
38000 Grenoble / FR
[N/P]
Former [2012/49]Talbot, Alexandre, et al
Cabinet Hecké
Europole
10, rue d'Arménie - BP 1537
38025 Grenoble Cedex 1 / FR
Application number, filing date11708521.726.01.2011
[2015/43]
WO2011FR00050
Priority number, dateFR2010000030927.01.2010         Original published format: FR 1000309
[2012/49]
Filing languageFR
Procedural languageFR
PublicationType: A2 Application without search report
No.:WO2011092402
Date:04.08.2011
Language:FR
[2011/31]
Type: A2 Application without search report 
No.:EP2529416
Date:05.12.2012
Language:FR
The application published by WIPO in one of the EPO official languages on 04.08.2011 takes the place of the publication of the European patent application.
[2012/49]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP2529416
Date:21.10.2015
Language:FR
[2015/43]
Search report(s)International search report - published on:EP30.08.2012
ClassificationIPC:H01L31/0747
[2015/28]
CPC:
H01L31/0745 (EP,KR,US); H01L31/0747 (EP,KR,US); H01L31/0368 (KR);
H01L31/03762 (KR); H01L31/1868 (EP,KR,US); Y02E10/50 (KR,US);
Y02E10/547 (EP); Y02E10/548 (EP); Y02P70/50 (EP,KR,US) (-)
Former IPC [2012/49]H01L31/072
Designated contracting statesAL,   AT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   RS,   SE,   SI,   SK,   SM,   TR [2012/49]
Extension statesBANot yet paid
MENot yet paid
TitleGerman:PHOTOVOLTAISCHE ZELLE EINSCHLIESSLICH EINER PASSIVIERUNGSSCHICHT AUS KRISTALLINEM SILICIUMOXID SOWIE VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG[2012/49]
English:PHOTOVOLTAIC CELL, INCLUDING A CRYSTALLINE SILICON OXIDE PASSIVATION THIN FILM, AND METHOD FOR PRODUCING SAME[2012/49]
French:CELLULE PHOTOVOLTAÏQUE COMPRENANT UN FILM MINCE DE PASSIVATION EN OXYDE CRISTALLIN DE SILICIUM ET PROCÉDÉ DE RÉALISATION[2012/49]
Entry into regional phase25.07.2012National basic fee paid 
25.07.2012Designation fee(s) paid 
25.07.2012Examination fee paid 
Examination procedure25.07.2012Examination requested  [2012/49]
25.06.2015Communication of intention to grant the patent
10.09.2015Fee for grant paid
10.09.2015Fee for publishing/printing paid
10.09.2015Receipt of the translation of the claim(s)
Divisional application(s)The date of the Examining Division's first communication in respect of the earliest application for which a communication has been issued is  25.06.2015
Opposition(s)22.07.2016No opposition filed within time limit [2016/39]
Fees paidRenewal fee
17.12.2012Renewal fee patent year 03
28.12.2013Renewal fee patent year 04
22.12.2014Renewal fee patent year 05
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court
See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipHU26.01.2011
AL21.10.2015
AT21.10.2015
BG21.10.2015
CY21.10.2015
CZ21.10.2015
DK21.10.2015
EE21.10.2015
FI21.10.2015
HR21.10.2015
LT21.10.2015
LV21.10.2015
MC21.10.2015
MK21.10.2015
MT21.10.2015
NL21.10.2015
PL21.10.2015
RO21.10.2015
RS21.10.2015
SE21.10.2015
SI21.10.2015
SK21.10.2015
