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Extract from the Register of European Patents

EP About this file: EP3229262

EP3229262 - METHOD FOR THE VAPOUR PHASE ETCHING OF A SEMICONDUCTOR WAFER FOR TRACE METAL ANALYSIS [Right-click to bookmark this link]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  21.06.2019
Database last updated on 24.07.2024
FormerThe patent has been granted
Status updated on  13.07.2018
FormerGrant of patent is intended
Status updated on  22.03.2018
FormerExamination is in progress
Status updated on  15.11.2016
Most recent event   Tooltip08.07.2022Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): MK		published on 10.08.2022  [2022/32]
Applicant(s)For all designated states
Siltronic AG
Hanns-Seidel-Platz 4
81737 München / DE
[2017/41]
Inventor(s)01 / Hölzlwimmer, Franz
Weinbergstraße 28
84367 Zeilarn / DE
 [2017/41]
Application number, filing date16163874.705.04.2016
[2017/41]
Filing languageEN
Procedural languageEN
PublicationType: A1 Application with search report 
No.:EP3229262
Date:11.10.2017
Language:EN
[2017/41]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP3229262
Date:15.08.2018
Language:EN
[2018/33]
Search report(s)(Supplementary) European search report - dispatched on:EP19.10.2016
ClassificationIPC:H01L21/306, G01N1/32, H01L21/67
[2017/41]
CPC:
H01L21/30604 (EP,KR,US); G01N1/32 (KR,US); H01L21/02019 (US);
H01L21/31116 (US); H01L21/32134 (KR); H01L21/67063 (KR);
H01L21/67069 (US); C30B29/06 (US) (-)
Designated contracting statesAL,   AT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   RS,   SE,   SI,   SK,   SM,   TR [2017/41]
TitleGerman:VERFAHREN ZUR DAMPFPHASENÄTZUNG EINER HALBLEITERSCHEIBE ZUR SPURENMETALLANALYSE[2017/41]
English:METHOD FOR THE VAPOUR PHASE ETCHING OF A SEMICONDUCTOR WAFER FOR TRACE METAL ANALYSIS[2017/41]
French:PROCÉDÉ POUR LA GRAVURE EN PHASE VAPEUR D'UNE TRANCHE DE SEMI-CONDUCTEUR POUR L'ANALYSE DE TRACES DE MÉTAUX[2017/41]
Examination procedure05.04.2016Examination requested  [2017/41]
05.04.2016Date on which the examining division has become responsible
04.11.2016Despatch of a communication from the examining division (Time limit: M04)
25.01.2017Reply to a communication from the examining division
18.05.2017Despatch of a communication from the examining division (Time limit: M04)
07.09.2017Reply to a communication from the examining division
16.11.2017Despatch of a communication from the examining division (Time limit: M01)
05.12.2017Reply to a communication from the examining division
22.03.2018Communication of intention to grant the patent
27.06.2018Fee for grant paid
27.06.2018Fee for publishing/printing paid
27.06.2018Receipt of the translation of the claim(s)
Opposition(s)16.05.2019No opposition filed within time limit [2019/30]
Fees paidRenewal fee
23.04.2018Renewal fee patent year 03
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court		 See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipHU05.04.2016
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PL15.08.2018
RO15.08.2018
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SE15.08.2018
SI15.08.2018
SK15.08.2018
SM15.08.2018
TR15.08.2018
BG15.11.2018
NO15.11.2018
GR16.11.2018
IS15.12.2018
PT15.12.2018
IE05.04.2019
LU05.04.2019
BE30.04.2019
CH30.04.2019
LI30.04.2019
[2022/32]
Former [2021/34]HU05.04.2016
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AT15.08.2018
CY15.08.2018
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NO15.11.2018
GR16.11.2018
IS15.12.2018
PT15.12.2018
IE05.04.2019
LU05.04.2019
BE30.04.2019
CH30.04.2019
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Former [2021/32]HU05.04.2016
AL15.08.2018
AT15.08.2018
CY15.08.2018
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NL15.08.2018
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RS15.08.2018
SE15.08.2018
SI15.08.2018
SK15.08.2018
SM15.08.2018
TR15.08.2018
BG15.11.2018
NO15.11.2018
GR16.11.2018
IS15.12.2018
PT15.12.2018
IE05.04.2019
LU05.04.2019
BE30.04.2019
CH30.04.2019
LI30.04.2019
Former [2021/26]AL15.08.2018
AT15.08.2018
CY15.08.2018
CZ15.08.2018
EE15.08.2018
ES15.08.2018
HR15.08.2018
IT15.08.2018
LT15.08.2018
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NL15.08.2018
PL15.08.2018
RO15.08.2018
RS15.08.2018
SE15.08.2018
SI15.08.2018
SK15.08.2018
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BG15.11.2018
