blank Aide rapide
blank Actualité maintenance

Dates prévues pour la maintenance

Interruptions régulières:
entre 5 h 00 et 5 h 15 HEC, du lundi au dimanche.

Autres interruptions
Accessibilité

2022.02.11

en savoir plus...
blank Flash info

Flash Info

Nouvelle version du Registre européen des brevets – des informations relatives aux procédures CCP sont disponibles dans le Registre européen des brevets.

2024-07-24

en savoir plus...
blank Liens utiles

Extrait du Registre européen des brevets

EP Présentation générale: EP2267764

EP2267764 - PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PAR PLASMA [Cliquez sur ce lien avec le bouton droit de la souris pour le conserver dans vos signets]
StatutLa demande est réputée retirée
Statut actualisé le  13.01.2017
Base de données mise à jour au 06.11.2024
Dernier événement   Tooltip13.01.2017Demande réputée retiréepublié le 15.02.2017  [2017/07]
Demandeur(s)Pour tous les Etats désignés
ULVAC, INC.
2500 Hagisono
Chigasaki-shi
Kanagawa 253-8543 / JP
[N/P]
Précédent [2010/52]Pour tous les Etats désignés
ULVAC, INC.
2500 Hagisono Chigasaki-shi
Kanagawa 253-8543 / JP
Inventeur(s)01 / MORIKAWA, Yasuhiro
c/o ULVAC INC. Institute for Semiconductor Technologies 1220-1 Suyama
Susono-shi Shizuoka 410-1231 / JP
02 / SUU, Koukou
c/o ULVAC INC. Institute for Semiconductor Technologies 1220-1 Suyama
Susono-shi Shizuoka 410-1231 / JP
03 / MURAYAMA, Takahide
c/o ULVAC INC. Institute for Semiconductor Technologies 1220-1 Suyama
Susono-shi Shizuoka 410-1231 / JP
 [2010/52]
Mandataire(s)D Young & Co LLP
3 Noble Street
London EC2V 7BQ / GB
[N/P]
Précédent [2010/52]Albutt, Anthony John
D Young & Co LLP 120 Holborn
London EC1N 2DY / GB
Numéro de la demande, date de dépôt09718527.605.03.2009
[2010/52]
WO2009JP54205
Numéro de priorité, dateJP2008005762107.03.2008         Format original publié: JP 2008057621
[2010/52]
Langue de dépôtJA
Langue de la procédureEN
PublicationType: A1 Demande avec rapport de recherche
N°:WO2009110567
Date:11.09.2009
Langue:JA
[2009/37]
Type: A1 Demande avec rapport de recherche 
N°:EP2267764
Date:29.12.2010
Langue:EN
[2010/52]
Rapport(s) de rechercheRapport de recherche internationale - publié le:JP11.09.2009
Rapport (complémentaire) de recherche européenne - envoyé le:EP31.03.2011
ClassificationIPC:H01L21/3065
[2010/52]
CPC:
H01J37/34 (EP,US); H01J37/321 (EP,US); H01J37/32146 (EP,US);
H01J37/32449 (EP,US); H01L21/30655 (EP,US); H01J2237/334 (EP,US)
Etats contractants désignésAT,   BE,   BG,   CH,   CY,   CZ,   DE,   DK,   EE,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   HR,   HU,   IE,   IS,   IT,   LI,   LT,   LU,   LV,   MC,   MK,   MT,   NL,   NO,   PL,   PT,   RO,   SE,   SI,   SK,   TR [2010/52]
TitreAllemand:PLASMA-VERARBEITUNGSVERFAHREN[2010/52]
Anglais:PLASMA PROCESSING METHOD[2010/52]
Français:PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PAR PLASMA[2010/52]
Entrée dans la phase régionale05.10.2010Traduction produite 
06.10.2010Taxe nationale de base payée 
06.10.2010Taxe de recherche payée 
06.10.2010Taxe(s) de désignation payée(s) 
06.10.2010Taxe d'examen payée 
Procédure dexamen06.10.2010Requête en examen déposée  [2010/52]
19.10.2011Modification par le demandeur (revendications et/ou déscription)
02.05.2016Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M04)
13.09.2016La demande est réputée retirée, date d'effet juridique  [2017/07]
06.10.2016Envoi dune notification signalant que la demande est réputée retirée, motif: {0}  [2017/07]
Demande(s) divisionnaire(s)La date de la première notification de la division d'examen relative à la demande la plus ancienne pour laquelle une notification a été émise est  02.05.2016
Taxes payéesTaxe annuelle
17.03.2011Taxe annuelle Année du brevet 03
15.03.2012Taxe annuelle Année du brevet 04
15.03.2013Taxe annuelle Année du brevet 05
03.03.2014Taxe annuelle Année du brevet 06
16.03.2015Taxe annuelle Année du brevet 07
04.03.2016Taxe annuelle Année du brevet 08
Dérogation à la compétence  Tooltip
exclusive de la juridiction
unifiée du brevet
Voir le Registre de la juridiction unifiée du brevet pour les données relatives à la dérogation
La juridiction unifiée du brevet assume l'entière responsabilité de l'exactitude, de l'exhaustivité et de la qualité des données présentées sous le lien fourni.
Citations:Recherche[YA]US2002092619  (UCHIDA TAIJIRO [JP]) [Y] 2-4 * abstract * * figures 1-4 * * paragraph [0003] * * paragraph [0005] * * paragraph [0009] - paragraph [0012] * * paragraph [0015] * * paragraph [0042] - paragraph [0045] * * paragraph [0051] * * paragraph [0062] * [A] 1,5-7;
 [A]US2003230985  (UCHIDA TAIJIRO [JP], et al) [A] 1-7 * the whole document *;
 [XDY]EP1793418  (ULVAC INC [JP]) [XD] 1,5-7 * abstract * * paragraph [0031] - paragraph [0038] * * paragraph [0049] * * paragraph [0052] - paragraph [0060] * [Y] 2-4;
 [E]EP2178109  (ULVAC INC [JP]) [E] 1-7* the whole document *
Recherche internationale[Y]WO2006003962  (ULVAC INC [JP], et al);
 [Y]JPH0790632  (ULVAC CORP);
 [Y]JPH0963792  (ULVAC CORP)
ExamenJP2005116780
par le demandeurWO2006003962
L'OEB décline toute responsabilité quant à l’exactitude des données émanant d'administrations tierces. Il ne garantit notamment pas l'exhaustivité, l'actualité ou la pertinence à des fins spécifiques de ces données.