SM21.10.2015
TR21.10.2015
NO21.01.2016
GR22.01.2016
IE26.01.2016
LU26.01.2016
BE31.01.2016
CH31.01.2016
LI31.01.2016
IS21.02.2016
PT22.02.2016
[2018/46]
Former [2018/38]HU26.01.2011
AT21.10.2015
BG21.10.2015
CY21.10.2015
CZ21.10.2015
DK21.10.2015
EE21.10.2015
FI21.10.2015
HR21.10.2015
LT21.10.2015
LV21.10.2015
MC21.10.2015
MK21.10.2015
MT21.10.2015
NL21.10.2015
PL21.10.2015
RO21.10.2015
RS21.10.2015
SE21.10.2015
SI21.10.2015
SK21.10.2015
SM21.10.2015
TR21.10.2015
NO21.01.2016
GR22.01.2016
IE26.01.2016
LU26.01.2016
BE31.01.2016
CH31.01.2016
LI31.01.2016
IS21.02.2016
PT22.02.2016
Former [2018/29]HU26.01.2011
AT21.10.2015
CY21.10.2015
CZ21.10.2015
DK21.10.2015
EE21.10.2015
FI21.10.2015
HR21.10.2015
LT21.10.2015
LV21.10.2015
MC21.10.2015
MK21.10.2015
MT21.10.2015
NL21.10.2015
PL21.10.2015
RO21.10.2015
RS21.10.2015
SE21.10.2015
SI21.10.2015
SK21.10.2015
SM21.10.2015
TR21.10.2015
NO21.01.2016
GR22.01.2016
IE26.01.2016
LU26.01.2016
BE31.01.2016
CH31.01.2016
LI31.01.2016
IS21.02.2016
PT22.02.2016
Former [2018/28]HU26.01.2011
AT21.10.2015
CY21.10.2015
CZ21.10.2015
DK21.10.2015
EE21.10.2015
FI21.10.2015
HR21.10.2015
LT21.10.2015
LV21.10.2015
MC21.10.2015
MK21.10.2015
MT21.10.2015
NL21.10.2015
PL21.10.2015
RO21.10.2015
RS21.10.2015
SE21.10.2015
SI21.10.2015
SK21.10.2015
SM21.10.2015
NO21.01.2016
GR22.01.2016
IE26.01.2016
LU26.01.2016
BE31.01.2016
CH31.01.2016
LI31.01.2016
IS21.02.2016
PT22.02.2016
Former [2017/47]AT21.10.2015
CZ21.10.2015
DK21.10.2015
EE21.10.2015
FI21.10.2015
HR21.10.2015
LT21.10.2015
LV21.10.2015
MC21.10.2015
MT21.10.2015
NL21.10.2015
PL21.10.2015
RO21.10.2015
RS21.10.2015
SE21.10.2015
SI21.10.2015
SK21.10.2015
SM21.10.2015
NO21.01.2016
GR22.01.2016
IE26.01.2016
LU26.01.2016
BE31.01.2016
CH31.01.2016
LI31.01.2016
IS21.02.2016
PT22.02.2016
Former [2017/07]AT21.10.2015
CZ21.10.2015
DK21.10.2015
EE21.10.2015
FI21.10.2015
HR21.10.2015
LT21.10.2015
LV21.10.2015
MC21.10.2015
NL21.10.2015
PL21.10.2015
RO21.10.2015
RS21.10.2015
SE21.10.2015
SI21.10.2015
SK21.10.2015
SM21.10.2015
NO21.01.2016
GR22.01.2016
IE26.01.2016
LU26.01.2016
BE31.01.2016
CH31.01.2016
LI31.01.2016
IS21.02.2016
PT22.02.2016
Former [2016/49]AT21.10.2015
CZ21.10.2015
DK21.10.2015
EE21.10.2015
FI21.10.2015
HR21.10.2015
LT21.10.2015
LV21.10.2015
MC21.10.2015
NL21.10.2015
PL21.10.2015
RO21.10.2015
RS21.10.2015
SE21.10.2015
SI21.10.2015
SK21.10.2015
SM21.10.2015
NO21.01.2016
GR22.01.2016
LU26.01.2016
BE31.01.2016
CH31.01.2016
LI31.01.2016
IS21.02.2016
PT22.02.2016
Former [2016/46]AT21.10.2015
CZ21.10.2015
DK21.10.2015
EE21.10.2015
FI21.10.2015
HR21.10.2015
LT21.10.2015
LV21.10.2015
MC21.10.2015
NL21.10.2015
PL21.10.2015
RO21.10.2015
RS21.10.2015
SE21.10.2015
SK21.10.2015
SM21.10.2015
NO21.01.2016
GR22.01.2016
LU26.01.2016
BE31.01.2016
CH31.01.2016
LI31.01.2016
IS21.02.2016
PT22.02.2016
Former [2016/42]AT21.10.2015
CZ21.10.2015
DK21.10.2015
EE21.10.2015
FI21.10.2015
HR21.10.2015
LT21.10.2015
LV21.10.2015
MC21.10.2015
NL21.10.2015
