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Extract from the Register of European Patents

EP About this file: EP2602661

EP2602661 - Chemically amplified negative resist composition, photo-curable dry film, making method, pattern forming process, and electric/electronic part protecting film [Right-click to bookmark this link]
Status	No opposition filed within time limit Status updated on 10.07.2020 Database last updated on 31.08.2024
Former	The patent has been granted Status updated on 26.07.2019
Former	Grant of patent is intended Status updated on 19.03.2019
Most recent event Tooltip	01.07.2022	Lapse of the patent in a contracting state New state(s): MK	published on 03.08.2022 [2022/31]
Applicant(s)	For all designated states Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 6-1, Otemachi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo / JP
	[2013/24]
Inventor(s)	01 / Takemura, Katsuya c/o New Functional Materials Research Center Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 28-1, Nishi Fukushima Kubiki-ku Joetsu-shi, Niigata / JP
	02 / Miyazaki, Takashi c/o New Functional Materials Research Center Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 28-1, Nishi Fukushima Kubiki-ku Joetsu-shi, Niigata / JP
	03 / Urano, Hiroyuki c/o New Functional Materials Research Center Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 28-1, Nishi Fukushima Kubiki-ku Joetsu-shi, Niigata / JP
	[2013/24]
Representative(s)	Ter Meer Steinmeister & Partner Patentanwälte mbB Nymphenburger Straße 4 80335 München / DE
	[2019/35]
Former [2013/24]	Ter Meer Steinmeister & Partner Me/bk Mauerkircherstrasse 45 81679 München / DE
Application number, filing date	12196245.0	10.12.2012
	[2013/24]
Priority number, date	JP20110270001	09.12.2011 Original published format: JP 2011270001
	[2013/24]
Filing language	EN
Procedural language	EN
Publication	Type:	A1 Application with search report
	No.:	EP2602661
	Date:	12.06.2013
	Language:	EN
	[2013/24]
	Type:	B1 Patent specification
	No.:	EP2602661
	Date:	28.08.2019
	Language:	EN
	[2019/35]
Search report(s)	(Supplementary) European search report - dispatched on:	EP	04.04.2013
Classification	IPC:	G03F7/075, G03F7/085, G03F7/038, G03F7/16, G03F7/40	[2018/41]
	CPC:	G03F7/0757 (EP,KR,US); G03F7/0382 (EP,KR,US); G03F7/0045 (KR); G03F7/028 (KR); G03F7/038 (KR,US); G03F7/085 (EP,US); (+) G03F7/161 (EP,KR,US); G03F7/2002 (KR,US); G03F7/26 (KR); G03F7/40 (EP,KR,US); H01L21/027 (KR); H01L21/0271 (KR) (-)
	Former IPC [2013/24]	G03F7/038, G03F7/075, G03F7/40
Designated contracting states	AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LI, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR [2019/35]
Former [2013/24]	AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LI, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR
Title	German:	Chemisch verstärkte, negative Resistzusammensetzung, lichthärtbarer Trockenfilm, Herstellungsverfahren, Musterbildungsverfahren und Schutzfilm für elektrisches/elektronisches Teil	[2013/24]
	English:	Chemically amplified negative resist composition, photo-curable dry film, making method, pattern forming process, and electric/electronic part protecting film	[2013/24]
	French:	Composition de réserve négative amplifiée chimiquement, film sec photodurcissable, procédé de fabrication, procédé de formation de motif et film de protection de pièce électronique/électrique	[2013/24]
Examination procedure	05.12.2013	Amendment by applicant (claims and/or description)
	05.12.2013	Examination requested [2014/05]
	07.10.2015	Despatch of a communication from the examining division (Time limit: M04)
	04.02.2016	Reply to a communication from the examining division
	20.03.2019	Communication of intention to grant the patent
	19.07.2019	Fee for grant paid
	19.07.2019	Fee for publishing/printing paid
	19.07.2019	Receipt of the translation of the claim(s)
Divisional application(s)	The date of the Examining Division's first communication in respect of the earliest application for which a communication has been issued is 07.10.2015
Opposition(s)	03.06.2020	No opposition filed within time limit [2020/33]
Fees paid	Renewal fee
	11.12.2014	Renewal fee patent year 03
	10.12.2015	Renewal fee patent year 04
	13.12.2016	Renewal fee patent year 05
	12.12.2017	Renewal fee patent year 06
	12.12.2018	Renewal fee patent year 07
Opt-out from the exclusive Tooltip competence of the Unified Patent Court	See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
	Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition Tooltip	HU	10.12.2012
	AL	28.08.2019
	AT	28.08.2019
	CY	28.08.2019
	CZ	28.08.2019
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	[2022/31]
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