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EP2724197
Procédure d'examen
Extrait du Registre européen des brevets
EP Présentation générale: EP2724197
| EP2724197 - PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE FORMATION DE MOTIFS AU MOYEN D'UNE LITHOGRAPHIE PAR FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES [Cliquez sur ce lien avec le bouton droit de la souris pour le conserver dans vos signets] | Statut | La demande est réputée retirée Statut actualisé le 03.09.2021 Base de données mise à jour au 19.10.2024 | |
| Précédent | La délivrance du brevet est envisagée Statut actualisé le 17.12.2020 | Dernier événement Tooltip | 03.09.2021 | Demande réputée retirée | publié le 06.10.2021 [2021/40] | Demandeur(s) | Pour tous les Etats désignés D2S, Inc. 4040 Moorpark Avenue Suite 250 San Jose, CA 95117 / US | [2014/18] | Inventeur(s) | 01 /
FUJIMURA, Akira 15220 Sobey Road Saratoga, California 95070 / US | 02 /
BORK, Ingo 115 Beacon Street Mountain View, California 94040 / US | [2014/18] | Mandataire(s) | Haseltine Lake Kempner LLP One Portwall Square Portwall Lane Bristol BS1 6BH / GB | [N/P] |
| Précédent [2014/18] | Williams, Lisa Estelle Haseltine Lake LLP Redcliff Quay 120 Redcliff Street Bristol BS1 6HU / GB | Numéro de la demande, date de dépôt | 12804558.0 | 19.06.2012 | WO2012US43042 | Numéro de priorité, date | US201113168953 | 25.06.2011 Format original publié: US201113168953 | [2014/18] | Langue de dépôt | EN | Langue de la procédure | EN | Publication | Type: | A1 Demande avec rapport de recherche | N°: | WO2013003102 | Date: | 03.01.2013 | Langue: | EN | [2013/01] | Type: | A1 Demande avec rapport de recherche | N°: | EP2724197 | Date: | 30.04.2014 | Langue: | EN | La demande publiée par l'OMPI le 03.01.2013, dans une des langues officielles de l'OEB, remplace la publication de la demande de brevet européen. | [2014/18] | Rapport(s) de recherche | Rapport de recherche internationale - publié le: | RU | 03.01.2013 | Rapport (complémentaire) de recherche européenne - envoyé le: | EP | 23.07.2015 | Classification | IPC: | G03F1/20, H01L21/027, B82Y10/00, G03F7/20, H01J37/317, G03F1/78, B82Y40/00 | [2015/35] | CPC: |
H01J37/3174 (EP,US);
G03F7/2037 (US);
B82Y10/00 (EP,US);
B82Y40/00 (EP,US);
G03F1/20 (US);
G03F1/78 (EP,US);
H01L21/027 (US);
H01J2237/31764 (EP,US);
H01J2237/31771 (EP,US);
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| Précédent IPC [2014/18] | G03F1/20, H01L21/027 | Etats contractants désignés | AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LI, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR [2014/18] | Titre | Allemand: | VERFAHREN UND SYSTEM ZUR HERSTELLUNG VON MUSTERN MITHILFE EINER LADUNGSTRÄGERSTRAHL-LITHOGRAPHIE | [2014/18] | Anglais: | METHOD AND SYSTEM FOR FORMING PATTERNS WITH CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY | [2014/18] | Français: | PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE FORMATION DE MOTIFS AU MOYEN D'UNE LITHOGRAPHIE PAR FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES | [2014/18] | Entrée dans la phase régionale | 16.01.2014 | Taxe nationale de base payée | 16.01.2014 | Taxe de recherche payée | 16.01.2014 | Taxe(s) de désignation payée(s) | 16.01.2014 | Taxe d'examen payée | Procédure dexamen | 16.01.2014 | Requête en examen déposée [2014/18] | 19.02.2016 | Modification par le demandeur (revendications et/ou déscription) | 18.12.2020 | Notification relative à l'intention de délivrer le brevet | 29.04.2021 | La demande est réputée retirée, date d'effet juridique [2021/40] | 21.05.2021 | Envoi dune notification signalant que la demande est réputée retirée, motif: {0} [2021/40] | Demande(s) divisionnaire(s) | La date de la première notification de la division d'examen relative à la demande la plus ancienne pour laquelle une notification a été émise est 18.12.2020 | Taxes payées | Taxe annuelle | 30.06.2014 | Taxe annuelle Année du brevet 03 | 29.06.2015 | Taxe annuelle Année du brevet 04 | 30.06.2016 | Taxe annuelle Année du brevet 05 | 29.06.2017 | Taxe annuelle Année du brevet 06 | 27.06.2018 | Taxe annuelle Année du brevet 07 | 26.06.2019 | Taxe annuelle Année du brevet 08 | 29.06.2020 | Taxe annuelle Année du brevet 09 | Surtaxe | Surtaxe concernant la taxe annuelle | 30.06.2021 | 10 M06 Pas encore payé |
| Dérogation à la compétence Tooltip exclusive de la juridiction unifiée du brevet | Voir le Registre de la juridiction unifiée du brevet pour les données relatives à la dérogation | ||
| La juridiction unifiée du brevet assume l'entière responsabilité de l'exactitude, de l'exhaustivité et de la qualité des données présentées sous le lien fourni. | Citations: | Recherche | [X]US2011053093 (HAGIWARA KAZUYUKI [JP], et al) [X] 1-5,10-15 * figures 1-5 * * paragraph [0029] * * paragraph [0032] - paragraph [0037] * * paragraph [0038] * * claims 7-26 *; | [X]EP2302659 (D2S INC [US]) [X] 1-5,10-15 * figures 1-4,7, 8 * * claims 1-19 * * paragraph [0039] - paragraph [0041] * * paragraph [0043] - paragraph [0047] * * paragraph [0052] - paragraph [0055] *; | [A] - HAGIWARA KAZUYUKI ET AL, "Model-based mask data preparation (MB-MDP) for ArF and EUV mask process correction", PHOTOMASK AND NEXT-GENERATION LITHOGRAPHY MASK TECHNOLOGY XVIII, SPIE, 1000 20TH ST. BELLINGHAM WA 98225-6705 USA, (20110429), vol. 8081, no. 1, doi:10.1117/12.898862, pages 1 - 8, XP060015153 [A] 1-15 * the whole document * DOI: http://dx.doi.org/10.1117/12.898862 | [A] - PIERRAT CHRISTOPHE ET AL, "Mask data correction methodology in the context of model-based fracturing and advanced mask models", OPTICAL MICROLITHOGRAPHY XXIV, SPIE, 1000 20TH ST. BELLINGHAM WA 98225-6705 USA, (20110317), vol. 7973, no. 1, doi:10.1117/12.881550, pages 1 - 11, XP060009262 [A] 1-15 * the whole document * DOI: http://dx.doi.org/10.1117/12.881550 | Recherche internationale | [A]US6917048 (FUJIWARA TOMOHARU [JP], et al); | [A]WO2010025032 (D2S INC [US], et al); | [A]US2011045409 (FUJIMURA AKIRA [US]); | [A]US2011053056 (FUJIMURA AKIRA [US], et al); | [A]WO2011025795 (D2S INC [US], et al) | par le demandeur | US2011053093 | EP2302659 |