PL21.10.2015
RO21.10.2015
RS21.10.2015
SE21.10.2015
SK21.10.2015
SM21.10.2015
NO21.01.2016
GR22.01.2016
LU26.01.2016
BE31.01.2016
IS21.02.2016
PT22.02.2016
Former [2016/39]AT21.10.2015
CZ21.10.2015
DK21.10.2015
EE21.10.2015
FI21.10.2015
HR21.10.2015
LT21.10.2015
LV21.10.2015
NL21.10.2015
PL21.10.2015
RO21.10.2015
RS21.10.2015
SE21.10.2015
SK21.10.2015
SM21.10.2015
NO21.01.2016
GR22.01.2016
LU26.01.2016
BE31.01.2016
IS21.02.2016
PT22.02.2016
Former [2016/38]AT21.10.2015
CZ21.10.2015
EE21.10.2015
FI21.10.2015
HR21.10.2015
LT21.10.2015
LV21.10.2015
NL21.10.2015
PL21.10.2015
RO21.10.2015
RS21.10.2015
SE21.10.2015
SK21.10.2015
SM21.10.2015
NO21.01.2016
GR22.01.2016
BE31.01.2016
IS21.02.2016
PT22.02.2016
Former [2016/36]AT21.10.2015
CZ21.10.2015
EE21.10.2015
FI21.10.2015
HR21.10.2015
LT21.10.2015
LV21.10.2015
NL21.10.2015
PL21.10.2015
RO21.10.2015
RS21.10.2015
SE21.10.2015
SK21.10.2015
NO21.01.2016
GR22.01.2016
BE31.01.2016
IS21.02.2016
PT22.02.2016
Former [2016/34]AT21.10.2015
CZ21.10.2015
FI21.10.2015
HR21.10.2015
LT21.10.2015
LV21.10.2015
NL21.10.2015
PL21.10.2015
RS21.10.2015
SE21.10.2015
NO21.01.2016
GR22.01.2016
BE31.01.2016
IS21.02.2016
PT22.02.2016
Former [2016/25]AT21.10.2015
FI21.10.2015
HR21.10.2015
LT21.10.2015
LV21.10.2015
NL21.10.2015
PL21.10.2015
RS21.10.2015
SE21.10.2015
NO21.01.2016
GR22.01.2016
BE31.01.2016
IS21.02.2016
PT22.02.2016
Former [2016/24]AT21.10.2015
FI21.10.2015
HR21.10.2015
LT21.10.2015
NL21.10.2015
PL21.10.2015
RS21.10.2015
SE21.10.2015
NO21.01.2016
GR22.01.2016
BE31.01.2016
IS21.02.2016
PT22.02.2016
Former [2016/23]HR21.10.2015
LT21.10.2015
NL21.10.2015
RS21.10.2015
SE21.10.2015
NO21.01.2016
IS21.02.2016
Former [2016/22]LT21.10.2015
NL21.10.2015
NO21.01.2016
IS21.02.2016
Former [2016/21]LT21.10.2015
NO21.01.2016
Former [2016/20]LT21.10.2015
Cited inInternational search[A]WO2009094578  (APPLIED MATERIALS INC [US]) [A] 1-18 * the whole document *;
 [A]US2007256728  (COUSINS PETER J [PH]) [A] 1-18 * the whole document *;
 [A]US5693578  (NAKANISHI TOSHIRO [JP], et al) [A] 13-16,18 * column 7, line 31 - line 67 *;
 [A]US2008083830  (TOKUNAGA HAJIME [JP], et al) [A] 13-16 * paragraph [0085] *
 [A]  - HURAN, J., GULDAN, A., "Silicon oxide films prepared by plasma oxidation of silicon and their application for tunnel MIS diodes", ACTA PHYS. SLOV., (19900101), vol. 39, no. 2, pages 108 - 115, XP002611749 [A] 13-18 * Abstract and "I. INTRODUCTION" *
by applicantUS2001029978
    - J. SRITHARATHIIKHUN ET AL., "Optimization of Amorphous Silicon Oxide Buffer Layer for High-Efficiency p-Type Hydrogenated Microcrystalline Silicon Oxide/n-type Cristalline Silicon Heterojonction Solar Cell", JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, (2008), vol. 47, no. 11, pages 8452 - 8455
The EPO accepts no responsibility for the accuracy of data originating from other authorities; in particular, it does not guarantee that it is complete, up to date or fit for specific purposes.