EP1205574 - Dépot de couches atomiques de Ta2O5 et de diélectriques à coefficient K élevé [Cliquez sur ce lien avec le bouton droit de la souris pour le conserver dans vos signets] | Statut | La demande a été retirée Statut actualisé le 07.02.2003 Base de données mise à jour au 04.11.2024 | Dernier événement Tooltip | 07.02.2003 | Retrait de la demande | publié le 26.03.2003 [2003/13] | Demandeur(s) | Pour tous les Etats désignés Applied Materials, Inc. 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 / US | [N/P] |
Précédent [2002/20] | Pour tous les Etats désignés Applied Materials, Inc. 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 / US | Inventeur(s) | 01 /
Ravi, Jallepally 1655 Betty Court Santa Clara, CA 95051 / US | 02 /
Duboust, Alain 668 Bryan Avenue Sunnyvale, CA 94086 / US | 03 /
Li, Shih-Hung 998 Nr. A La Mesa Terrace Sunnyvale, CA 94086 / US | 04 /
Song, Kevin 2981 Nieman Blvd. Nr. 326 San Jose, CA 95148 / US | 05 /
Majewski, Robert B. 375 Clifford Avenue Nr. 120 Watsonville, CA 95076 / US | 06 /
Chen, Liang-Yuh 1400 Melbourne Street Foster City, CA 94404 / US | 07 /
Carl, Daniel A. 2161 Promezia Court Pleasanton, CA 94566 / US | [2002/28] |
Précédent [2002/20] | 01 /
Ravi, Jallepally 3707 Poinciana Drive, Apt. Nr. 50 Santa Clara, CA 95051 / US | ||
02 /
Duboust, Alain 668 Bryan Avenue Sunnyvale, CA 94086 / US | |||
03 /
Li, Shih-Hung 998 Nr. A La Mesa Terrace Sunnyvale, CA 94086 / US | |||
04 /
Song, Kevin 2981 Nieman Blvd. Nr. 326 San Jose, CA 95148 / US | |||
05 /
Majewski, Robert B. 375 Clifford Avenue Nr. 120 Watsonville, CA 95076 / US | |||
06 /
Chen, Liang-Yuh 1400 Melbourne Street Foster City, CA 94404 / US | |||
07 /
Carl, Daniel A. 2161 Promezia Court Pleasanton, CA 94566 / US | Mandataire(s) | Setna, Rohan P., et al Boult Wade Tennant Verulam Gardens 70 Gray's Inn Road London WC1X 8BT / GB | [N/P] |
Précédent [2002/20] | Setna, Rohan P., et al Boult Wade Tennant Verulam Gardens 70 Gray's Inn Road London WC1X 8BT / GB | Numéro de la demande, date de dépôt | 01309503.9 | 09.11.2001 | [2002/20] | Numéro de priorité, date | US20000712633 | 13.11.2000 Format original publié: US 712633 | [2002/20] | Langue de dépôt | EN | Langue de la procédure | EN | Publication | Type: | A2 Demande sans rapport de recherche | N°: | EP1205574 | Date: | 15.05.2002 | Langue: | EN | [2002/20] | Classification | IPC: | C23C16/40, H01L21/316 | [2002/20] | CPC: |
C23C16/308 (EP);
H01L21/20 (KR);
H01L21/0228 (EP,KR,US);
C23C16/40 (EP);
C23C16/405 (EP);
C23C16/45531 (EP);
| Etats contractants désignés | AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LI, LU, MC, NL, PT, SE, TR [2002/20] | Etats autorisant lextension | AL | Pas encore payé | LT | Pas encore payé | LV | Pas encore payé | MK | Pas encore payé | RO | Pas encore payé | SI | Pas encore payé | Titre | Allemand: | Abscheidung von Atomschichten aus Ta2O5 und aus Dielektrika mit hohem K-Wert | [2002/20] | Anglais: | Atomic layer deposition of Ta205 and high-K dielectrics | [2002/20] | Français: | Dépot de couches atomiques de Ta2O5 et de diélectriques à coefficient K élevé | [2002/20] | Procédure d'examen | 28.01.2003 | Demande retirée par le demandeur [2003/13] |
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