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EP1930775
Procédure d'examen
Extrait du Registre européen des brevets
EP Présentation générale: EP1930775
| EP1930775 - LIQUIDE DE RINÇAGE POUR LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D"UN MOTIF RÉSISTANT [Cliquez sur ce lien avec le bouton droit de la souris pour le conserver dans vos signets] | Statut | La demande a été retirée Statut actualisé le 20.02.2009 Base de données mise à jour au 04.11.2024 | Dernier événement Tooltip | 20.02.2009 | Retrait de la demande | publié le 25.03.2009 [2009/13] | Demandeur(s) | Pour tous les Etats désignés TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 150, Nakamaruko Nakahara-ku Kawasaki-shi, Kanagawa 211-0012 / JP | [2008/24] | Inventeur(s) | 01 /
SAWADA, Yoshihiro; c/o TOKYO OHKA KOGYO CO. LTD., 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi Kana gawa; 2110012 / JP | 02 /
WAKIYA, Kazumasa; c/o TOKYO OHKA KOGYO CO. LTD., 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi Kanag awa; 2110012 / JP | 03 /
KOSHIYAMA, Jun; c/o TOKYO OHKA KOGYO CO. LTD., 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi Kanagaw a; 2110012 / JP | 04 /
MIYAMOTO, Atsushi; c/o TOKYO OHKA KOGYO CO. LTD., 150, Nakamaruko, Nakahara-ku Kawasaki-shi, Kana gawa; 2110012 / JP | 05 /
TAJIMA, Hidekazu; c/o TOKYO OHKA KOGYO CO. LTD., 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi Kanag awa; 2110012 / JP | [2008/24] | Mandataire(s) | Hayes, Adrian Chetwynd Boult Wade Tennant Verulam Gardens 70 Gray's Inn Road London WC1X 8BT / GB | [N/P] |
| Précédent [2008/24] | Hayes, Adrian Chetwynd Boult Wade Tennant, Verulam Gardens 70 Gray's Inn Road London WC1X 8BT / GB | Numéro de la demande, date de dépôt | 05781041.8 | 29.08.2005 | [2008/24] | WO2005JP15630 | Numéro de priorité, date | JP20040254940 | 01.09.2004 Format original publié: JP 2004254940 | [2008/24] | Langue de dépôt | JA | Langue de la procédure | EN | Publication | Type: | A1 Demande avec rapport de recherche | N°: | WO2006025303 | Date: | 09.03.2006 | Langue: | EN | [2006/10] | Type: | A1 Demande avec rapport de recherche | N°: | EP1930775 | Date: | 11.06.2008 | Langue: | EN | La demande publiée par l'OMPI le 09.03.2006, dans une des langues officielles de l'OEB, remplace la publication de la demande de brevet européen. | [2008/24] | Rapport(s) de recherche | Rapport de recherche internationale - publié le: | JP | 09.03.2006 | Classification | IPC: | G03F7/32, H01L21/027 | [2008/24] | CPC: |
H01L21/0273 (EP,US);
G03F7/32 (EP,KR,US)
| Etats contractants désignés | AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LI, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR [2008/24] | Titre | Allemand: | SPÜLFLÜSSIGKEIT FÜR DIE LITHOGRAPHIE UND VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER RESISTSTRUKTUR | [2008/24] | Anglais: | RINSING LIQUID FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION | [2008/24] | Français: | LIQUIDE DE RINÇAGE POUR LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D"UN MOTIF RÉSISTANT | [2008/24] | Entrée dans la phase régionale | 28.03.2007 | Traduction produite | 28.03.2007 | Taxe nationale de base payée | 28.03.2007 | Taxe de recherche payée | 28.03.2007 | Taxe(s) de désignation payée(s) | 28.03.2007 | Taxe d'examen payée | Procédure d'examen | 28.03.2007 | Requête en examen déposée [2008/24] | 14.05.2008 | Envoi de la notification relative à une perte de droit : Etat(s) désigné(s) AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DK, EE, ES, FI, GB, GR, HU, IE, IS, LT, LU, LV, MC, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR | 04.02.2009 | Demande retirée par le demandeur [2009/13] | Taxes payées | Taxe annuelle | 28.08.2007 | Taxe annuelle Année du brevet 03 | 25.03.2008 | Taxe annuelle Année du brevet 04 |
| Dérogation à la compétence Tooltip exclusive de la juridiction unifiée du brevet | Voir le Registre de la juridiction unifiée du brevet pour les données relatives à la dérogation | ||
| La juridiction unifiée du brevet assume l'entière responsabilité de l'exactitude, de l'exhaustivité et de la qualité des données présentées sous le lien fourni. | Cité dans | Recherche internationale | [Y]JPH11295902 (KAO CORP); | [Y]JPH07335519 (HITACHI LTD); | [Y]JPH07142349 (MITSUBISHI ELECTRIC CORP); | [Y]JP2003107744 (KAO CORP); | [Y]JP2004184648 (CLARIANT JAPAN KK, et al); | [Y]JP2000250229 (NEC CORP); | [Y]JP2002174908 (NIKON CORP) |