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GR16.11.2018
IS15.12.2018
PT15.12.2018
IE05.04.2019
LU05.04.2019
BE30.04.2019
CH30.04.2019
LI30.04.2019
Former [2020/29]AL15.08.2018
AT15.08.2018
CZ15.08.2018
EE15.08.2018
ES15.08.2018
HR15.08.2018
IT15.08.2018
LT15.08.2018
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MC15.08.2018
NL15.08.2018
PL15.08.2018
RO15.08.2018
RS15.08.2018
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SI15.08.2018
SK15.08.2018
SM15.08.2018
TR15.08.2018
BG15.11.2018
NO15.11.2018
GR16.11.2018
IS15.12.2018
PT15.12.2018
IE05.04.2019
LU05.04.2019
BE30.04.2019
CH30.04.2019
LI30.04.2019
Former [2020/21]AL15.08.2018
AT15.08.2018
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HR15.08.2018
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LT15.08.2018
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NL15.08.2018
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RO15.08.2018
RS15.08.2018
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SM15.08.2018
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BG15.11.2018
NO15.11.2018
GR16.11.2018
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IE05.04.2019
LU05.04.2019
BE30.04.2019
CH30.04.2019
LI30.04.2019
Former [2020/16]AL15.08.2018
AT15.08.2018
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TR15.08.2018
BG15.11.2018
NO15.11.2018
GR16.11.2018
IS15.12.2018
LU05.04.2019
BE30.04.2019
CH30.04.2019
LI30.04.2019
Former [2020/11]AL15.08.2018
AT15.08.2018
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HR15.08.2018
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NL15.08.2018
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RS15.08.2018
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SI15.08.2018
SK15.08.2018
SM15.08.2018
BG15.11.2018
NO15.11.2018
GR16.11.2018
IS15.12.2018
LU05.04.2019
BE30.04.2019
CH30.04.2019
LI30.04.2019
Former [2020/04]AL15.08.2018
AT15.08.2018
CZ15.08.2018
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HR15.08.2018
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BG15.11.2018
NO15.11.2018
GR16.11.2018
IS15.12.2018
LU05.04.2019
Former [2020/02]AL15.08.2018
AT15.08.2018
CZ15.08.2018
EE15.08.2018
ES15.08.2018
HR15.08.2018
IT15.08.2018
LT15.08.2018
LV15.08.2018
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NL15.08.2018
PL15.08.2018
RO15.08.2018
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SK15.08.2018
SM15.08.2018
BG15.11.2018
NO15.11.2018
GR16.11.2018
IS15.12.2018
Former [2019/37]AL15.08.2018
AT15.08.2018
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EE15.08.2018
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NL15.08.2018
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RO15.08.2018
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SI15.08.2018
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BG15.11.2018
NO15.11.2018
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Former [2019/26]AL15.08.2018
AT15.08.2018
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Former [2019/23]AL15.08.2018
AT15.08.2018
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NO15.11.2018
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Former [2019/22]AL15.08.2018
AT15.08.2018
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RO15.08.2018
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Former [2019/21]AL15.08.2018
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Former [2019/12]AL15.08.2018
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HR15.08.2018
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BG15.11.2018
NO15.11.2018
GR16.11.2018
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Former [2019/11]AT15.08.2018
HR15.08.2018
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NL15.08.2018
RS15.08.2018
SE15.08.2018
BG15.11.2018
NO15.11.2018
GR16.11.2018
IS15.12.2018
Former [2019/10]AT15.08.2018
LT15.08.2018
NL15.08.2018
RS15.08.2018
SE15.08.2018
BG15.11.2018
NO15.11.2018
GR16.11.2018
IS15.12.2018
Former [2019/09]LT15.08.2018
NL15.08.2018
NO15.11.2018
IS15.12.2018
Former [2019/08]LT15.08.2018
NO15.11.2018
IS15.12.2018
Former [2019/07]LT15.08.2018
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 [X]US6727155  (YANG JIUNN-DER [TW], et al) [X] 1,9 * figure 3 *;
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 JP2011129831
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