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Extrait du Registre européen des brevets

EP Présentation générale: EP1231628

EP1231628 - Procédé pour rendre des surfaces de semiconducteur rugueuses [Cliquez sur ce lien avec le bouton droit de la souris pour le conserver dans vos signets]
StatutLa demande est réputée retirée
Statut actualisé le  03.10.2003
Base de données mise à jour au 04.11.2024
Dernier événement   Tooltip03.10.2003Demande réputée retiréepublié le 19.11.2003  [2003/47]
Demandeur(s)Pour tous les Etats désignés
Infineon Technologies SC300 GmbH & Co. KG
Königsbrücker Strasse 180
01099 Dresden / DE
[2002/33]
Inventeur(s)01 / Storbeck, Olaf
Nordstrasse 38
01099 Dresden / DE
02 / Kurtenbach, Andreas
Kamenzer Strasse 60
01099 Dresden / DE
03 / Kuerner, Wolfgang
Karl-Marx-Strasse 13
01099 Dresden / DE
 [2002/33]
Mandataire(s)Fischer, Volker, et al
Epping Hermann Fischer
Patentanwaltsgesellschaft mbH
Schlossschmidstrasse 5
80639 München / DE
[N/P]
Précédent [2002/33]Fischer, Volker, Dipl.-Ing., et al
Epping Hermann & Fischer Ridlerstrasse 55
80339 München / DE
Numéro de la demande, date de dépôt01103005.308.02.2001
[2002/33]
Langue de dépôtEN
Langue de la procédureEN
PublicationType: A1 Demande avec rapport de recherche 
N°:EP1231628
Date:14.08.2002
Langue:EN
[2002/33]
Rapport(s) de rechercheRapport (complémentaire) de recherche européenne - envoyé le:EP18.07.2001
ClassificationIPC:H01L21/02, H01L21/8242
[2002/33]
CPC:
H01L28/84 (EP); H01L21/32135 (EP)
Etats contractants désignés(deleted) [2003/19]
Précédent [2002/33]AT,  BE,  CH,  CY,  DE,  DK,  ES,  FI,  FR,  GB,  GR,  IE,  IT,  LI,  LU,  MC,  NL,  PT,  SE,  TR 
TitreAllemand:Methode, die Oberfläche eines Halbleiters aufzurauhen[2002/33]
Anglais:Method for roughening a surface of a semioconductor substrate[2002/33]
Français:Procédé pour rendre des surfaces de semiconducteur rugueuses[2002/33]
Procédure dexamen15.02.2003La demande est réputée retirée, date d'effet juridique  [2003/47]
18.06.2003Envoi dune notification signalant que la demande est réputée retirée, motif: {0}  [2003/47]
Taxes payéesSurtaxe
Surtaxe règle 85bis: taxe nationale de base CBE 1973
25.03.2003AT   M01   Pas encore payé
25.03.2003BE   M01   Pas encore payé
25.03.2003CH   M01   Pas encore payé
25.03.2003CY   M01   Pas encore payé
25.03.2003DE   M01   Pas encore payé
25.03.2003DK   M01   Pas encore payé
25.03.2003ES   M01   Pas encore payé
25.03.2003FI   M01   Pas encore payé
25.03.2003FR   M01   Pas encore payé
25.03.2003GB   M01   Pas encore payé
25.03.2003GR   M01   Pas encore payé
25.03.2003IE   M01   Pas encore payé
25.03.2003IT   M01   Pas encore payé
25.03.2003LU   M01   Pas encore payé
25.03.2003MC   M01   Pas encore payé
25.03.2003NL   M01   Pas encore payé
25.03.2003PT   M01   Pas encore payé
25.03.2003SE   M01   Pas encore payé
25.03.2003TR   M01   Pas encore payé
Surtaxe règle 85ter CBE 1973
25.03.2003M01   Pas encore payé
Surtaxe concernant la taxe annuelle
28.02.200303   M06   Pas encore payé
Dérogation à la compétence  Tooltip
exclusive de la juridiction
unifiée du brevet
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La juridiction unifiée du brevet assume l'entière responsabilité de l'exactitude, de l'exhaustivité et de la qualité des données présentées sous le lien fourni.
Citations:Recherche[A]US6020609  (WU SHYE-LIN [TW]) [A] 1,4* the whole document *;
 [A]US6171955  (CHEN SHIH-CHING [TW]) [A] 1-3,5,6 * the whole document *;
 [X]  - PUTTE VAN DER P ET AL, "SURFACE MORPHOLOGY OF HCI SILICON WAFERS I. GAS PHASE COMPOSITION IN THE SILICON HCI SYSTEM AND SURFACE REACTIONS DURING ETCHING", JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH,NL,NORTH-HOLLAND PUBLISHING CO. AMSTERDAM, (1977), vol. 41, ISSN 0022-0248, pages 133 - 145, XP000577106 [X] 1-3 * the whole document *

DOI:   http://dx.doi.org/10.1016/0022-0248(77)90106-3
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