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EP About this file: EP3059635

EP3059635 - METHOD FOR ALIGNING QUADRATE WAFER IN FIRST PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESS [Right-click to bookmark this link]
Former [2016/34]METHOD FOR ALIGNING SQUARE WAFER IN FIRST PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESS
[2019/02]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  13.03.2020
Database last updated on 20.03.2026
FormerThe patent has been granted
Status updated on  05.04.2019
FormerGrant of patent is intended
Status updated on  19.12.2018
Most recent event   Tooltip08.07.2022Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): MK		published on 10.08.2022  [2022/32]
Applicant(s)For all designated states
Institute of Semiconductors, Chinese Academy Of Sciences
No. 35A Qinghua Dong Lu
Haidian District
Beijing 100083 / CN
[2016/34]
Inventor(s)01 / LI, Jinmin
No. 35A Qinghua Dong Lu
Haidian District
Beijing 100083 / CN
02 / WANG, Junxi
No. 35A Qinghua Dong Lu
Haidian District
Beijing 100083 / CN
03 / KONG, Qingfeng
No. 35A Qinghua Dong Lu
Haidian District
Beijing 100083 / CN
04 / GUO, Jinxia
No. 35A Qinghua Dong Lu
Haidian District
Beijing 100083 / CN
05 / YI, Xiaoyan
No. 35A Qinghua Dong Lu
Haidian District
Beijing 100083 / CN
 [2016/34]
Representative(s)Patentanwälte Geyer, Fehners & Partner mbB
Perhamerstrasse 31
80687 München / DE
[2016/34]
Application number, filing date14853966.103.01.2014
[2016/34]
WO2014CN70051
Priority number, dateCN20131048516216.10.2013         Original published format: CN201310485162
[2016/34]
Filing languageZH
Procedural languageEN
PublicationType: A1 Application with search report
No.:WO2015054977
Date:23.04.2015
Language:ZH
[2015/16]
Type: A1 Application with search report 
No.:EP3059635
Date:24.08.2016
Language:EN
[2016/34]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP3059635
Date:08.05.2019
Language:EN
[2019/19]
Search report(s)International search report - published on:CN23.04.2015
(Supplementary) European search report - dispatched on:EP08.05.2017
ClassificationIPC:G03F9/00, G03F1/42
[2017/23]
CPC:
G03F9/7084 (EP,US); G03F1/42 (EP,US)
Former IPC [2016/34]G03F9/00
Designated contracting statesAL,   AT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   RS,   SE,   SI,   SK,   SM,   TR [2016/34]
Extension statesBANot yet paid
MENot yet paid
TitleGerman:VERFAHREN ZUM AUSRICHTEN EINES RECHTECKIGEN WAFERS IN EINEM ERSTEN PHOTOLITHOGRAFISCHEN PROZESS[2019/02]
English:METHOD FOR ALIGNING QUADRATE WAFER IN FIRST PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESS[2019/02]
French:MÉTHODE D'ALIGNEMENT D'UNE PLAQUETTE CARRÉE DANS UN PREMIER PROCESSUS PHOTOLITHOGRAPHIQUE[2019/02]
Former [2016/34]VERFAHREN ZUM AUSRICHTEN RECHTECKIGER HALBLEITERSCHEIBEN IN EINEM ERSTEN PHOTOLITHOGRAFISCHEN PROZESS
Former [2016/34]METHOD FOR ALIGNING SQUARE WAFER IN FIRST PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESS
Former [2016/34]MÉTHODE D'ALIGNEMENT D'UNE TRANCHE CARRÉE DANS UN PREMIER PROCESSUS PHOTOLITHOGRAPHIQUE
Entry into regional phase12.04.2016Translation filed 
15.04.2016National basic fee paid 
15.04.2016Search fee paid 
15.04.2016Designation fee(s) paid 
15.04.2016Examination fee paid 
Examination procedure15.04.2016Examination requested  [2016/34]
27.11.2017Amendment by applicant (claims and/or description)
20.12.2018Communication of intention to grant the patent
27.03.2019Fee for grant paid
27.03.2019Fee for publishing/printing paid
27.03.2019Receipt of the translation of the claim(s)
Divisional application(s)The date of the Examining Division's first communication in respect of the earliest application for which a communication has been issued is  20.12.2018
Opposition(s)11.02.2020No opposition filed within time limit [2020/16]
Fees paidRenewal fee
15.04.2016Renewal fee patent year 03
20.01.2017Renewal fee patent year 04
26.01.2018Renewal fee patent year 05
22.01.2019Renewal fee patent year 06
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court		 See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipHU03.01.2014
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[2022/31]
Former [2022/30]HU03.01.2014
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