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Extract from the Register of European Patents

EP About this file: EP3104397

EP3104397 - METHOD FOR DOPING SILICON WAFERS [Right-click to bookmark this link]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  17.08.2018
Database last updated on 13.11.2024
FormerThe patent has been granted
Status updated on  08.09.2017
FormerGrant of patent is intended
Status updated on  18.05.2017
FormerRequest for examination was made
Status updated on  24.03.2017
FormerThe application has been published
Status updated on  11.11.2016
Most recent event   Tooltip17.07.2020Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): AL
published on 19.08.2020  [2020/34]
Applicant(s)For all designated states
International Solar Energy Research Center Konstanz E.V.
Rudolf-Diesel-Strasse 15
78467 Konstanz / DE
[2016/50]
Inventor(s)01 / Mihailetchi, Valentin Dan
Zur Friedrichshöhe 21
78464 Konstanz / DE
 [2016/50]
Representative(s)Westphal, Mussgnug & Partner Patentanwälte mbB
Am Riettor 5
78048 Villingen-Schwenningen / DE
[2016/50]
Application number, filing date15171263.509.06.2015
[2016/50]
Filing languageEN
Procedural languageEN
PublicationType: A1 Application with search report 
No.:EP3104397
Date:14.12.2016
Language:EN
[2016/50]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP3104397
Date:11.10.2017
Language:EN
[2017/41]
Search report(s)(Supplementary) European search report - dispatched on:EP14.12.2015
ClassificationIPC:H01L21/225, H01L31/18
[2016/50]
CPC:
H01L21/2252 (EP,CN); H01L31/1804 (EP,CN); Y02E10/547 (EP);
Y02P70/50 (EP)
Designated contracting statesAL,   AT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   RS,   SE,   SI,   SK,   SM,   TR [2017/17]
Former [2016/50]AL,  AT,  BE,  BG,  CH,  CY,  CZ,  DE,  DK,  EE,  ES,  FI,  FR,  GB,  GR,  HR,  HU,  IE,  IS,  IT,  LI,  LT,  LU,  LV,  MC,  MK,  MT,  NL,  NO,  PL,  PT,  RO,  RS,  SE,  SI,  SK,  SM,  TR 
TitleGerman:VERFAHREN ZUR DOTIERUNG VON SILICIUMWAFERN[2016/50]
English:METHOD FOR DOPING SILICON WAFERS[2016/50]
French:PROCÉDÉ DE DOPAGE DE TRANCHES DE SILICIUM[2016/50]
Examination procedure09.06.2015Date on which the examining division has become responsible
20.03.2017Examination requested  [2017/17]
19.05.2017Communication of intention to grant the patent
23.08.2017Fee for grant paid
23.08.2017Fee for publishing/printing paid
23.08.2017Receipt of the translation of the claim(s)
Opposition(s)12.07.2018No opposition filed within time limit [2018/38]
Fees paidRenewal fee
26.06.2017Renewal fee patent year 03
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court
See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipHU09.06.2015
AL11.10.2017
AT11.10.2017
CY11.10.2017
CZ11.10.2017
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[2020/34]
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Former [2018/52]AT11.10.2017
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Former [2018/39]AT11.10.2017
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Former [2018/37]AT11.10.2017
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Former [2018/35]AT11.10.2017
CZ11.10.2017
DK11.10.2017
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Former [2018/24]AT11.10.2017
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FI11.10.2017
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SE11.10.2017
BG11.01.2018
NO11.01.2018
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Former [2018/23]AT11.10.2017
ES11.10.2017
FI11.10.2017
HR11.10.2017
LT11.10.2017
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SE11.10.2017
NO11.01.2018
GR12.01.2018
IS11.02.2018
Former [2018/22]ES11.10.2017
FI11.10.2017
LT11.10.2017
NO11.01.2018
Documents cited:Search[AD]US2012083105  (PELLEGRIN YVON [FR]) [AD] 1 * paragraphs [0019] , [0 21] , [0 23] , [0 29] - [0031] - [0 65] - [0068]; figure 1 *;
 [A]EP2077587  (KYOCERA CORP [JP]) [A] 1 * paragraph [0075] *
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