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Extrait du Registre européen des brevets

EP Présentation générale: EP1474825

EP1474825 - PROCEDE ET DISPOSITIF DE FORMATION, EN UNE SEULE ETAPE DE TRAITEMENT, DE COUCHES D'OXYDES DE HAUTE QUALITE DE DIFFERENTES EPAISSEURS. [Cliquez sur ce lien avec le bouton droit de la souris pour le conserver dans vos signets]
StatutLa demande est réputée retirée
Statut actualisé le  07.10.2011
Base de données mise à jour au 04.11.2024
Dernier événement   Tooltip07.10.2011Demande réputée retiréepublié le 09.11.2011  [2011/45]
Demandeur(s)Pour tous les Etats désignés
NXP B.V.
High Tech Campus 60
5656 AG Eindhoven / NL
[2007/31]
Précédent [2004/46]Pour tous les Etats désignés
Koninklijke Philips Electronics N.V.
Groenewoudseweg 1
5621 BA Eindhoven / NL
Inventeur(s)01 / LOO, Josine, J., G., P.
Prof. Holstlaan 6
NL-5656 AA Eindhoven / NL
02 / PONOMAREV, Youri
Prof. Holstlaan 6
NL-5656 AA Eindhoven / NL
03 / SCHAIJK, Robertus, T., F.
Prof. Holstlaan 6
NL-5656 AA Eindhoven / NL
 [2004/46]
Mandataire(s)Schouten, Marcus Maria, et al
NXP B.V.
Intellectual Property & Licensing
High Tech Campus 60
5656 AG Eindhoven / NL
[N/P]
Précédent [2009/44]Schouten, Marcus Maria, et al
NXP B.V. IP & L Department High Tech Campus 32
5656 AE Eindhoven / NL
Précédent [2008/14]van der Veer, Johannis Leendert, et al
NXP Semiconductors Intellectual Property Department High Tech Campus 60
5656 AG Eindhoven / NL
Précédent [2007/01]Pennings, Johannes, et al
NXP Semiconductors Intellectual Property Department High Tech Campus 60
5656 AG Eindhoven / NL
Précédent [2004/46]Eleveld, Koop Jan
Philips Intellectual Property & Standards, P.O. Box 220
5600 AE Eindhoven / NL
Numéro de la demande, date de dépôt03734785.320.01.2003
[2004/46]
WO2003IB00136
Numéro de priorité, dateEP2002007542501.02.2002         Format original publié: EP 02075425
[2004/46]
Langue de dépôtEN
Langue de la procédureEN
PublicationType: A2 Demande sans rapport de recherche
N°:WO03065437
Date:07.08.2003
Langue:EN
[2003/32]
Type: A2 Demande sans rapport de recherche 
N°:EP1474825
Date:10.11.2004
Langue:EN
La demande publiée par l'OMPI le 07.08.2003, dans une des langues officielles de l'OEB, remplace la publication de la demande de brevet européen.
[2004/46]
Rapport(s) de rechercheRapport de recherche internationale - publié le:EP13.11.2003
ClassificationIPC:H01L21/316, H01L21/8247, H01L21/28, H01L21/8234, H01L21/8238, H01L27/102
[2004/46]
CPC:
H01L21/823462 (EP,KR,US); H01L21/225 (KR); H10B41/30 (EP,US);
H01L21/02554 (KR); H01L21/32055 (KR); H01L21/823468 (EP,KR,US);
H01L29/40114 (EP,US); H01L29/66825 (EP,KR,US); H10B41/35 (EP,KR,US);
H10B69/00 (EP,US); H01L21/02238 (EP); H01L21/02255 (EP);
H01L21/31662 (US) (-)
Etats contractants désignésAT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HU,   IE,   IT,   LI,   LU,   MC,   NL,   PT,   SE,   SI,   SK,   TR [2004/46]
Etats autorisant lextensionALPas encore payé
LTPas encore payé
LVPas encore payé
MKPas encore payé
ROPas encore payé
TitreAllemand:EINSTUFIGES VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON OXIDSCHICHTEN HOHER QUALITÄT UND UNTERSCHIEDLICHER DICKE[2004/46]
Anglais:METHOD AND DEVICE TO FORM HIGH QUALITY OXIDE LAYERS OF DIFFERENT THICKNESS IN ONE PROCESSING STEP[2004/46]
Français:PROCEDE ET DISPOSITIF DE FORMATION, EN UNE SEULE ETAPE DE TRAITEMENT, DE COUCHES D'OXYDES DE HAUTE QUALITE DE DIFFERENTES EPAISSEURS.[2004/46]
Entrée dans la phase régionale01.09.2004Taxe nationale de base payée 
01.09.2004Taxe(s) de désignation payée(s) 
01.09.2004Taxe d'examen payée 
Procédure dexamen01.09.2004Requête en examen déposée  [2004/46]
04.01.2011Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M04)
17.05.2011La demande est réputée retirée, date d'effet juridique  [2011/45]
22.06.2011Envoi dune notification signalant que la demande est réputée retirée, motif: {0}  [2011/45]
Demande(s) divisionnaire(s)La date de la première notification de la division d'examen relative à la demande la plus ancienne pour laquelle une notification a été émise est  04.01.2011
Taxes payéesTaxe annuelle
31.01.2005Taxe annuelle Année du brevet 03
31.01.2006Taxe annuelle Année du brevet 04
31.01.2007Taxe annuelle Année du brevet 05
31.01.2008Taxe annuelle Année du brevet 06
02.02.2009Taxe annuelle Année du brevet 07
01.02.2010Taxe annuelle Année du brevet 08
31.01.2011Taxe annuelle Année du brevet 09
Dérogation à la compétence  Tooltip
exclusive de la juridiction
unifiée du brevet
Voir le Registre de la juridiction unifiée du brevet pour les données relatives à la dérogation
La juridiction unifiée du brevet assume l'entière responsabilité de l'exactitude, de l'exhaustivité et de la qualité des données présentées sous le lien fourni.
Cité dansRecherche internationale[XA]JPS56157024  ;
 [A]JPS5662366  ;
 [A]JPS5975654  ;
 [A]EP0465045  (AMERICAN TELEPHONE & TELEGRAPH [US]);
 [XA]US5918116  (CHITTIPEDDI SAILESH [US]);
 [XA]US6274429  (MISRA SUDHANSHU [US]);
 [PXA]US2002127806  (CHEN WEI-WEN [TW])
ExamenUS4210993
 US5208175
 US5970352
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