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Extrait du Registre européen des brevets

EP Présentation générale: EP0148470

EP0148470 - Pulvérisation cathodique à magnétron planaire à configuration de champ modifiée [Cliquez sur ce lien avec le bouton droit de la souris pour le conserver dans vos signets]
StatutAucune opposition formée dans le délai
Statut actualisé le  09.01.1992
Base de données mise à jour au 14.09.2024
Dernier événement   Tooltip15.08.2008Changement - mandatairepublié le 17.09.2008  [2008/38]
Demandeur(s)Pour tous les Etats désignés
Hitachi, Ltd.
6, Kanda Surugadai 4-chome
Chiyoda-ku
Tokyo / JP
[N/P]
Précédent [1985/29]Pour tous les Etats désignés
HITACHI, LTD.
6, Kanda Surugadai 4-chome
Chiyoda-ku, Tokyo 100 / JP
Inventeur(s)01 / Kobayashi, Shigeru
31-3, Hanegi-1-chome Setagaya-ku
Tokyo / JP
02 / Abe, Katsuo
2-12, Take-5-chome
Yokosuka-shi / JP
03 / Sakata, Masao
Fujimiryo, 1545, Yoshidacho
Totsuka-ku Yokohama / JP
04 / Kasahara, Osamu
8-9, Higashikoigakubo-3-chome
Kokubunji-shi / JP
05 / Ogishi, Hidetsugu
1018-16, Inumecho
Hachioji-shi / JP
[1985/29]
Mandataire(s)Beetz & Partner mbB
Patentanwälte
Prinzregentenstraße 54
80538 München / DE
[N/P]
Précédent [2008/38]Beetz & Partner
Patentanwälte Steinsdorfstrasse 10
80538 München / DE
Précédent [1985/29]Patentanwälte Beetz - Timpe - Siegfried Schmitt-Fumian - Mayr
Steinsdorfstrasse 10
D-80538 München / DE
Numéro de la demande, date de dépôt84115772.019.12.1984
[1985/29]
Numéro de priorité, dateJP1983023988421.12.1983         Format original publié: JP 23988483
JP1983024384326.12.1983         Format original publié: JP 24384383
JP1983024384426.12.1983         Format original publié: JP 24384483
[1985/29]
Langue de dépôtEN
Langue de la procédureEN
PublicationType: A2 Demande sans rapport de recherche 
N°:EP0148470
Date:17.07.1985
Langue:EN
[1985/29]
Type: A3 Rapport de recherche 
N°:EP0148470
Date:16.07.1986
Langue:EN
[1986/29]
Type: B1 Fascicule de brevet 
N°:EP0148470
Date:02.08.1989
Langue:EN
[1989/31]
Rapport(s) de rechercheRapport (complémentaire) de recherche européenne - envoyé le:EP29.05.1986
ClassificationIPC:H01J37/34
[1985/29]
CPC:
H01J37/3429 (EP,US); C23C14/34 (KR); H01J37/3408 (EP,US);
H01J37/3458 (EP,US)
Etats contractants désignésDE,   FR,   GB [1985/29]
TitreAllemand:Planar-Magnetron-Kathodenzerstaubung mit veränderter Feldgestaltung[1985/29]
Anglais:Planar magnetron sputtering with modified field configuration[1985/29]
Français:Pulvérisation cathodique à magnétron planaire à configuration de champ modifiée[1985/29]
Procédure d'examen21.07.1986Requête en examen déposée  [1986/38]
22.01.1988Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M06)
26.07.1988Réponse à une notification de la division dexamen
31.10.1988Envoi de la notification relative à l'intention de délivrer le brevet (Accord : Oui)
27.01.1989Notification relative à l'intention de délivrer le brevet
03.03.1989Taxe de délivrance payée
03.03.1989Taxe publication/d‘impression payée
Opposition(s)03.05.1990Aucune opposition formée dans le délai imparti [1992/09]
Taxes payéesTaxe annuelle
18.12.1986Taxe annuelle Année du brevet 03
17.12.1987Taxe annuelle Année du brevet 04
27.12.1988Taxe annuelle Année du brevet 05
Dérogation à la compétence  Tooltip
exclusive de la juridiction
unifiée du brevet
Voir le Registre de la juridiction unifiée du brevet pour les données relatives à la dérogation
La juridiction unifiée du brevet assume l'entière responsabilité de l'exactitude, de l'exhaustivité et de la qualité des données présentées sous le lien fourni.
Citations:Recherche[AD]EP0070574  (HITACHI LTD [JP]);
 [A]US4391697  (MORRISON JR CHARLES F)
ExamenUS4265729
 EP0081176
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