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Extract from the Register of European Patents

EP About this file: EP3189175

EP3189175 - SYSTEMS AND METHODS FOR SINGLE MAGNETRON SPUTTERING [Right-click to bookmark this link]
StatusNo opposition filed within time limit
Status updated on  27.12.2019
Database last updated on 20.12.2024
FormerThe patent has been granted
Status updated on  18.01.2019
FormerGrant of patent is intended
Status updated on  14.11.2018
FormerRequest for examination was made
Status updated on  10.10.2018
FormerGrant of patent is intended
Status updated on  20.09.2018
FormerRequest for examination was made
Status updated on  15.06.2017
FormerThe international publication has been made
Status updated on  03.02.2017
Most recent event   Tooltip08.07.2022Lapse of the patent in a contracting state
New state(s): MK
published on 10.08.2022  [2022/32]
Applicant(s)For all designated states
AES Global Holdings, Pte. Ltd.
80 Robinson Road
02-00
Singapore 068898.3 / SG
[2019/28]
Former [2017/28]For all designated states
Advanced Energy Industries, Inc.
1625 Sharp Point Drive
Fort Collins, CO 80525 / US
Inventor(s)01 / CHRISTIE, David
1300 Twin Oak Court
Fort Collins, CO 80525 / US
02 / LARSON, Skip, B.
2219 Wakefield Drive
Fort Collins, CO 80526 / US
 [2017/28]
Representative(s)Gill, David Alan
WP Thompson
138 Fetter Lane
London EC4A 1BT / GB
[2017/28]
Application number, filing date16831032.415.07.2016
[2017/28]
WO2016US42389
Priority number, dateUS20151480908424.07.2015         Original published format: US201514809084
[2017/28]
Filing languageEN
Procedural languageEN
PublicationType: A1 Application with search report
No.:WO2017019323
Date:02.02.2017
Language:EN
[2017/05]
Type: A1 Application with search report 
No.:EP3189175
Date:12.07.2017
Language:EN
The application published by WIPO in one of the EPO official languages on 02.02.2017 takes the place of the publication of the European patent application.
[2017/28]
Type: B1 Patent specification 
No.:EP3189175
Date:20.02.2019
Language:EN
[2019/08]
Search report(s)International search report - published on:AU02.02.2017
(Supplementary) European search report - dispatched on:EP20.02.2018
ClassificationIPC:C23C14/35, H01J37/32, G01R17/02, H01J37/34
[2018/12]
CPC:
H01J37/3476 (EP,US); C23C14/3485 (EP,US); C23C14/3492 (EP,US);
H01J37/3405 (EP,US); H01J37/3438 (EP,US); H01J37/3488 (EP,US)
Former IPC [2017/28]C23C14/35, H01J37/32, G01R17/02
Designated contracting statesAL,   AT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   RS,   SE,   SI,   SK,   SM,   TR [2017/28]
Extension statesBANot yet paid
MENot yet paid
Validation statesMANot yet paid
MDNot yet paid
TitleGerman:SYSTEME UND VERFAHREN FÜR EINZELMAGNETRONSPUTTERN[2017/28]
English:SYSTEMS AND METHODS FOR SINGLE MAGNETRON SPUTTERING[2017/28]
French:SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE PULVÉRISATION PAR MAGNÉTRON UNIQUE[2017/28]
Entry into regional phase07.04.2017National basic fee paid 
07.04.2017Search fee paid 
07.04.2017Designation fee(s) paid 
07.04.2017Examination fee paid 
Examination procedure07.04.2017Examination requested  [2017/28]
07.04.2017Date on which the examining division has become responsible
21.09.2018Communication of intention to grant the patent
05.10.2018Disapproval of the communication of intention to grant the patent by the applicant or resumption of examination proceedings by the EPO
15.11.2018Communication of intention to grant the patent
02.01.2019Fee for grant paid
02.01.2019Fee for publishing/printing paid
02.01.2019Receipt of the translation of the claim(s)
Opposition(s)21.11.2019No opposition filed within time limit [2020/05]
Fees paidRenewal fee
11.07.2018Renewal fee patent year 03
Opt-out from the exclusive  Tooltip
competence of the Unified
Patent Court
See the Register of the Unified Patent Court for opt-out data
Responsibility for the accuracy, completeness or quality of the data displayed under the link provided lies entirely with the Unified Patent Court.
Lapses during opposition  TooltipHU15.07.2016
AL20.02.2019
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Former [2019/34]FI20.02.2019
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NO20.05.2019
PT20.06.2019
Documents cited:Search[A]US4478700  (CRISS RUSSELL C [US]) [A] 1-15 * the whole document *;
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 [Y]US5897753  (SCHATZ DOUGLAS S [US], et al) [Y] 1-17 * figs. 3-7; col. 7, In 31 to col 9, In 40 *;
 [Y]US2004075060  (LUTEN HENRY A [US], et al) [Y] 1-17 * [0037] *;
 [Y]  - SCHOLL, R. et al., "Redundant Anode Sputtering: A Novel Approach To The Disappearing Anode Problem", Advanced Energy Whitepaper., (20000000), URL: http://www.advanced-energy.com/upload/File/White_Papers/SL-WHITE2-270-01.pdf, (20161006), XP055349642 [Y] 1-17 * fig. 4, page 3, col. 2, third full paragraph to page 4, col. 1, first paragraph, Tables 1 and 2 *
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