EP0148470 - Pulvérisation cathodique à magnétron planaire à configuration de champ modifiée [Cliquez sur ce lien avec le bouton droit de la souris pour le conserver dans vos signets] | Statut | Aucune opposition formée dans le délai Statut actualisé le 09.01.1992 Base de données mise à jour au 14.09.2024 | Dernier événement Tooltip | 15.08.2008 | Changement - mandataire | publié le 17.09.2008 [2008/38] | Demandeur(s) | Pour tous les Etats désignés Hitachi, Ltd. 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku Tokyo / JP | [N/P] |
Précédent [1985/29] | Pour tous les Etats désignés HITACHI, LTD. 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100 / JP | Inventeur(s) | 01 /
Kobayashi, Shigeru 31-3, Hanegi-1-chome Setagaya-ku Tokyo / JP | 02 /
Abe, Katsuo 2-12, Take-5-chome Yokosuka-shi / JP | 03 /
Sakata, Masao Fujimiryo, 1545, Yoshidacho Totsuka-ku Yokohama / JP | 04 /
Kasahara, Osamu 8-9, Higashikoigakubo-3-chome Kokubunji-shi / JP | 05 /
Ogishi, Hidetsugu 1018-16, Inumecho Hachioji-shi / JP | [1985/29] | Mandataire(s) | Beetz & Partner mbB Patentanwälte Prinzregentenstraße 54 80538 München / DE | [N/P] |
Précédent [2008/38] | Beetz & Partner Patentanwälte Steinsdorfstrasse 10 80538 München / DE | ||
Précédent [1985/29] | Patentanwälte Beetz - Timpe - Siegfried Schmitt-Fumian - Mayr Steinsdorfstrasse 10 D-80538 München / DE | Numéro de la demande, date de dépôt | 84115772.0 | 19.12.1984 | [1985/29] | Numéro de priorité, date | JP19830239884 | 21.12.1983 Format original publié: JP 23988483 | JP19830243843 | 26.12.1983 Format original publié: JP 24384383 | JP19830243844 | 26.12.1983 Format original publié: JP 24384483 | [1985/29] | Langue de dépôt | EN | Langue de la procédure | EN | Publication | Type: | A2 Demande sans rapport de recherche | N°: | EP0148470 | Date: | 17.07.1985 | Langue: | EN | [1985/29] | Type: | A3 Rapport de recherche | N°: | EP0148470 | Date: | 16.07.1986 | Langue: | EN | [1986/29] | Type: | B1 Fascicule de brevet | N°: | EP0148470 | Date: | 02.08.1989 | Langue: | EN | [1989/31] | Rapport(s) de recherche | Rapport (complémentaire) de recherche européenne - envoyé le: | EP | 29.05.1986 | Classification | IPC: | H01J37/34 | [1985/29] | CPC: |
H01J37/3429 (EP,US);
C23C14/34 (KR);
H01J37/3408 (EP,US);
H01J37/3458 (EP,US)
| Etats contractants désignés | DE, FR, GB [1985/29] | Titre | Allemand: | Planar-Magnetron-Kathodenzerstaubung mit veränderter Feldgestaltung | [1985/29] | Anglais: | Planar magnetron sputtering with modified field configuration | [1985/29] | Français: | Pulvérisation cathodique à magnétron planaire à configuration de champ modifiée | [1985/29] | Procédure d'examen | 21.07.1986 | Requête en examen déposée [1986/38] | 22.01.1988 | Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M06) | 26.07.1988 | Réponse à une notification de la division dexamen | 31.10.1988 | Envoi de la notification relative à l'intention de délivrer le brevet (Accord : Oui) | 27.01.1989 | Notification relative à l'intention de délivrer le brevet | 03.03.1989 | Taxe de délivrance payée | 03.03.1989 | Taxe publication/d‘impression payée | Opposition(s) | 03.05.1990 | Aucune opposition formée dans le délai imparti [1992/09] | Taxes payées | Taxe annuelle | 18.12.1986 | Taxe annuelle Année du brevet 03 | 17.12.1987 | Taxe annuelle Année du brevet 04 | 27.12.1988 | Taxe annuelle Année du brevet 05 |
Dérogation à la compétence Tooltip exclusive de la juridiction unifiée du brevet | Voir le Registre de la juridiction unifiée du brevet pour les données relatives à la dérogation | ||
La juridiction unifiée du brevet assume l'entière responsabilité de l'exactitude, de l'exhaustivité et de la qualité des données présentées sous le lien fourni. | Citations: | Recherche | [AD]EP0070574 (HITACHI LTD [JP]); | [A]US4391697 (MORRISON JR CHARLES F) | Examen | US4265729 | EP0081176 |